多弧离子镀膜机的电弧靶结构制造技术

本实用新型专利技术涉及离子镀膜设备技术领域，尤其是涉及多弧离子镀膜机的电弧靶结构，包括有靶材、引弧针，靶材为圆柱靶，靶材外周组设有可调屏蔽罩，可调屏蔽罩上设有外螺纹，所述引弧针安装在一活动轴上，引弧针的针尖设置在靶材的前端方向；靶材通过可调屏蔽罩上的外螺纹组装到一固定的外屏蔽罩之中部，且在靶材的后端接触一内部设有冷却水的水套座。本实用新型专利技术通过螺纹旋进旋出即可实现靶材的位置调整，提升靶材的利用率，且靶材为圆柱靶，通用性强，可做成多种金属靶，满足各种生产需要；设有水冷却，达到降温功效，有效防止高温烧坏的现象，提升靶材的使用寿命。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及离子镀膜设备
，尤其是涉及多弧离子镀膜机的电弧靶结构。
技术介绍
随后出现有物理气相沉积(PVD)技术，主要是在真空环境下进行表面处理，物理气相沉积本身分为三种真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，近十年来发展相当快，已经成为当今最先进的表面处理方式之一。真空离子镀膜是通过离子镀膜机上的引弧针触碰靶材产生放电来实现，而现有技术中，离子镀膜机上的靶材安装不便，且位置相对固定，不具有调整，利用率不高；在工作过 程中靶材温度高，易发生烧坏的现象，使用寿命短，影响生产作业。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种多弧离子镀膜机的电弧靶结构，结构简单，靶材位置具有可调性，利用率较高，且具有降温功效，防止高温烧坏现象。为达到上述目的，本技术采用如下技术方案多弧离子镀膜机的电弧靶结构，包括有靶材、引弧针，靶材为圆柱靶，靶材外周组设有可调屏蔽罩，可调屏蔽罩上设有外螺纹，所述引弧针安装在一活动轴上，引弧针的针尖设置在靶材的前端方向；靶材通过可调屏蔽罩上的外螺纹组装到一固定的外屏蔽罩之中部，且在靶材的后端接触一内部设有冷却水的水套座。水套座上还设有一中空螺纹柱，中空螺本文档来自技高网...

【技术保护点】
多弧离子镀膜机的电弧靶结构，包括有靶材（1）、引弧针（2），其特征在于：靶材（1）为圆柱靶，靶材（1）外周组设有可调屏蔽罩（3），可调屏蔽罩（3）上设有外螺纹（31），所述引弧针（2）安装在一活动轴（4）上，引弧针（2）的针尖设置在靶材（1）的前端方向；靶材（1）通过可调屏蔽罩（3）上的外螺纹（31）组装到一固定的外屏蔽罩（5）之中部，且在靶材（1）的后端接触一内部设有冷却水的水套座（6）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵铭，
申请(专利权)人：广东友通工业有限公司，
类型：实用新型
国别省市：