【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及聚合物驻极体薄膜的构造方法以及由该方法获得的聚合物驻极体薄膜。更具体地，本专利技术涉及聚合物驻极体薄膜的拓扑和电纳米构造方法以及由该方法获得的聚合物驻极体薄膜。根据本专利技术的方法可以被称为“电纳米印刷”方法。
技术介绍
在本文中“拓扑”涉及表面的浮凸部。在本文中“聚合物驻极体”指的是在撤去电场之后的至少一段确定的时间内，例如几小时至几个月，能够保持由所述电场感应的电极性的所有聚合物材料。在本文中，“纳米图案”指的是至少一个尺寸在I至IOOOnm的所有凹陷或浮凸拓扑图案。在本文中，“模具”指的是能够在材料中形成拓扑图案(凹陷或浮凸)的所有模子(matrice)或所有工具。已知的纳米平版印刷技术能够在聚合物材料的薄膜中形成凹陷图案。特别是，US2004/0036201描述了一种通过纳米印刷的平版印刷技术，其中借助静电力将具有浮凸图案的模具施加在被布置在基体上的聚合物材料薄层上，以便将模具的阴图案转印到聚合物材料层中。所获得的产品不具有特定的静电荷空间分布。还已知一种电“微接触印刷”缓冲技术，涉及使软材料的缓冲件和包括浮凸图案的导体与驻极体材料的平表面...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：L·雷西耶，E·帕洛，
申请(专利权)人：图卢兹国立应用科学学院，国立科学研究中心，
类型：
国别省市：
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