一种晶体硅铸锭用坩埚氮化硅涂层的制作方法技术

技术编号:8266759 阅读:435 留言:0更新日期:2013-01-30 21:55
本发明专利技术公开了一种晶体硅铸锭用坩埚氮化硅涂层的制作方法,采用液相沉积的方法在坩埚内壁的易粘埚区域制得氮化硅涂层后,对该区域氮化硅涂层进行致密化和非浸润性处理,并采用液相沉积的方法在坩埚内壁的其它区域制得氮化硅涂层,最后将氮化硅涂层进行低温烘烤或免烧结处理,获得晶体硅铸锭用坩埚氮化硅涂层。该方法可显著提高氮化硅涂层整体强度,尤其可以提高易粘埚区域涂层的强度及其对硅熔体的非浸润性,可有效避免粘埚现象的发生,避免了氮化硅粉尘的产生,进一步提高了氮化硅粉的有效利用率,降低了生产成本,增强了操作过程中的环境友好性,降低了对人体的伤害;并且由于无需或仅需低温烘烤,减少了能源的浪费缩短了生产周期。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于太阳电池
,具体涉及。
技术介绍
在晶体硅铸锭生产中,氮化硅涂层起到隔绝硅熔体和熔融石英坩埚,从而起到阻止坩埚本体内的杂质向硅料中的扩散并污染硅料,同时保证硅锭与坩埚不发生粘连从而实现顺利脱模的重要作用,因而在晶体硅铸锭过程中氮化硅涂层必不可少。对于晶体硅铸锭而言,氮化硅涂层不同区域所处环境不同,如图I所示,其中硅液线位置为固、液、气三相交界区,此处硅熔体与氮化硅涂层的基体,熔融石英坩埚的反应相对最为强烈,同时此处的氮化硅涂层还受到硅液体波动的侵蚀,并且在硅晶体生长的过程中硅液线逐渐上升,对氮化硅涂层产生一定的物理冲击,因而此处的氮化硅涂层最易剥落, 失效。其中最重要的影响因素为硅熔体与熔融石英坩埚的反应程度,这一反应与此处氮化硅涂层的致密度存在相互影响的关系。因而如何增强这一区域氮化硅涂层的致密度是解决粘埚问题的关键之一。对于常规铸锭通常采用的喷涂烧结法制备氮化硅涂层而言,其弊端实现而易见的在喷涂操作过程中,相对一部分氮化硅粉随排风一起流失,既造成氮化硅粉的浪费又造成环境的污染,而1100°c左右的烧结温度需要大量电能及运行时间,因而亟待改善。目前国内外已见通本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶体硅铸锭用坩埚氮化硅涂层的制作方法,其特征是:采用液相沉积的方法在坩埚内壁的易粘埚区域制得氮化硅涂层后,对该区域氮化硅涂层进行致密化和非浸润性处理,并采用液相沉积的方法在坩埚内壁的其它区域制得氮化硅涂层,最后将氮化硅涂层进行低温烘烤或免烧结处理,获得晶体硅铸锭用坩埚氮化硅涂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄新明尹长浩周海萍钟根香
申请(专利权)人:东海晶澳太阳能科技有限公司南京工业大学
类型:发明
国别省市:

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