【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种镀膜装置，具体是一种低温离子镀膜装置。
技术介绍
物理气相沉积(PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将 材料源一固体表面气化成气体原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有特殊功能薄膜的技术。PVD分为真空蒸发镀、溅射镀膜和离子镀。真空蒸发镀分为电阻蒸发、电子束蒸发、高频感应加热蒸发等；溅射镀膜分为直流溅射、射频溅射、脉冲溅射等；离子镀分为阴极电弧离子、空心阴极离子等。真空蒸镀是将镀料在真空中加热、蒸发，使蒸发的原子或原子团在温度较低的基体上凝结，形成薄膜。溅射镀膜是在一定氩气的真空条件下，采用辉光放电技术，将氩气电离产生氩离子，氩离子在电场力的作用下加速轰击阴极，使阴极上的镀料被溅射下来，沉积到基体表面形成薄膜。离子镀是指在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，将蒸发物或其反应物沉积在基片上。目前国内各款式的多弧真空镀膜机、磁控真空镀膜机；多弧、磁控复合真空镀膜机、电阻蒸发真空镀膜机以及电子束蒸发真空镀膜机等，前四种机型基本上都是转架轰击结构，后一种机...
【技术保护点】
一种低温离子镀膜装置，包括真空室（1）、工件转架(2)和蒸发源（3），工作转架（2）和蒸发源（3）均设置在真空室（1）内，其特征在于：在真空室（1）内还设有离子装置（4），该离子装置（4）设置在工件转架（2）的中部位置，蒸发源（3）设置在真空室（1）内的周边位置上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陆世德，
申请(专利权)人：肇庆市同力真空科技有限公司，陆世德，
类型：实用新型
国别省市：
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