The invention discloses a method for preparing CrN coating on the substrate surface. The method using multi arc ion plating deposition process of CrN coating, CrN coating deposited per a certain thickness, the etching process with argon plasma etching technology, the cycle process of CrN coating by multi interface. Compared with the prior art, the coating prepared by the method has high hardness, high corrosion resistance and abrasion resistance, can be used in chemical production, resource development, marine engineering and other fields, improve the operation stability of parts and equipment in corrosive condition and service life.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于涂层制备
，尤其涉及一种基体表面CrN涂层的制备方法。
技术介绍
工业生产中，设备零部件的表面防护对生产稳定性以及设备的服役寿命具有重要意义。尤其是在高速、高压、腐蚀性、重载等苛刻的工作环境中作业时，对设备零部件的表面防护性能提出了更高的挑战，要求零部件不仅具有较高的硬度、良好的韧性等机械性能，还要具有良好的耐腐蚀、高承载和耐磨损性能。氮化铬(CrN)涂层具有较高的硬度，良好的耐磨性、耐腐蚀性以及化学稳定性等优异性能，被广泛应用于刀具、模具、纺织、汽车制造、海洋装备等领域。采用多弧离子镀技术制备CrN涂层是目前CrN涂层常用的制备方法之一，是将清洗处理后的基体放入多弧离子镀设备真空室并对其施加基体负偏压，选用Cr靶，充入氩气与氮气，在基体表面采用多弧离子镀技术沉积CrN涂层。通过控制氩气流量、氮气流量、基体负偏压、以及沉积时间等参数进行涂层性能调控。探索改进该利用多弧离子镀技术制备CrN涂层的工艺，以进一步提高其耐腐蚀性能以及耐磨损性能，对扩大CrN涂层的应用领域具有重要意义。
技术实现思路
本专利技术对利用多弧离子镀技术制备CrN涂层的工艺提出...
【技术保护点】
一种基体表面CrN涂层的制备方法，采用多弧离子镀技术，将清洗处理后的基体放入多弧离子镀设备的真空室，对基体施加负偏压，选用Cr靶，充入氩气与氮气，然后进行步骤1：开启Cr靶电源，保持氮气充入，在基体表面沉积CrN涂层；其特征是：在步骤1中，待CrN涂层沉积一定时间后，进行步骤2：切断Cr靶电源，切断氮气充入，保持氩气充入，利用氩气等离子体刻蚀CrN涂层表面一定时间；然后，重复步骤1，直到CrN涂层厚度达到所需要求。
【技术特征摘要】
1.一种基体表面CrN涂层的制备方法，采用多弧离子镀技术，将清洗处理后的基体放入多弧离子镀设备的真空室，对基体施加负偏压，选用Cr靶，充入氩气与氮气，然后进行步骤1：开启Cr靶电源，保持氮气充入，在基体表面沉积CrN涂层；其特征是：在步骤1中，待CrN涂层沉积一定时间后，进行步骤2：切断Cr靶电源，切断氮气充入，保持氩气充入，利用氩气等离子体刻蚀CrN涂层表面一定时间；然后，重复步骤1，直到CrN涂层厚度达到所需要求。2.如权利要求1所述的基体表面CrN涂层的制备方法，其特征是：当基体放入真空室后，通入氩气，用氩等离子体轰击清洗基体表面。3.如权利要求1所述的基体表面CrN涂层的制备方法，其特征是：在步骤1之前进行步骤1-1：开启Cr靶电源，切断氮气充入，保持氩气充入，在基体表面沉积Cr过渡层。4.如权利要求3所述的基体表面CrN涂层的制备方法，其特征是：所述的步骤1-1中，氩气流量为300～...
【专利技术属性】
技术研发人员：王永欣，关晓艳，王立平，薛群基，
申请(专利权)人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所，
类型：发明
国别省市：浙江;33
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