基于光热成像的微电子封装工艺质量检测装置及方法制造方法及图纸

技术编号:8270170 阅读:216 留言:0更新日期:2013-01-31 01:56
本发明专利技术公开了一种基于光热成像的微电子封装工艺质量检测装置,包括图像获取装置、工作台、控制装置及数据处理装置;其中图像获取装置包括支架横梁、平动电机、成像探头、光发射器;平动电机固定于横梁的下侧面,成像探头垂直固定于平动电机中的移动块;光发射器通过可调连接件连接至所述移动块,通过调节可调连接件使其发射的光经试样反射后进入成像探头;数据处理装置用于对所述图像获取装置获取的光图像和热图像数据进行处理后获得相关系数和均方差统计系数,并将所述相关系数和均方差统计系数与预设的阈值进行比较,根据比较结果获得工艺质量评估。本发明专利技术可以实现残渣颗粒和空洞识别、材质识别及微孔深度测量,检测评估更可靠。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微电子封装领域,更具体地,涉及一种。
技术介绍
三维微电子封装技术,即立体电子封装技术,是在二维平面电子封装的基础上进一步向空间发展的更高密度电子封装,该技术可以使相应的电子系统功能更多、性能更好、可靠性更高,同时成本更低。其中,硅通孔技术作为三维集成电路中堆叠芯片实现互连的一种新技术解决方案,具有如下显著优点芯片在三维方向的堆叠密度最大、芯片间互连线最短、外形尺寸最小,可以有效地实现三维芯片层叠,制造出结构更复杂、性能更强大、更具成本效率的芯片,成为了目前电子封装技术中最引人注目的一种技术。 但是,受限于特征尺寸、微孔深宽比等方面的制约,在众多的硅通孔技术路线中尚存在诸多有待解决的工艺问题。尤其在工艺流程的多个阶段进行半成品、成品工艺质量检测,对于提高产品的成品率、识别废品并减少后续无用操作、降低生产成本等方面至关重要。类似的问题同样存在于二维倒装芯片封装、晶圆级封装以及基于嵌入主动元件和被动元件的系统级封装。例如,在晶圆上进行隆起铜柱焊盘操作之前需要制作上千的盲孔,这些盲孔的尺寸、深度、孔内残渣都需要测量或检测,以保证后续工艺的顺利进行。专利技术内容针对现有技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于光热成像的图像获取装置,其特征在于,包括支架横梁、平动电机、成像探头、光发射器;平动电机固定于横梁的下侧面,成像探头垂直固定于平动电机中的移动块;光发射器通过可调连接件连接至所述移动块,通过调节可调连接件使其发射的光经试样反射后进入成像探头;所述平动电机中的移动块用于拖动光发射器和成像探头在试样的正上方做径向运动;所述光发射器用于发射光至试样的上表面;所述成像探头用于对试样上表面的反射光进行成像。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘胜戴宜全甘志银王小平
申请(专利权)人:华中科技大学武汉飞恩微电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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