用于借助陶瓷靶进行电弧气相沉积的方法技术

技术编号:8165214 阅读:162 留言:0更新日期:2013-01-08 12:10
本发明专利技术涉及一种电弧气相沉积源,其带有导电的陶瓷靶板(1),在靶板的后侧上设置有冷却板(10),其中在要气相沉积的表面(2)上在中央区域中设置有屏蔽装置(3),使得在气相沉积源运行时,电弧的阴极斑点并不到达表面的中央区域(6)中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于借助阴极电弧气相沉积以及导电陶瓷靶来对工件涂层的方法。本专利技术尤其是涉及一种用于涂层设备的源,所述涂层设备用于执行上述方法。本专利技术尤其是涉及一种用于执行上述方法的涂层设备。
技术介绍
已公开的是,通过如下方式来对工件涂层在真空室中在材料源(下面称为靶)上产生高电流一低电压一电弧放电形式的等离子体。要气相沉积的材料在该工艺中作为阴极设置在电压源的负极上。借助点火设备点燃电弧。电弧将阴极在一个或者多个阴极斑点上熔融,电流过渡部集中在所述阴极斑点中。在此,电子主要从阴极拉出。因此为了维持电弧, 始终考虑在相应的阴极表面上进行电子补给。电弧(或者同义地也称为Arc)或多或少随机地在阴极面上移动。出现对小的靶表面区域的极快的加热,由此局部地对材料进行气相沉积。这在金属靶材料的情况下不是问题,因为金属靶材料基本上具有热冲击耐抗性以及导热性,以便无损地承受通过电弧引起的这种点状的热冲击。然而在金属祀的电弧气相沉积的情况下,小滴问题(Drop I et-Prob I emat i k )有着重大的影响通过快速地局部加热金属靶材料,来自于熔融的靶材料的肉眼可见的溅射物被从本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:M莱希塔勒
申请(专利权)人:欧瑞康贸易股份公司特吕巴赫
类型:
国别省市:

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