蒸发源装置及镀膜方法制造方法及图纸

一种蒸发源装置，其包括：坩埚，其用于承装镀材；收容部，其用于收容该坩埚；火焰加热单元，其设置在该坩埚下方用于加热该坩埚以对盛装在该坩埚内的镀材进行预融；驱动单元，其用于在该火焰加热单元进行加热时驱动该坩埚在该收容部内进行翻转，以使承装在该坩埚内的镀材均匀受热；以及电子束发射源，其用于发射电子束以对预融完成的镀材进行打击使其蒸发。与现有技术相比，本发明专利技术所提供的该蒸发源装置采用了火焰加热单元与电子束发射源的电子束打击相结合的方式来蒸发镀材，避免了采用电子束来对镀材进行预融过程中所产生喷药等不良因素的发生。本发明专利技术还涉及一种使用上述蒸发源装置的镀膜方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，尤其涉及一种在离子辅助蒸镀系统或者电子束蒸镀系统中使用的。
技术介绍
一般在离子辅助蒸镀(IAD)的系统或者电子束蒸镀系统中是将预镀材料(颗粒状)放入金属坩锅内，并经由高电子束打击坩锅内的镀材表面，使之受热熔融(预融)后经 冷却并形成平整光滑表面，以供后续真空镀膜使用。然而，由于电子束瞬间产生的能量太高，当对特定镀材(如二氧化硅)进行打击预融时，由于二氧化硅的熔点温度接近于其蒸发温度，所以当二氧化硅熔化成液态的同时也会由于电子束瞬间的高温而部分蒸发成气体，变成气体的部份就会在镀材表面留下孔隙，从而造成熔融后的镀材表面不致密，影响后续镀膜效果。另外用电子束对高折射率镀材(例如Ti02)进行预融时，会产生刺眼的强光，当观察者要透过窗口玻璃观察融药状况时就会造成眼睛刺激，使眼疾(如青光眼)的机会增加。并且，电子束因为为定点打击镀材，常会因为温度变化太快而发生喷药的情况，这样就会导致有镀材粉粒混合在空气中而影响腔体的洁净度，当对该腔体进行抽真空时，混合在空气中的镀材粉粒可能会损坏抽真空泵。
技术实现思路
有鉴于此，提供一种能够解决上述问题的实为必要。一种蒸发源装置，其包括坩埚，其用于承装镀材；收容部，其用于收容该坩埚；火焰加热单元，其设置在该坩埚下方用于对盛装在该坩埚内的镀材进行预融；驱动单元，其用于驱动该坩埚在该收容部内进行翻转以使镀材均匀受热；以及电子束发射源，其用于发射电子束以对镀材进行打击使其蒸发。一种镀膜方法，其包括如下步骤提供一个如上所述的蒸发源装置；将镀材放置于该坩埚内；启动该火焰加热单元对该镀材进行加热预融；启动该驱动单元以驱动该坩埚在该收容部内翻转以使该镀材均匀受热；启动该电子束发射源发射电子束对预融完成的镀材进行打击以蒸发镀材。与现有技术相比，本专利技术所提供的该采用了火焰加热单元与电子束发射源的电子束打击相结合的方式来蒸发镀材。由于火焰加热单元的能量可控，避免了由于瞬间高温而导致镀材蒸发的情况发生，并且采用火焰加热单元对镀材进行加热预融还可以避免镀材在预融过程中发出刺眼光芒，有利于操作者观察镀材的预融状况，降低了操作者眼睛受伤的机率，另外，采用火焰加热单元对镀材进行预融也完全避免了镀材在预融过程中所发生的喷药的情况，保证了镀膜腔体的洁净度。附图说明图I是本专利技术实施方式所提供的蒸发源装置的结构示意图。图2是图I所示的蒸发源装置的结构分解示意图。图3是沿图I中III-III线的剖面图。主要元件符号说明本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸发源装置，其包括：坩埚，其用于承装镀材；收容部，其用于收容该坩埚；火焰加热单元，其设置在该坩埚下方用于对盛装在该坩埚内的镀材进行预融；驱动单元，其用于驱动该坩埚在该收容部内进行翻转以使镀材均匀受热；以及电子束发射源，其用于发射电子束对镀材进行打击以蒸发该镀材。

【技术特征摘要】
1.一种蒸发源装置，其包括 坩埚，其用于承装镀材； 收容部，其用于收容该坩埚； 火焰加热单元，其设置在该坩埚下方用于对盛装在该坩埚内的镀材进行预融； 驱动单元，其用于驱动该坩埚在该收容部内进行翻转以使镀材均匀受热；以及 电子束发射源，其用于发射电子束对镀材进行打击以蒸发该镀材。2.如权利要求I所述的蒸发源装置，其特征在于该火焰加热单元为氢氧焰发射装置。3.如权利要求I所述的蒸发源装置，其特征在于该坩埚包括上底面、下底面以及与该上、下底面均连接的第二环形侧壁，该上底面、下底面以及第二环形侧壁共同定义出第二收容腔用于承放镀材，该上底面、下底面中至少有一个底面上开设有多个网孔。4.如权利要求I所述的蒸发源装置，其特征在于该收容部包括一个底面以及与该底面连接的第一环形侧壁，该底面与...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴绍凯，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：