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本发明公开了一种晶体硅铸锭用坩埚氮化硅涂层的制作方法，采用液相沉积的方法在坩埚内壁的易粘埚区域制得氮化硅涂层后，对该区域氮化硅涂层进行致密化和非浸润性处理，并采用液相沉积的方法在坩埚内壁的其它区域制得氮化硅涂层，最后将氮化硅涂层进行低温烘烤...
该专利属于东海晶澳太阳能科技有限公司;南京工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过东海晶澳太阳能科技有限公司;南京工业大学授权不得商用。

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