镀膜件及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种镀膜件，包括基体、形成于基体表面的第一膜层及无色透明的第二膜层；所述基体表面分布有若干第一凸起，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色；该第二膜层主要由Al或Si、O及N三种元素构成。该镀膜件呈现出骨瓷质感的外观。本发明专利技术还提供了所述镀膜件的制造方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，尤其涉及一种具有骨瓷质感的。
技术介绍
现有技术，采用阳极氧化处理、喷砂等方式使电子产品(如手机、PDA等)的壳体呈现出具有凹凸感的外观，并通过喷涂、PVD镀膜等方式于所述壳体表面形成白色的装饰性膜层，以期使所述壳体呈现出凹凸感的外观同时还具有白色的高贵气质。然而，由于经上述处理后的壳体通常呈现出哑光的效果，导致所述壳体无法呈现出如骨瓷般的洁白、细腻、通透、清洁等高贵的视觉或外观效果。
技术实现思路
鉴于此，本专利技术提供一种具有骨瓷质感的镀膜件。另外，本专利技术还提供一种上述镀膜件的制造方法。一种镀膜件，包括基体、形成于基体表面的第一膜层及无色透明的第二膜层；所述基体表面分布有若干第一凸起，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色；该第二膜层主要由Al或Si、0及N三种元素构成。一种镀膜件的制造方法，其包括如下步骤 提供基体； 于所述基体表面形成若干第一凸起； 于所述基体上形成一第一膜层，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色； 采用真空镀膜法，以铝、铝合金、硅或硅合金为靶材，以氧气及氮气为反应气体，在该基体的表面形成一无色透明的第二膜层，该第二膜层主要由Al、O及N三种元素构成或Si、O及N三种元素构成； 对所述第二膜层的表面进行机械抛光处理。由于所述第二膜层为无色透明状，使所述第一膜层表面的第二凸起如同形成于所述第二膜层上，如此使所述镀膜件呈现出凹凸感的外观。更重要的是，所述第一膜层呈现出白色，覆盖于该第一膜层上的该第二膜层具有较高的光泽度和透明度，该二膜层的结合使该镀膜件还呈现出骨瓷质感。附图说明图I是本专利技术一较佳实施例镀膜件的剖视 图2是本专利技术一较佳实施例真空镀膜机的示意图。主要元件符号说明权利要求1.一种镀膜件，包括基体，其特征在于该镀膜件还包括依次形成于基体表面的第一膜层及无色透明的第二膜层；所述基体表面分布有若干第一凸起，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色；该第二膜层主要由Al或Si、O及N三种元素构成。2.如权利要求I所述的镀膜件，其特征在于所述第一膜层通过喷涂或真空镀膜的方式形成。3.如权利要求I或2所述的镀膜件，其特征在于所述第一膜层的色度区域于CIELAB表色系统的L*坐标为85至91, a*坐标为-O. 5至O. 5, b*坐标为-O. 5至O. 5。4.如权利要求I或2所述的镀膜件，其特征在于通过喷涂方式形成的所述第一膜层的厚度为3、μ m。5.如权利要求I或2所述的镀膜件，其特征在于通过真空镀膜方式形成的所述第一膜层的厚度为Hum。6.如权利要求I所述的镀膜件，其特征在于所述第二膜层通过真空镀膜的方式形成。7.如权利要求I或6所述的镀膜件，其特征在于当所述第二膜层主要由Al、0及N三种元素构成时，其中Al的质量百分含量为6(Γ70%，0的质量百分含量为25 28%，N的质量百分含量为2 15% ;当所述第二膜层主要由Si、0及N三种元素构成时，其中Si的质量百分含量为65 75%，O的质量百分含量为17 22%，N的质量百分含量为3 18%。8.如权利要求I或6所述的镀膜件，其特征在于所述第二膜层主要由平均粒径为l(Tl8nm的纳米颗粒组成,该第二膜层的粗糙度Ra为l(T20nm。9.如权利要求I或6所述的镀膜件，其特征在于所述镀膜件于该第二膜层表面的60°角测得的光泽度为85 100，色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为85至91，a*坐标为-O. 5至O. 5，b*坐标为-O. 5至O. 5。10.如权利要求I或6所述的镀膜件，其特征在于所述第二膜层的厚度为2 4μπι。11.一种镀膜件的制造方法，其包括如下步骤 提供基体； 于所述基体表面形成若干第一凸起； 于所述基体上形成一第一膜层，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色； 采用真空镀膜法，以铝、铝合金、硅或硅合金为靶材，以氧气及氮气为反应气体，在该基体的表面形成一无色透明的第二膜层，该第二膜层主要由Al或Si、0及N三种元素构成； 对所述第二膜层的表面进行机械抛光处理。12.如权利要求11所述的镀膜件的制造方法，其特征在于所述第一凸起通过阳极氧化、喷砂、化学蚀刻或激光雕刻的方式形成于所述基体表面。13.如权利要求11所述的镀膜件的制造方法，其特征在于所述第一膜层通过喷涂或真空镀膜的方式形成。14.如权利要求11所述的镀膜件的制造方法，其特征在于用以形成所述第二膜层的革巴材中，招合金祀材中招的质量百分含量为65 80%,娃合金祀材中娃的质量百分含量为65 80%。15.如权利要求11或14所述的镀膜件的制造方法，其特征在于形成所述第二膜层的工艺参数为采用磁控溅射镀膜法，设置铝靶、铝合金靶、硅靶或硅合金靶的功率为8 12kw，氧气的流量为5(T200sccm、氮气的流量为8(T300sccm，以氩气为工作气体，氩气的流量为10(T300SCCm，施加于基体的偏压为-10(T-300V，镀膜温度为2(T200°C，镀膜时间为60 80min。16.如权利要求11所述的镀膜件的制造方法，其特征在于所述机械抛光处理的工艺为采用一机械抛光机，所述抛光机包括一布轮，将含有氧化铝粉末的悬浮状水溶液涂覆在该布轮上，对所述第二膜层的表面进行抛光，抛光的时间为I(Γ15min。全文摘要本专利技术提供一种镀膜件，包括基体、形成于基体表面的第一膜层及无色透明的第二膜层；所述基体表面分布有若干第一凸起，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色；该第二膜层主要由Al或Si、O及N三种元素构成。该镀膜件呈现出骨瓷质感的外观。本专利技术还提供了所述镀膜件的制造方法。文档编号C23C14/35GK102896825SQ201110215440公开日2013年1月30日 申请日期2011年7月29日 优先权日2011年7月29日专利技术者张新倍, 陈正士, 李聪 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜件，包括基体，其特征在于：该镀膜件还包括依次形成于基体表面的第一膜层及无色透明的第二膜层；所述基体表面分布有若干第一凸起，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色；该第二膜层主要由Al或Si、O及N三种元素构成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张新倍，陈正士，李聪，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：