一种高红外反射镀膜玻璃及其制备方法技术

技术编号:15496863 阅读:241 留言:0更新日期:2017-06-03 17:26
本发明专利技术公开了一种高红外反射镀膜玻璃及其制备方法,包括玻璃基板,其技术方案要点是:所述玻璃基板上依次设有ITO层、Nb

High infrared reflection coating glass and preparation method thereof

The invention discloses a high infrared reflection coating glass and a preparation method thereof, comprising a glass substrate, wherein the technical proposal is that the glass substrate is sequentially provided with a ITO layer and a Nb

【技术实现步骤摘要】
一种高红外反射镀膜玻璃及其制备方法
本专利技术涉及一种镀膜玻璃,具体涉及一种高红外反射镀膜玻璃及其制备方法。
技术介绍
镀膜玻璃具有节能减排及装饰幕墙的双重功效,推出市场后,深受人们喜爱,随着人们对节能需求的不断提高,人们在追求高的透光率的同时,对红外反射率的要求越来越高,需求更高透过率的玻璃。
技术实现思路
本专利技术的一种高红外反射镀膜玻璃,具有较高的可见光透过率和红外反射率,有效阻止热能透过玻璃进入室内。本专利技术另一目的是提供一种高红外反射镀膜玻璃的制备方法。本专利技术是通过以下技术方案实现的:一种高红外反射镀膜玻璃,包括玻璃基板,所述玻璃基板上依次设有ITO层、Nb2O5层、AZO层、Ag层、Ti层、TIOx层和Si3N4层。优选的,所述ITO层为磁控溅射氧化铟锡靶(In2O3:SnO2=90:10(wt%)),交流电源溅射,用Ar气作为溅射气体,气体流量800SCCM,膜厚120~135nm,方阻<15欧。优选的,所述Nb2O5层为磁控溅射铌靶,交流电源反应溅射,用Ar气、O2作为溅射气体,气体流量400SCCM:800SCCM,膜厚20~50nm。优选的,所述AZO层,为磁控溅射掺铝氧化锌靶(ZnO:Al=92:8(wt%)),交流电源反应溅射,用Ar气、O2作为溅射气体,气体流量1000SCCM:40SCCM,膜厚20~50nm。优选的,所述Ag层,磁控溅射Ag层,直流电源溅射,用Ar气作为溅射气体,气体流量500~550SCCM,膜厚8~12nm。优选的,所述Ti层,磁控溅射Ti层,直流电源溅射,用Ar气作为溅射气体,气体流量500~550SCCM,膜厚0.8~2nm。优选的,所述TIOx层,磁控溅射氧化钛靶,交流电源溅射,用Ar气、O2作为溅射气体,气体流量1000SCCM:40SCCM,膜厚20~35nm。优选的,所述Si3N4层,磁控溅射硅铝靶(Si:Al=92:8(wt%)),交流电源溅射,用Ar气、O2作为溅射气体,气体流量400SCCM:600SCCM,膜厚50~85nm。优选的,所述玻璃基板为厚度为4~8mm的浮法玻璃。一种制备绿色基调的低辐射镀膜玻璃的方法,包括以下步骤:A:选择4~8mm玻璃基板,按预定尺寸用切割机进行切割,用清洗机对玻璃基板进行清洗;B:将玻璃基板送入镀膜室磁控溅射ITO层,用交流电源、Ar气作为保护气体,磁控溅射氧化铟锡靶(In2O3:SnO2=90:10(wt%)),用Ar气流量800SCCM,在玻璃基板上溅射120~135nm的ITO层;C:继续磁控溅射Nb2O5层,用交流电源,Ar气、O2作为保护气体,磁控溅射铌靶,用Ar和O2气体流量400SCCM:800SCCM,溅射20~50nm的Nb2O5层;D:继续磁控溅射第一AZO层,用交流电源,Ar气、O2作为保护气体,磁控溅射铝氧化锌靶(ZnO:Al=92:8(wt%)),用Ar和O2气体流量1000SCCM:40SCCM,溅射20~50nm的AZO层;E:继续磁控溅射Ag层,用直流电源,Ar气作为保护气体,磁控溅射,用Ar气体流量500~550SCCM,溅射8~12nm的Ag层;F:继续磁控溅射Ti层,用直流电源,Ar气作为保护气体,磁控溅射,用Ar气体流量500~550SCCM,溅射0.8~2nm的第二Ti层;G:继续磁控溅射TIOx层,用交流电源,Ar气、O2作为保护气体,磁控溅射氧化钛靶,用Ar和O2气体流量1000SCCM:40SCCM,溅射20~35nm的TIOx层;H:继续磁控溅射Si3N4层,用交流电源,Ar气、O2作为保护气体,磁控溅射硅铝靶(Si:Al=92:8(wt%)),用Ar和O2气体流量400SCCM:600SCCM,溅射50~85nm的Si3N4层。与现有技术相比,本专利技术具有如下优点:1、本专利技术的一种高红外反射镀膜玻璃,在红外反射层外制备扩散阻挡层,金属层和介质层间隔设置形成吸收层,在吸收层外制备减反射层,形成具有间隔设置的金属层和介质层的吸收层,其工艺流程简单,靶材成本低,可大规模制备生产,其制成的产品可见光透过率达60%以上,红外反射率99%以上,实现高红外光反射的特点,利于低辐射玻璃的推广使用;2、本专利技术的一种高红外反射镀膜玻璃制备方法,功能膜层依次沉积在玻璃基板上,膜层具有耐候性和耐腐蚀性能优秀、辐射率低、表面电阻小、均匀性好、结合力强的优点。【附图说明】图1是本专利技术结构示意图。【具体实施方式】如附图1所示的一种高红外反射镀膜玻璃,包括玻璃基板1,所述玻璃基板1上依次设有ITO层2、Nb2O5层3、AZO层4、Ag层5、Ti层6、TIOx层7和Si3N4层8。本专利技术的玻璃由一块玻璃基片及多层镀层复合而成,以获得搞红外反射率,可见光透过率达60%以上,红外反射率99%以上,有效隔绝热源透过玻璃进入室内,实现节能的效果。所述ITO层2为磁控溅射氧化铟锡靶In2O3:SnO2=90:10(wt%),交流电源溅射,用Ar气作为溅射气体,气体流量800SCCM,膜厚120~135nm,方阻<15欧。所述Nb2O5层3为磁控溅射铌靶,交流电源反应溅射,用Ar气、O2作为溅射气体,气体流量400SCCM:800SCCM,膜厚20~50nm。该镀层能够提高膜层折射率,从而提高透过率。所述AZO层4,为磁控溅射掺铝氧化锌靶ZnO:Al=92:8(wt%),交流电源反应溅射,用Ar气、O2作为溅射气体,气体流量1000SCCM:40SCCM,膜厚20~50nm。该镀层用来平整银层,并降低面电阻,可进一步降低红外的透过率。所述Ag层5,磁控溅射Ag层,直流电源溅射,用Ar气作为溅射气体,气体流量500~550SCCM,膜厚8~12nm。该镀层用来作为功能层,反射红外线。所述Ti层6,磁控溅射Ti层,直流电源溅射,用Ar气作为溅射气体,气体流量500~550SCCM,膜厚0.8~2nm。该镀层作为阻挡层,防止并减缓银层被氧化。所述TIOx层7,磁控溅射氧化钛靶,交流电源溅射,用Ar气、O2作为溅射气体,气体流量1000SCCM:40SCCM,膜厚20~35nm。该镀层为玻璃提供高折射率,从而实现高的透过率,并且膜层耐磨、耐腐蚀。所述Si3N4层8,磁控溅射硅铝靶Si:Al=92:8(wt%),交流电源溅射,用Ar气、O2作为溅射气体,气体流量400SCCM:600SCCM,膜厚50~85nm。该镀层提供高折射率,从而实现玻璃的高透过率,并使膜层具有较高的机械性能所述玻璃基板1为厚度为4~8mm的浮法玻璃。结合具体实施例,说明本专利技术制备高红外反射镀膜玻璃的方法:实施例1-4一种制备高红外反射镀膜玻璃的方法,包括以下步骤:A:选择玻璃基板,按预定尺寸用切割机进行切割,用清洗机对玻璃基板进行清洗;B:将玻璃基板送入镀膜室内逐层进行磁控溅射,条件如表1所示;表1:如上条件所得的高红外反射镀膜玻璃,按照GB/T2680-94《建筑玻璃可见光透射比、太阳光直接透射比、太阳能总透射比、紫外线投射比及有关窗玻璃参数的测定》对实施例1-4制得的玻璃进行光学性能的测定,测试结果如表2所示:表2:本专利技术的一种高红外反射镀膜玻璃,功能膜层依次沉积在玻璃基板上,膜层具有耐磨性和耐腐蚀性本文档来自技高网...
一种高红外反射镀膜玻璃及其制备方法

【技术保护点】
一种高红外反射镀膜玻璃,其特征在于:包括玻璃基板(1),所述玻璃基板(1)上依次设有ITO层(2)、Nb

【技术特征摘要】
1.一种高红外反射镀膜玻璃,其特征在于:包括玻璃基板(1),所述玻璃基板(1)上依次设有ITO层(2)、Nb2O5层(3)、AZO层(4)、Ag层(5)、Ti层(6)、TIOx层(7)和Si3N4层(8)。2.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃,其特征在于:所述ITO层(2)膜厚120~135nm,方阻<15欧。3.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃,其特征在于:所述Nb2O5层(3)膜厚20~50nm。4.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃,其特征在于:所述AZO层(4)膜厚20~50nm。5.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃,其特征在于:所述Ag层(5)膜厚8~12nm。6.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃,其特征在于:所述Ti层(6)膜厚0.8~2nm。7.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃,其特征在于:所述TIOx层(7)膜厚20~35nm。8.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃,其特征在于:所述Si3N4层(8)膜厚50~85nm。9.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃,其特征在于:所述玻璃基板(1)为厚度为4~8mm的浮法玻璃。10.一种制备高红外反射镀膜玻璃的方法,其特征在于包括以下步骤:A:选择4~8mm玻璃基板,按预定尺寸用切割机进行切割,用清洗机对玻璃基板进行清洗;B:将玻璃基板送入镀膜...

【专利技术属性】
技术研发人员:林改魏佳坤林伟珊王宏志张青红
申请(专利权)人:揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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