【技术实现步骤摘要】
本技术属于教学实验演示
，具体涉及一种物理实验演示用溅射镀膜装置。
技术介绍
溅射镀膜被广泛应用在玻璃、陶瓷、半导体等领域。一种现有真空溅射镀膜装置设置有溅射腔体，设置在腔体内的传递辊，设置在传递辊之间并与腔体底部连接的挡板，以及设置在腔体内的阴极靶材。腔体底部作为阳极，在放电气体的撞击作用下，阴极靶材中的原子朝向阳极飞溅出来并沉积在传递辊上的玻璃，以完成玻璃的镀膜加工。现有技术的溅射镀膜装置不适合实验演示用，操作不方便，观察不清楚，给物理实验教学带来了一定的麻烦，因此需要对现有技术进行改进。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种物理实验演示用溅射镀膜装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种物理实验演示用溅射镀膜装置，包括真空室和高频电源，所述真空室顶端中间设有上接线柱，所述真空室下端左侧设有下接线柱，所述高频电源通过导线分别与上接线柱和下接线柱电性连接，所述真空室中间处设有石英罩，所述石英罩通过支架与样品放置台固定连接，所述样品放置台下面设有加热板，所述加热板下面设有绝缘支架，所述下接线柱通过导线与加热板电性连接，所述石英罩内底端设有永磁铁，所述上接线柱通过电极引线与电极电性连接，所述电极设置在石英罩内，所述真空室底端中心处设有增气泵，所述真空室底端右侧设有排气孔，所述真空室顶端设有摄像装置，所述摄像装置与投影屏电性连接。优选的，所述石英罩呈T型。优选的，所述真空室右侧设有投影屏，所述投影屏下面设有底座。优选的，所述摄像装置设置为两组。本技术的技术效果和优点：该物理实验演示用溅射镀膜装置，通过摄像装置可以将实验...
【技术保护点】
一种物理实验演示用溅射镀膜装置，包括真空室（1）和高频电源（4），其特征在于：所述真空室（1）顶端中间设有上接线柱（2），所述真空室（1）下端左侧设有下接线柱（14），所述高频电源（4）通过导线（3）分别与上接线柱（2）和下接线柱（14）电性连接，所述真空室（1）中间处设有石英罩（7），所述石英罩（7）通过支架（10）与样品放置台（11）固定连接，所述样品放置台（11）下面设有加热板（12），所述加热板（12）下面设有绝缘支架（13），所述下接线柱（14）通过导线（3）与加热板（12）电性连接，所述石英罩（7）内底端设有永磁铁（9），所述上接线柱（2）通过电极引线（6）与电极（8）电性连接，所述电极（8）设置在石英罩（7）内，所述真空室（1）底端中心处设有增气泵（15），所述真空室（1）底端右侧设有排气孔（16），所述真空室（1）顶端设有摄像装置（5），所述摄像装置（5）与投影屏（17）电性连接。
【技术特征摘要】
1.一种物理实验演示用溅射镀膜装置，包括真空室（1）和高频电源（4），其特征在于：所述真空室（1）顶端中间设有上接线柱（2），所述真空室（1）下端左侧设有下接线柱（14），所述高频电源（4）通过导线（3）分别与上接线柱（2）和下接线柱（14）电性连接，所述真空室（1）中间处设有石英罩（7），所述石英罩（7）通过支架（10）与样品放置台（11）固定连接，所述样品放置台（11）下面设有加热板（12），所述加热板（12）下面设有绝缘支架（13），所述下接线柱（14）通过导线（3）与加热板（12）电性连接，所述石英罩（7）内底端设有永磁铁（9），所述上接线柱（2）通过电极引线...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵凯文，黄钰荀，廖俊齐，
申请(专利权)人：赵凯文，黄钰荀，廖俊齐，
类型：新型
国别省市：湖南;43
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