具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备技术方案

本实用新型专利技术公开了一种具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备，包括支架和第一配料系统，第一配料系统包括通过管道相接的第一药箱、第一阀门、药水电磁阀、三通接头和喷嘴，以及通过管道相接的纯水箱、第三阀门和纯水电磁阀；纯水电磁阀通过管道与三通接头相接，喷嘴连接二氧化碳气源；连接第一阀门和药水电磁阀的管道与连接第三阀门和纯水电磁阀的管道之间设有第二管道，第二管道上安装有氮气电磁阀；支架上安装有第二配料系统，第二配料系统包括通过管道相接的第二药箱和第二阀门，第二阀门通过管道与连接第一阀门和药水电磁阀的管道相接。本实用新型专利技术结构简单，设计合理，双配料系统的使得喷涂设备可连续工作，提高了工作效率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种喷涂设备，尤其是涉及一种具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备。
技术介绍
单晶硅石英坩埚是拉制太阳能单晶硅棒的必用容器，为了阻止单晶硅石英坩埚内壁与熔化硅液发生反应影响正常拉晶，采用在石英坩埚内表面均匀喷涂一层氢氧化钡溶液。根据使用该种溶液的工艺要求，需要定量配置溶液，配置好的溶液要在一定的温度下搅拌循环4个小时以上，充分混合均匀才能使用，且必须限时使用，长期使用会失效，造成浪费。现有的喷涂设备，只有一套配料系统，溶液使用完后需要待机重新配制溶液 ，不能连续生产，造成停工，影响生产进度。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述现有技术中的不足，提供一种具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备，其结构简单、设计合理且使用效果好，双配料系统的设置使得喷涂设备可以连续工作，提高了工作效率。为实现上述目的，本技术采用的技术方案是一种具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备，包括支架和安装在支架上的第一配料系统，所述第一配料系统包括通过管道依次相接的第一药箱、第一阀门、药水电磁阀、三通接头和喷嘴，以及通过管道依次相接的纯水箱、第三阀门和纯水电磁阀；所述第一药箱和纯水箱均设置在支架的顶部，所述纯水电磁阀通过管道与三通接头相接，所述喷嘴通过第一管道连接二氧化碳气源，所述第一管道上安装有二氧化碳电磁阀；连接所述第一阀门和药水电磁阀的管道与连接第三阀门和纯水电磁阀的管道之间设置有第二管道，所述第二管道上安装有氮气电磁阀，所述氮气电磁阀通过管道连接氮气气源；其特征在于所述支架上安装有第二配料系统，所述第二配料系统包括通过管道相接的第二药箱和第二阀门，所述第二阀门通过管道与连接第一阀门和药水电磁阀的管道相接。上述的具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备，其特征在于所述第二药箱设置在支架的顶部。上述的具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备，其特征在于所述第一药箱和第二药箱的内部均安装有加热管。上述的具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备，其特征在于所述支架的中部安装有通过压缩空气管道与压缩空气气源连接且用于将第一药箱内部的溶液进行循环的第一隔膜泵，连接所述压缩空气气源和第一隔膜泵的压缩空气管道上安装有第一过滤调压阀。上述的具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备，其特征在于所述支架的中部安装有通过压缩空气管道与压缩空气气源连接且用于将第二药箱内部的溶液进行循环的第二隔膜泵，连接所述压缩空气气源和第二隔膜泵的压缩空气管道上安装有第二过滤调压阀。上述的具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备，其特征在于连接所述氮气气源和氮气电磁阀的管道上安装有第三过滤调压阀。上述的具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备，其特征在于连接所述二氧化碳气源和二氧化碳电磁阀的管道上安装有第四过滤调压阀。上述的具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备，其特征在于所述第一药箱和第二药箱的内部均安装有测温探头。本技术与现有技术相比具有以下优点I、结构简单、设计合理且使用效果好。2、双配料系统的设置使得喷涂设备可以连续工作，提高了工作效率，减少了涂料·浪费率。3、本技术在不增加能耗的前提下，能够连续生产，提高了设备的利用率和工作效率，提高了产能，减少了技术人员的工作量。4、本技术可有效使用在单晶硅石英坩埚生产线喷涂设备中。下面通过附图和实施例，对本技术做进一步的详细描述。附图说明图I为本技术的整体结构示意图。图2为本技术第一配料系统和第二配料系统的关系连接示意图。附图标记说明I 一支架；2—第二过滤调压阀；3—第一过滤调压阀；4一第一阀门；5—第一药箱；6—加热管；7—第二药箱；8—纯水箱；9 一第三过滤调压阀；10—氮气电磁阀；11 一第一隔膜泵；12—第二隔膜泵；13—第四过滤调压阀；14 一二氧化碳电磁阀；15—纯水电磁阀；16—药水电磁阀；17—喷嘴；18—第二阀门；19-1一第一管道；19-2—第二管道；20—二通接头；21 一氣气气源；22—二氧化碳气源；23—第二阀门；24—测温探头。具体实施方式如图I和图2所示，本技术包括支架I和安装在支架I上的第一配料系统，所述第一配料系统包括通过管道依次相接的第一药箱5、第一阀门4、药水电磁阀16、三通接头20和喷嘴17，以及通过管道依次相接的纯水箱8、第三阀门18和纯水电磁阀15 ;所述第一药箱5和纯水箱8均设置在支架I的顶部，所述纯水电磁阀15通过管道与三通接头20相接，所述喷嘴17通过第一管道19-1连接二氧化碳气源22，所述第一管道19-1上安装有二氧化碳电磁阀14 ;连接所述第一阀门4和药水电磁阀16的管道与连接第三阀门18和纯水电磁阀15的管道之间设置有第二管道19-2，所述第二管道19-2上安装有氮气电磁阀10，所述氮气电磁阀10通过管道连接氮气气源21 ;所述支架I上安装有第二配料系统，所述第二配料系统包括通过管道相接的第二药箱7和第二阀门23，所述第二阀门23通过管道与连接第一阀门4和药水电磁阀16的管道相接。如图I所示，所述第二药箱7设置在支架I的顶部。如图I所示，所述第一药箱5和第二药箱7的内部均安装有加热管6，利于溶液搅拌混合。如图I所示，所述支架I的中部安装有通过压缩空气管道与压缩空气气源连接且用于将第一药箱5内部的溶液进行循环的第一隔膜泵11，连接所述压缩空气气源和第一隔膜泵11的压缩空气管道上安装有第一过滤调压阀3。如图I所示，所述支架I的中部安装有通过压缩空气管道与压缩空气气源连接且用于将第二药箱7内部的溶液进行循环的第二隔膜泵12，连接所述压缩空气气源和第二隔 膜泵12的压缩空气管道上安装有第二过滤调压阀2。如图I和图2所示，连接所述氮气气源21和氮气电磁阀10的管道上安装有第三过滤调压阀9。如图I和图2所示，连接所述二氧化碳气源22和二氧化碳电磁阀14的管道上安装有第四过滤调压阀13。如图I所示，所述第一药箱5和第二药箱7的内部均安装有测温探头24，用于实时测量第一药箱5和第二药箱7的内部溶液温度，具体使用时，将测温探头24与显示仪表连接来读数，通常采用K型测温探头。本技术的工作原理为在纯水箱8中注入高纯水，并在第一药箱5中配置好溶液，打开第一隔膜泵11和第一药箱5中的加热管，使得第一药箱5中的溶液在使用过程中不停的进行循环加热，等溶液温度达到45度保持恒温，药液循环4个小时以上才可以开始使用。使用时，首先将第一阀门4打开，将一定量的溶液注入到药水电磁阀16连通的管道中，关闭第一阀门4;同时打开第三阀门18，使得高纯水注入到高纯水管道中，关闭第三阀门18，系统进入工作状态；然后将药水电磁阀16、氮气电磁阀10和二氧化碳电磁阀14同时打开，进行药水喷涂，药水喷涂完成后，纯水电磁阀15、氮气电磁阀10和二氧化碳电磁阀14同时打开，进行纯水喷涂。管道中的药液和高纯水用完后，继续打开相应的阀门，注满管道；如果第一药箱5溶液用完后,关闭第一阀门4,打开第二阀门23,系统继续工作；这样对第一药箱5进行清洗，清洗完成后，第一药箱5可继续配置药水进行循环，同样的方法让第一药箱5和第二药箱7交替使用，系统连续工作。以上所述，仅本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有双配料系统的单晶硅石英坩埚生产用表面喷涂设备，包括支架（1）和安装在支架（1）上的第一配料系统，所述第一配料系统包括通过管道依次相接的第一药箱（5）、第一阀门（4）、药水电磁阀（16）、三通接头（20）和喷嘴（17），以及通过管道依次相接的纯水箱（8）、第三阀门（18）和纯水电磁阀（15）；所述第一药箱（5）和纯水箱（8）均设置在支架（1）的顶部，所述纯水电磁阀（15）通过管道与三通接头（20）相接，所述喷嘴（17）通过第一管道（19？1）连接二氧化碳气源（22），所述第一管道（19？1）上安装有二氧化碳电磁阀（14）；连接所述第一阀门（4）和药水电磁阀（16）的管道与连接第三阀门（18）和纯水电磁阀（15）的管道之间设置有第二管道（19？2），所述第二管道（19？2）上安装有氮气电磁阀（10），所述氮气电磁阀（10）通过管道连接氮气气源（21）；其特征在于：所述支架（1）上安装有第二配料系统，所述第二配料系统包括通过管道相接的第二药箱（7）和第二阀门（23），所述第二阀门（23）通过管道与连接第一阀门（4）和药水电磁阀（16）的管道相接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：南志坚，
申请(专利权)人：西安盛晶坩埚制造有限公司，
类型：实用新型
国别省市：