一种高透光的低辐射镀膜玻璃制造技术

本申请公开了一种高透光的低辐射镀膜玻璃。本申请的高透光的低辐射镀膜玻璃，由玻璃基板和依序层叠于玻璃基板的至少一个表面的第一介质层、功能层、第二介质层、第三介质层组成；第一介质层为铝掺杂氧化锌膜层，功能层为银膜层，第二介质层为氧化锌膜层，第三介质层为氮化硅膜层。本申请的低辐射镀膜玻璃，通过对多层镀膜的各层进行优化，替换常规的镍铬合金膜系，使得制备的低辐射镀膜玻璃在保障低辐射性能的同时，具备更好的透光率；同时，通过对各层的优化，使得镀膜层与玻璃基板的结合力强，镀膜层致密、均匀，膜层抗氧化、抗划伤能力强；整体上提高了低辐射镀膜玻璃使用性能。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及低辐射镀膜玻璃领域，特别是涉及一种高透光的低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
根据国家标准GB/18915.2-2002定义，低辐射镀膜玻璃又称低辐射玻璃，“Low-E”玻璃，是一种对波长范围4.5um-25um的远红外线具有较高反射比的镀膜玻璃。现有的离线低辐射镀膜玻璃的膜系设计中，一般以镍铬合金作为功能层银层的保护层和光衰减层，这种合金材料对可见光有一定的衰减作用，无法产生超高透的效果，使用由该合金材料制备出来的低辐射镀膜玻璃的单片可见光透过率一般不超过82％，无法制备可见光透过率大于85％的高透光低辐射镀膜玻璃。
技术实现思路
本申请的目的是提供一种结构改进的可见光透过率达到85％甚至更高的高透光的低辐射镀膜玻璃。本申请采用了以下技术方案：本申请的一方面公开了一种高透光的低辐射镀膜玻璃，由玻璃基板和依序层叠于玻璃基板的至少一个表面的第一介质层、功能层、第二介质层、第三介质层组成；第一介质层为铝掺杂氧化锌膜层，功能层为银膜层，第二介质层为氧化锌膜层，第三介质层为氮化硅膜层。需要说明的是，本申请采用特定组合的第一介质层、功能层、第二介质层和第三介质层组成形成的膜系替代镍铬合金膜系，使得制备的低辐射镀膜玻璃在保障低辐射性能的同时，具备更好的透光率，本申请的一种实现方式中低辐射镀膜玻璃的可见光透过率，又称为透光率，都大于85％。需要补充说明的是，根据现有的常规认识，本申请将透光率大于85％的低辐射镀膜玻璃定义为高透光的低辐射镀膜玻璃。优选的，第一介质层的厚度为29.6～46.3nm，功能层的厚度为7.7～11nm，第二介质层的厚度为5.7～19.3nm，第三介质层的厚度为15.8～36.1nm。优选的，玻璃基板为浮法玻璃基板。本申请的另一面公开了本申请的高透光的低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤，步骤S01：对玻璃基板进行表面处理；步骤S02：在经过表面处理的玻璃基板表面依次沉积第一介质层、功能层、第二介质层、第三介质层，形成高透光的低辐射镀膜玻璃。优选的，沉积为磁控溅射沉积。优选的，磁控溅射沉积的溅射真空度为2×10-3mbar～5×10-3mbar。本申请的有益效果在于：本申请的低辐射镀膜玻璃，通过对多层镀膜的各层进行优化，替换常规的镍铬合金膜系，使得制备的低辐射镀膜玻璃在保障低辐射性能的同时，具备更好的透光率；同时，通过对各层的优化，使得镀膜层与玻璃基板的结合力强，镀膜层致密、均匀，膜层抗氧化、抗划伤能力强；整体上提高了低辐射镀膜玻璃使用性能。附图说明图1是本申请实施例中高透光的低辐射镀膜玻璃的结构示意图；图2-4是本申请实施例一的高透光的低辐射镀膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图2为玻璃面反射率的光谱曲线，图3为镀膜面反射率的光谱曲线，图4为可见光透过率；图5-7是本申请实施例二的高透光的低辐射镀膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图5为玻璃面反射率的光谱曲线，图6为镀膜面反射率的光谱曲线，图7为可见光透过率；图8-10是本申请实施例三的高透光的低辐射镀膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图8为玻璃面反射率的光谱曲线，图9为镀膜面反射率的光谱曲线，图10为可见光透过率；图11-13是本申请实施例四的高透光的低辐射镀膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图11为玻璃面反射率的光谱曲线，图12为镀膜面反射率的光谱曲线，图13为可见光透过率；图14-16是本申请实施例五的高透光的低辐射镀膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图14为玻璃面反射率的光谱曲线，图15为镀膜面反射率的光谱曲线，图16为可见光透过率；图17是本申请实施例中高透光低辐射镀膜玻璃的制备方法的流程框图。具体实施方式本申请主要是针对现有的低辐射镀膜玻璃在结构设计上的不足，对镀膜各层进行优化，具体的，本申请的低辐射镀膜玻璃如图1所示，由玻璃基板1和沉积于玻璃基板1表面的镀膜层，镀膜层按照沉积于玻璃上的顺序依序为第一介质层21、功能层22、第二介质层23、第三介质层24。其中，第一介质层21为铝掺杂氧化锌膜层，功能层22为银膜层，第二介质层23为氧化锌膜层，第三介质层24为氮化硅膜层。需要说明的是，本申请的低辐射镀膜玻璃，各层有机结合在一起，替换现有的镍铬合金膜系，其中，第一介质层具有阻止玻璃基板中的Na+向膜层中渗透；对功能层起铺垫作用，使功能层的银膜层在其上可以更好地成膜；增加膜层和玻璃基片之间的吸附力，提高物理和化学性能；控制膜系的光学性能和颜色的作用。功能层即银膜层具有降低辐射率、增强保温或隔热性能、控制膜系的光学性能和颜色的作用。第二介质层具有保护功能层，减少氧化；控制膜系的光学性能和颜色的作用。第三介质层具有保护整个膜层结构、减少氧化、提高物理和化学性能；控制膜系的光学性能和颜色的作用。各层按顺序结合，从而保障了低辐射镀膜玻璃的整体性能，特别是在透光率方面，在本申请的低辐射镀膜玻璃，其透光率均大于85％。相应地，在本申请的高透光的低辐射镀膜玻璃的基础上，本申请还研究并优化了本申请的高透光的低辐射镀膜玻璃的制备方法，具体的，如图17所示，本申请的制备方法包括如下步骤：步骤S01：前处理，对玻璃基板进行表面处理；主要是清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板，将清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8×10-6mbar以上；步骤S02：膜层沉积处理，在经过表面处理的玻璃基板表面依次沉积第一介质层、功能层、第二介质层、第三介质层，形成高透光的低辐射镀膜玻璃。本申请的优选方案中，优选的采用磁控溅射沉积制备各层镀膜，并且，优选的磁控溅射沉积的溅射真空度为2×10-3mbar～5×10-3mbar。并且，在步骤S01中，本申请的实施例具体采用Benteler清洗机对浮法玻璃进行清洗。而磁控溅射沉积具体采用德国冯·阿登那公司生产的磁控溅射镀膜设备，溅射层厚度的调整，使用在线光度计测量膜层颜色参数，据此判断溅射膜层的厚度。在低辐射镀膜玻璃的检测方面，本申请的一种实现方式中，采用浓度为1mol/L的HCl溶液和浓度为1mol/L的NaOH溶液作为浸渍液，按照国家标准《GBT18918.2-2002镀膜玻璃第2部分低辐射镀膜玻璃》，检测本申请的低辐射镀膜玻璃的耐酸性能和耐碱性能。与此同时，还采用台式光度计、研磨机、U4100紫外可见红外分光光度计等测试分析仪器测试获得低辐射镀膜玻璃的玻面反射率、膜面反射率和透过光谱。需要说明的是，在溅射靶材和镀膜的各层结构确定之后，决定产品性能特点的核心部分就是各层的厚度，即通过调整镀膜工艺，控制各层厚度，最终达到不同的效果。本申请的一种优选方案中，设计第一介质层的厚度为29.6～46.3nm，功能层的厚度为7.7～11nm，第二介质层的厚度为5.7～19.3nm，第三介质层的厚度为15.8～36.1nm。下面通过具体实施例结合附图对本申请作进一步详细说明。以下实施例仅对本申请进行进一步说明，不应理解为对本申请的限制。实施例一本例的高透光的低辐射镀膜玻璃，其玻璃基板为6mm的浮法玻璃，第一介质层为32.6nm的铝掺杂氧化锌膜层、功能层为10.9nm的银膜层、第二介质层为9.5nm的氧化锌膜层、第三介质层为28.3nm的氮化硅膜层。本例的高透光的低辐射镀膜玻璃的制备方法如下：步本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高透光的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：由玻璃基板和依序层叠于玻璃基板的至少一个表面的第一介质层、功能层、第二介质层、第三介质层组成；所述第一介质层为铝掺杂氧化锌膜层，所述功能层为银膜层，所述第二介质层为氧化锌膜层，所述第三介质层为氮化硅膜层。

【技术特征摘要】
1.一种高透光的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：由玻璃基板和依序层叠于玻璃基板的至少一个表面的第一介质层、功能层、第二介质层、第三介质层组成；所述第一介质层为铝掺杂氧化锌膜层，所述功能层为银膜层，所述第二介质层为氧化锌膜层，所述第三介质层为氮化硅膜层。2.根据权利要求1所述的低辐...

【专利技术属性】
技术研发人员：董清世，周枫，
申请(专利权)人：信义节能玻璃芜湖有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34