【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造领域，特别涉及一种光阻瓶安全防护器。
技术介绍
光阻(又名光刻胶)是集成电路行业不可或缺的原料，光阻是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。光阻通常用于光刻工艺，具体地，光阻经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得光阻的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像。光阻主要是以液态形式存放于光阻瓶内。请参考图1，图I为放置有光阻的光阻瓶示意图，其中光阻瓶包括瓶体10 ;密封所述瓶体10的密封盖11 ;盛放光阻的瓶胆12 ;贯穿密封盖11并与瓶体10贯通的进气管道13，所述进气管道13用于向瓶体10内通入气体，给·予瓶胆12施加压力，使得瓶胆12向光阻设备输出光阻；贯穿密封盖11并与瓶胆12连通通的光阻输出管道14,所述光阻输出管道14在外部压力下将瓶胆12内的光阻向光阻设备输出，且所述光阻输出管道14深入瓶体10底部。在光刻工艺中，通常通过进气管道13向瓶体10内通入气体输入氮气或者氩气，在气体产生的压力下，光阻通过光阻输出管道14输出，直至光阻瓶内光阻用完。光阻瓶内的...
【技术保护点】
一种光阻瓶安全防护器，其特征在于，包括：配置于光阻瓶外部的遮挡部，所述遮挡部适于遮挡从光阻瓶内溅射出的光阻。
【技术特征摘要】
1.一种光阻瓶安全防护器，其特征在于，包括 配置于光阻瓶外部的遮挡部，所述遮挡部适于遮挡从光阻瓶内溅射出的光阻。2.如权利要求I所述光阻瓶安全防护器，其特征在于，所述遮挡部形状为伞状、弧面状、平面状或帽状。3.如权利要求I所述光阻瓶安全防护器，其特征在于，8Xπ XI2〉遮挡部面积>4X Xr2，其中I为光阻输出管道的长度，为光阻瓶的半径。4.如权利要求2所述光阻瓶安全防护器，其特征在于，当所述遮挡部为伞状时，伞状遮挡部与水平面的夹角Θ的范围为5° < Θ <35°。5.如权利要求I所述光阻瓶安全防护器，其特征在于，所述遮挡部的材料为塑料、玻璃或耐腐蚀金属。6.如权利要求I所述光阻瓶安全防护器，其特征在于，还包括与遮挡部连接的承接部，所述承接部用于承接光阻瓶内飞溅出的光阻以及承接遮...
【专利技术属性】
技术研发人员：程蒙，韩新田，李纯阳，傅钰，
申请(专利权)人：上海宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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