一种多功能真空多弧磁控热蒸发离子镀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及真空离子镀设备技术领域，尤其是一种多功能真空多弧磁控热蒸发离子镀装置。它包括主体、弧源和平面磁控靶，主体内部设置有真空腔，弧源安装于主体侧壁上并穿过主体侧壁置于真空腔内，主体内壁设置有两个相对称的安装槽，平面磁控靶安装于安装槽内，真空腔内部设置有旋转装置，旋转装置周边或中心处垂直安装有圆柱磁控靶和热蒸发源，主体侧壁设置有真空排气窗，真空排气窗的正对面设置有密封门，密封门上开设有观察窗。本实用新型专利技术利用圆柱磁控靶镀一层二氧化硅，在金属表面形成一层透明二氧化硅膜层，利用热蒸发源将氧化物、氟化物蒸发到透明二氧化硅膜层上，以起到防指纹、防污、漓水、防腐的作用，其结构简单，操作方便，具有很强的实用性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空离子镀设备
，尤其是一种多功能真空多弧磁控热蒸发离子镀装置。
技术介绍
众所周知，离子镀在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。目前，现有的离子镀装置在镀制产品后不能防指纹，易在产品上形成指纹与污垢，无漓水功能，影响产品美观。
技术实现思路
针对上述现有技术中存在的不足，本技术的目的在于提供一种具有防指纹、防污垢、漓水、提高了防腐蚀的多功能真空多弧磁控热蒸发离子镀装置。为了实现上述目的，本技术采用如下技术方案：一种多功能真空多弧磁控热蒸发离子镀装置，它包括主体、弧源和平面磁控靶，所述主体内部设置有真空腔，所述弧源安装于主体侧壁上并穿过主体侧壁置于真空腔内，所述主体内壁设置有两个相对称的安装槽，所述平面磁控靶安装于安装槽内，所述真空腔内部设置有旋转装置，所述旋转装置周边或中心处垂直安装有圆柱磁控靶和热蒸发源，所述主体侧壁设置有真空排气窗，所述真空排气窗的正对面设置有密封门，所述密封门上开设有观察窗。优选地，所述旋转装置包括支撑架和转盘，所述转盘安装于主体底部并内置有用于旋转工作的齿轮组，所述支撑架包括固定圆盘和若干个悬挂杆，所述悬挂杆的底端安装于转盘上，所述固定圆盘设置有若干个耳座，所述悬挂杆的顶端与固定圆盘的耳座对接。优选地，所述观察窗前端设置有观察镜头，所述观察镜头依次安装有保护框、透镜框和用于起到遮挡作用的遮挡片。优选地，所述主体底端设置有用于支撑主体的支撑座。由于采用了上述方案，本技术利用圆柱磁控靶和平面磁控靶镀一层二氧化硅，在金属表面形成一层透明二氧化硅膜层，同时，利用热蒸发源将氧化物、氟化物蒸发到透明二氧化硅膜层上，以起到防指纹、防污、漓水、防腐的作用；并且，利用旋转装置进行旋转，使镀制更加均匀，其结构简单，操作方便，具有很强的实用性。附图说明图1是本技术实施例的结构原理示意图；图2是本技术实施例的旋转装置的结构示意图；图3是本技术实施例的立体结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术的实施例进行详细说明，但是本技术可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。如图1至图3所示，本实施例提供的一种多功能真空多弧磁控热蒸发离子镀装置，它包括主体1、弧源3和平面磁控靶21，主体1内部设置有真空腔2，弧源3安装于主体1侧壁上并穿过主体1侧壁置于真空腔2内，主体1内壁设置有两个相对称的安装槽20，平面磁控靶21安装于安装槽20内，真空腔2内部设置有旋转装置6，旋转装置6周边垂直安装有圆柱磁控靶6和热蒸发源4，其中圆柱磁控靶6和热蒸发源4的位置关系可为两种：1、圆柱磁控靶6位于真空腔2中心，热蒸发源4位于真空腔2周边；2、热蒸发源4位于真空腔2中心，圆柱磁控靶5位于真空腔2周边。本实施例的主体1侧壁设置有真空排气窗8，真空排气窗8的正对面设置有密封门7，密封门7上开设有观察窗9。进一步，旋转装置6包括支撑架14和转盘17，转盘17安装于主体1底部并内置有用于旋转工作的齿轮组18，支撑架14包括固定圆盘19和若干个悬挂杆16，悬挂杆16的底端安装于转盘17上，固定圆盘19设置有若干个耳座15，悬挂杆16的顶端与固定圆盘19的耳座15对接。本实施例具体工作时，将需镀制的产品悬挂于悬挂杆16上，随后利用真空排气窗8将真空腔2内部的空气进行排出，使真空腔2成真空状态，此时，弧源3开启工作，利用圆柱磁控靶5和平面磁控靶21镀一层二氧化硅，在金属表面形成一层透明二氧化硅膜层，同时，利用热蒸发源4将氧化物、氟化物蒸发到透明二氧化硅膜层上，从而起到防指纹、防污、漓水、防腐的作用。并且，在镀制产品的过程中，利用旋转装置6的转盘17带动悬挂杆16进行转动，从而使悬挂于悬挂杆16上的产品进行均匀镀制。对于操作人员，可通过观察窗9实时查看镀制情况，并通过所查看到的情况实时对工作进行调整。进一步，本实施例为加强观察窗9的工作效果，特在观察窗9前端设置有观察镜头，观察镜头依次安装有保护框10、透镜框11和用于起到遮挡作用的遮挡片12。此外，为优化系统，本实施例在主体1底端设置有用于支撑主体1的支撑座13。以上仅为本技术的优选实施例，并非因此限制本技术的专利范围，凡是利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的
，均同理包括在本技术的专利保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多功能真空多弧磁控热蒸发离子镀装置，其特征在于：它包括主体、弧源和平面磁控靶，所述主体内部设置有真空腔，所述弧源安装于主体侧壁上并穿过主体侧壁置于真空腔内，所述主体内壁设置有两个相对称的安装槽，所述平面磁控靶安装于安装槽内，所述真空腔内部设置有旋转装置，所述旋转装置周边或中心处垂直安装有圆柱磁控靶和热蒸发源，所述主体侧壁设置有真空排气窗，所述真空排气窗的正对面设置有密封门，所述密封门上开设有观察窗。

【技术特征摘要】
1.一种多功能真空多弧磁控热蒸发离子镀装置，其特征在于：它包括主体、弧源和平面磁控靶，所述主体内部设置有真空腔，所述弧源安装于主体侧壁上并穿过主体侧壁置于真空腔内，所述主体内壁设置有两个相对称的安装槽，所述平面磁控靶安装于安装槽内，所述真空腔内部设置有旋转装置，所述旋转装置周边或中心处垂直安装有圆柱磁控靶和热蒸发源，所述主体侧壁设置有真空排气窗，所述真空排气窗的正对面设置有密封门，所述密封门上开设有观察窗。2.如权利要求1所述的一种多功能真空多弧磁控热蒸发离子镀装置，其特征在于：所述旋转...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘毅，
申请(专利权)人：深圳市傲创源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44