一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法，包括玻璃基片和镀膜层，其中镀膜层直接采用扩散系数很低的硅作为材料，且硅的价格较低，本发明专利技术不仅能够在不影响热反射效果的同时大大降低生产成本，也能够使膜层在钢化炉中进行热处理而不使膜层破坏，且保持了原有热工性能，同时将原片也进行了钢化处理，而且生产出来的镀膜玻璃具有很好的隔热功效，同时也能实现异地化后续深加工，且透光可以做到接近零，玻璃面反射在35左右。

Off line toughened zero through high anti reflection coating glass and preparation method thereof

The invention discloses an off-line temperable zero through high heat anti reflection coated glass and preparation method thereof, which comprises a glass substrate and a coating layer, wherein the coating layer with very low diffusivity as silicon material, silicon and the price is low, the invention not only can not affect the heat reflection effect at the same time greatly reduce the production cost, also can make the film heat treatment tempering furnace without making the film damage, and maintain the original thermal performance, at the same time, the original film was tempered, and coated glass produced with good heat insulation effect, but also can realize remote follow-up processing and transmission can be close to zero, the glass surface reflection at around 35.

【技术实现步骤摘要】
一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法
本专利技术涉及玻璃及其制备领域，尤其涉及一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法。
技术介绍
现有普通离线热反射镀膜玻璃由于膜系配置均采用金属材料或金属氧化物材料，成本较高。离线可钢零透高反热反射镀膜玻璃，直接采用硅Si膜层，目前硅Si的成本很低，而且硅Si的化学性质不活泼，有较好的稳定性，针孔密度非常低。磁控溅射沉积的硅Si膜层致密、平整且硬度很高，对可动离子有非常强的阻挡能力，在1200℃时不发生氧化，有较好的抗蚀性，所以，使用硅Si膜层生产的离线可钢零透高反热反射镀膜玻璃，可以在降低成本的同时实现离线可钢零透高反热反射镀膜玻璃耐高温的性能，从而实现远程异地化的切割、磨边、钢化、中空等后续加工，且透光可以做到接近零，玻璃面反射在35左右。
技术实现思路
专利技术目的：为了克服现有技术中存在的离线可钢化镀膜玻璃成本较高的问题，本专利技术提出了一种大幅度降低离线可钢化镀膜玻璃成本，且具有零透光、高反热高反射性能的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法。技术方案：为了解决上述技术问题，本专利技术所采用的技术方案为：一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层的组成原料仅为硅。为了获得最佳的性能，所述玻璃基片的厚度为3-15mm。更进一步的，所述玻璃基片的厚度为6mm。作为本专利技术的进一步改进，所述镀膜层硅的厚度为120-140nm。更进一步的，所述镀膜层硅的厚度为130nm。本专利技术还提出了上述离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：(1)选择3-15mm厚度的玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa,线速度设置为2m/min；(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置高真空磁控溅射镀膜设备的功率为350-380KW，在玻璃基片上溅射一层120-140nm的硅，即得所需离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃。更为优选的，所述步骤(1)中玻璃基片的厚度选择6mm。更进一步的，所述步骤(3)中高真空磁控溅射镀膜设备的功率为370KW。更为优选的，所述步骤(3)中在玻璃基片上溅射的硅的厚度为130nm。有益效果：本专利技术提供的一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法，包括玻璃基片和镀膜层，其中镀膜层直接采用扩散系数很低的硅作为材料，且硅的价格较低，本专利技术不仅能够在不影响热反射效果的同时大大降低生产成本，也能够使膜层在钢化炉中进行热处理而不使膜层破坏，且保持了原有热工性能，同时将原片也进行了钢化处理，而且生产出来的镀膜玻璃具有很好的隔热功效，同时也能实现异地化后续深加工，且透光可以做到接近零，玻璃面反射在35左右。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术作进一步的详细说明：实施例1：一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层的组成原料仅为硅。为了获得最佳的性能，所述玻璃基片的厚度为6mm，所述镀膜层硅的厚度为130nm。上述一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：(1)选择6mm厚度的玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa,线速度设置为2m/min；(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置高真空磁控溅射镀膜设备的功率为370KW，在玻璃基片上溅射一层130nm的硅，即得所需离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃。实施例2：一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层的组成原料仅为硅。为了获得最佳的性能，所述玻璃基片的厚度为5mm，所述镀膜层硅的厚度为120nm。上述一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：(1)选择5mm厚度的玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa,线速度设置为2m/min；(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置高真空磁控溅射镀膜设备的功率为350KW，在玻璃基片上溅射一层120nm的硅，即得所需离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃。实施例3：一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层的组成原料仅为硅。为了获得最佳的性能，所述玻璃基片的厚度为13mm，所述镀膜层硅的厚度为140nm。上述一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：(1)选择13mm厚度的玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa,线速度设置为2m/min；(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置高真空磁控溅射镀膜设备的功率为380KW，在玻璃基片上溅射一层140nm的硅，即得所需离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃。本专利技术一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法，直接采用扩散系数很低的硅作为镀膜层材料，不仅能够在不影响热反射效果的同时大大降低生产成本，也能够使膜层在钢化炉中进行热处理而不使膜层破坏，且保持了原有热工性能，同时将原片也进行了钢化处理，而且生产出来的镀膜玻璃具有很好的隔热功效，同时也能实现异地化后续深加工，且透光可以做到接近零，玻璃面反射在35左右。应当指出，以上具体实施方式仅用于说明本专利技术而不用于限制本专利技术的范围，在阅读了本专利技术之后，本领域技术人员对本专利技术的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层的组成原料仅为硅。

【技术特征摘要】
1.一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层的组成原料仅为硅。2.根据权利要求1所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为3-15mm。3.根据权利要求2所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为6mm。4.根据权利要求1所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，其特征在于：所述镀膜层硅的厚度为120-140nm。5.根据权利要求4所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃，其特征在于：所述镀膜层硅的厚度为130nm。6.如权利要求1所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于包括如下步骤：(1)选择3-15mm厚度的玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄林冲，顾海波，徐庆，周京，陈俊，单志刚，
申请(专利权)人：江苏奥蓝工程玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32