一种用于激光、红外双波段高反射膜的膜系结构及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种用于激光、红外双波段高反射膜的膜系结构及其制备方法。本发明专利技术膜系结构从内到外由12层膜组成，采用金属与介质膜料SiO、Al、YbF3和ZnS四种膜料组合的膜系结构。本发明专利技术的膜系综合了金属反射膜反射带宽，介质反射膜反射率高的特点，膜系对7μm～11μm波段反射率大于95%，对1.064μm反射率大于99%，镀制此类膜系的光学器件可用于激光、红外共光路光学系统的仪器，具有对两波段光高反射率的特点，同时具有较高的激光损伤阈值，对提高光学仪器性能、减小仪器的重量及体积具有重要意义。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学薄膜制造技术，涉及一种用于激光、红外双波段高反射膜的膜系结构，同时还涉及一种该膜系结构的制备方法。
技术介绍
激光具有单色性好、干涉性好、亮度及方向性高等到特点，越来越多地被应用在军事装备和民用领域。激光、红外双波段高反射膜应用于激光、红外“二光合一”的光学系统，普通的双波段反射膜为金属膜，其缺点是激光波段反射率低，激光损伤阈值差
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种能够提高膜层在激光波段的反射率与损伤阈值的用于激光、红外双波段高反射膜的膜系结构。同时，本专利技术的目的还在于提供一种用于激光、红外双波段高反射膜的膜系结构的制备方法。为了实现上述目的，本专利技术的技术方案采用了一种用于激光、红外双波段高反射膜的膜系结构，该膜系从里到外由12层膜组成，采用四种膜料，为周期性对称膜系结构，其厚度为第一层SiO膜，光学厚度60nm ;第二层铝膜，光学厚度200nm ;第三层YbF3膜，光学厚度293nm ;第四层ZnS膜，光学厚度293nm ；自第五层膜起，重复镀制YbF3膜和ZnS膜；3 12层膜的所有奇数层膜料与膜层的光学厚度均相同，所有偶数层膜料与膜层的光学厚度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于激光、红外双波段高反射膜的膜系结构，其特征在于，该膜系从里到外由12层膜组成，采用四种膜料，为周期性对称膜系结构，其厚度为第一层SiO膜，光学厚度60nm；第二层铝膜，光学厚度200nm；第三层YbF3膜，光学厚度293nm；第四层ZnS膜，光学厚度293nm；自第五层膜起，重复镀制YbF3膜和ZnS膜;3～12层膜的所有奇数层膜料与膜层的光学厚度均相同，所有偶数层膜料与膜层的光学厚度均相同。

【技术特征摘要】
1.一种用于激光、红外双波段高反射膜的膜系结构，其特征在于，该膜系从里到外由12层膜组成，采用四种膜料，为周期性对称膜系结构，其厚度为第一层SiO膜，光学厚度60nm ;第二层铝膜，光学厚度200nm ;第三层YbF3膜，光学厚度293nm ;第四层ZnS膜，光学厚度293nm ；自第五层膜起，重复镀制YbF3膜和ZnS膜；3 12层膜的所有奇数层膜料与膜层的光学厚度均相同，所有偶数层膜料与膜层的光学厚度均相同。2.一种如权利要求1所述的用于激光、红外双波段高反射膜的膜系结构的制备方法，其特征在于包括以下步骤 (1)清洁被镀零件； (2)烘烤基底，将被镀零件夹持在夹具上，抽真空到lX10_2Pa时，加热基底到140°C 160°C，保温时间I 2小时； (3)镀制SiO膜，对SiO膜料进行蒸镀，蒸镀时真空度为IX KT2Pa 2X 10_2Pa，蒸发速率为0. 8nm/S 0. 9nm/S,晶体控制的膜层厚度为35nm 40nm ； (4)镀制Al膜，Al膜料在真空度为7X10_4Pa I X 10 ,蒸发速率为3nm/S 4nm/S的条件下进...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘凤玉，
申请(专利权)人：中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所，
类型：发明
国别省市：