刻蚀电极机构中的上电极制造技术

刻蚀电极机构中的上电极，包括气体喷孔（1）、安装孔（3），上电极设置成圆台（5），圆台（5）按规律设置有辅助气体分配的沟槽（2），沟槽（2）上等间距设置有气体喷孔（1）。本实用新型专利技术结构简单，操作方便，具有对等离子工作气体的分配功能、具有密封功能、与电场接触的一面具有绝缘特性、耐腐蚀性另一面具有导电性能用于连接1000V正电，提高了加工质量和工作效率，降低了生产成本。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种半导体介质刻蚀机，尤其涉及刻蚀电极机中的上电极。
技术介绍
电介质刻蚀机是半导体芯片加工的关键设备，而电介质刻蚀机中实现晶圆刻蚀芝能的是上、下两个电极组成的电极结构。其中上电极接1000V左右的正电，实现对等离子刻蚀气体的分配和控制功能，下电极与大地连接，不带电荷，处于其中的气体中的分子被上、下两电极间形成高压电场经加速对放置在下电极上的晶圆进行高速轰击，从而产生刻蚀作用。为了实现所述的工作原理，要求上电极具有对等离子工作气体有分配功能、自身的结构在组装时具有密封功能、与电场接触的一面具有绝缘特性另一面具有导电性能用于连接1000V正电。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种具有对等离子工作气体分配功能、具有密封功能、与电场接触的一面具有绝缘特性、耐腐蚀性另一面具有导电性能用于连接1000V正电的刻蚀电极机中的上电极。本技术的目的是这样实现的，刻蚀电极机构中的上电极，包括气体喷孔、安装孔，其特征在于上电极设置成圆台，圆台按规律设置有辅助气体分配的沟槽，沟槽上等间距设置有气体喷孔。本技术所述的圆台下底设置有高平面度和高表面光洁度。本技术结构简单，操作方便，具有对等离子工作本文档来自技高网...

【技术保护点】
刻蚀电极机构中的上电极，包括气体喷孔（1）、安装孔（3），其特征在于：上电极设置成圆台（5），圆台（5）按规律设置有辅助气体分配的沟槽（2），沟槽（2）上等间距设置有气体喷孔（1）。

【技术特征摘要】
1.刻蚀电极机构中的上电极，包括气体喷孔(I)、安装孔(3)，其特征在于上电极设置成圆台(5)，圆台(5)按规律设置有辅助气体分配的沟槽(2)，沟槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：游利，
申请(专利权)人：靖江先锋半导体科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：