可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及工艺制造技术

本发明专利技术提供一种可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及镀制工艺，该玻自玻璃基板向外的结构层依次为：玻璃/电介质层（1）+复合吸收层（1）+银层（1）+保护层（1）+电介质层（1）+保护层（2）；采用真空磁控溅射镀膜工艺，优点是，将热反射镀膜玻璃可单片使用的特性和低辐射镀膜玻璃优良的光学性能相结合，使得离线低辐射玻璃能够单片使用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种新型的可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及生产工艺。
技术介绍
市场上目前使用的低辐射镀膜玻璃，因其膜层中的功能层银层非常容易被大气中的氧气和水所氧化，失去低辐射的功能，这种玻璃都必须生产成中空玻璃，将镀膜层放置在中空玻璃腔体内使用,才有低辐射功能。这样不仅增加了生产工序,也增加了玻璃幕墙的重量。
技术实现思路
·为解决前述低辐射玻璃存的问题，本专利技术提供一种可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃及工艺。该玻璃的膜层结构，自玻璃基板向外依次为 电介质层(I)、复合吸收层(I)、银层(I)、保护层(I)、电介质层(I)、保护层(2); 其中电介质层(I)为SiNx,膜层厚度为35nm 70nm; 复合吸收层(I)为金属镀层、金属化合物层、金属层的三层复合结构；或金属镀层、金属化合物层二层结构；或金属化合物层、金属层二层结构；其中金属材料为Ti或Ni，或Cr，或Cu,或Zn，或Nb，或Zr,或Sn，或V ;金属化合物为，ZnOx，或ΑΖ0,或SiNx,或SiO2,或SnO2,或TiOx,或ZrO2,或TiNx,或NbOx,或NbNx ;该复合吸收层总厚度为5nnT30本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃，其特征在于：该镀膜玻璃的膜层结构？，自玻璃基板向外依次为：？电介质层（1）、复合吸收层（1）、银层（1）、保护层（1）、电介质层（1）、保护层（2）；其中：电介质层（1）为SiNx，膜层厚度为35nm～70nm;复合吸收层（1）为：金属镀层、金属化合物层、金属层的三层复合结构；或金属镀层、金属化合物镀层二层结构；或金属化合物镀层、金属镀层二层结构；其中金属材料为Ti，或Ni，或Cr，或Cu，或Zn，或Nb，或Zr，或Sn，或V；金属化合物为，ZnOx，或AZO，或SiNx，或SiO2，或SnO2，或TiOx，或ZrO2，或TiNx，或NbOx，或NbNx...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈波，吴斌，孙大海，葛剑君，董华明，
申请(专利权)人：上海耀皮玻璃集团股份有限公司，上海耀皮工程玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：