一种GaN基发光二极管及其制造方法技术

技术编号:8162742 阅读:114 留言:0更新日期:2013-01-07 20:18
本发明专利技术公开了一种GaN基发光二极管包括依次层叠的衬底、n型接触层、有源层和p型接触层;其中衬底为蓝宝石衬底,n型接触层为n型AlGaN层,p型接触层为p型GaN层;有源层为AlGaN多量子阱。本发明专利技术还公开了一种GaN基发光二极管的制造方法包括准备并处理蓝宝石衬底,以及在蓝宝石衬底上依次沉积AlN模板层、低温GaN插入层和AlGaN过渡层、n型接触层、有源层、p型电子阻挡层、p型过渡层和p型接触层。采用处理后的蓝宝石晶片作为衬底形成的发光二极管,增大了击穿场强,减少了漏电,增加了导热性,光发射效率更高,可靠性更大。该方法可以明显的减小发光二极管衬底中的晶体缺陷密度,提高发光二极管的性能和寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ー种发光二极管的制造方法。
技术介绍
半导体发光二极管(LED)是ー种由Ga、N、As、P等的化合物制成的ニ极管,当电子与空穴复合时可以发出可见光,可用于制造发光器件,由于其结构简单,体积小,工作电流小,使用方便,成本低,目前已广泛应用于各种光电系统。半导体发光二极管包括衬底以及依次沉积在衬底上的Ρ/N型外延层、有源层和P/N型外延层。衬底作为LED这座大厦的地基,具有重要的作用。蓝宝石是ー种常用的LED衬底,蓝宝石衬底中一般都会包括各种缺陷,例如位错、间隙或空位等,缺陷会引起晶体应变,应变会造成衬底上外延层的品质及性能降低,导致发光二极管的寿命缩短。 多年来,随着半导体技术的发展,经过本领域技术人员的长期研究和实践,形成了较为完善的晶体生长エ艺流程,減少了半导体衬底材料生长过程中形成的缺陷密度。但是,人们还希望得到缺陷密度更低的衬底,制得性能更佳、寿命更长的发光二极管。如何进ー步減少或消除缺陷成为本领域急需解决的问题。
技术实现思路
为了克服现有技术中存在的缺陷,本专利技术提供了ー种GaN基半导体发光二极管的制造方法,该方法可以明显的减小发光二极管衬底中的晶体缺陷密度,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种GaN基发光二极管,包括依次层叠的衬底、n型接触层、有源层和p型接触层;其特征在于,衬底为蓝宝石衬底,n型接触层为n型AlGaN层,p型接触层为p型GaN层;有源层为AlGaN多量子阱。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:虞浩辉周宇杭
申请(专利权)人:江苏威纳德照明科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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