沟槽式MOS晶体管及其制造方法、集成电路技术

本发明专利技术提供了一种沟槽式MOS晶体管及其制造方法、集成电路。根据本发明专利技术的沟槽式MOS晶体管包括：依次形成在衬底正面的外延层、沟道区以及源端，其中多晶硅栅位于沟道区及外延层的沟槽中，在多晶硅栅侧面及底面包围有栅氧化层；并且该沟槽式MOS晶体管还包括形成在衬底背面的漏端；其中，在所述多晶硅栅的与所述沟槽同平面的表面上形成有多晶硅栅金属硅化物层。根据本发明专利技术沟槽式MOS晶体管通过在多晶硅栅表面添加一层多晶硅栅金属硅化物层，有效地降低了栅极结构的电阻，从而降低了功耗，尤其是当沟槽式MOS晶体管被用作功率器件时的功耗。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造领域，更具体地说，本专利技术涉及一种沟槽式MOS晶体管及其制造方法，此外，本专利技术还涉及一种采用了该沟槽式MOS晶 体管的集成电路。
技术介绍
沟槽型MOS (trench M0S)晶体管作为一种新型垂直结构器件，是在VDMOS (垂直双扩散金属-氧化物半导体场效应晶体管)的基础上发展起来的，两者均属于高元胞密度器件。但该结构与前者相比有许多性能优点如更低的导通电阻、低栅漏电荷密度，从而有低的导通和开关损耗及快的开关速度。同时由于沟槽型MOS晶体管的沟道是垂直的，故可进一步提高其沟道密度，减小芯片尺寸。图I是沟槽式MOS晶体管的剖面结构示意图。以沟槽式NMOS功率MOS晶体管为例，该沟槽式MOS晶体管在硅衬底上生长有一层N型外延层4，电子由源端I经沟道区3从衬底流出，漏端从衬底底面的金属层引出。多晶硅栅2位于沟道区3及N型外延层4的沟槽中，在多晶硅栅2侧面及底面包围有栅氧化层，用于将多晶硅栅2隔离。相应地，在现有技术的沟槽式MOS晶体管制造方法中，首先在衬底上形成沟槽，随后在沟槽的内表面上沉积栅极氧化物层，此后在沟槽中沉积栅极多晶硅以形成多晶硅栅，这样就形成了沟槽式MOS晶体管的栅极结构。随后，在形成沟槽式MOS晶体管的栅极结构之后形成阱，之后形成源极。最后，形成接触孔以及位线的硅化物，然后形成金属布线。但是，对于现有技术的沟槽式MOS晶体管，其栅极结构的电阻较大，不适合用于例如作为功率沟槽式MOS晶体管之类的应用情况。因此，希望能够提供一种可以有效降低沟槽式MOS晶体管的栅极结构的电阻大小的技术方案。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术中存在上述缺陷，提供一种能够有效降低沟槽式MOS晶体管的栅极结构的电阻大小的沟槽式MOS晶体管及其制造方法，以及采用了该沟槽式MOS晶体管的集成电路。为了实现上述技术目的，本专利技术的第一方面提出一种沟槽式MOS晶体管，其包括依次形成在衬底正面的外延层、沟道区以及源端，其中多晶硅栅位于沟道区及外延层的沟槽中，在多晶硅栅侧面及底面包围有栅氧化层；并且该沟槽式MOS晶体管还包括形成在衬底背面的漏端；其中，在所述多晶硅栅的与所述沟槽同平面的表面上形成有多晶硅栅金属娃化物层。优选的，所述多晶硅栅金属硅化物层是通过下述步骤形成的首先溅射金属钛，此后进行第一次快速退火，在多晶硅栅表面形成高阻相的金属硅化物，此后去除多晶硅栅区域以外因氧化层阻挡未形成硅化物的金属钛，最后进行第二次快速退火形成低阻相的金属硅化物。优选的，所述沟槽式MOS晶体管被用作功率器件。根据本专利技术的第二方面，提供了一种沟槽式MOS晶体管制造方法，其包括第一步骤提供衬底；第二步骤在衬底上形成沟槽；第三步骤在沟槽的内表面上沉积栅极氧化物层；第四步骤在沟槽中沉积栅极多晶硅以形成多晶硅栅；第五步骤在所述多晶硅栅的与所述沟槽同平面的表面上形成多晶硅栅金属硅化物层；由此形成沟槽式MOS晶体管的栅极结构。优选的，在所述第五步骤中，所述多晶硅栅金属硅化物层是通过下述步骤形成的首先溅射金属钛，此后进行第一次快速退火，在多晶硅栅表面形成高阻相的金属硅化物，此后去除多晶硅栅区域以外因氧化层阻挡未形成硅化物的金属钛，最后进行第二次快速退火形成低阻相的金属硅化物。优选的，所述第一次快速退火的退火温度为600°C -700°C。优选的，所述第二次快速退火的退火温度为750°C _850°C。·优选的，在所述第五步骤中，通过湿法刻蚀来去除金属钛。根据本专利技术的第三方面，提供了一种采用了根据本专利技术的第一方面所述的沟槽式MOS晶体管的集成电路。根据本专利技术，通过在多晶硅栅表面添加一层多晶硅栅金属硅化物层，有效地降低了栅极结构的电阻，从而降低了功耗，尤其是当沟槽式MOS晶体管被用作功率器件时的功耗。附图说明结合附图，并通过参考下面的详细描述，将会更容易地对本专利技术有更完整的理解并且更容易地理解其伴随的优点和特征，其中图I示意性地示出了根据现有技术的沟槽式MOS晶体管的结构。图2示意性地示出了根据本专利技术第一实施例的沟槽式MOS晶体管的结构。图3示意性地示出了根据本专利技术第二实施例的沟槽式MOS晶体管制造方法的流程图。需要说明的是，附图用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。注意，表示结构的附图可能并非按比例绘制。并且，附图中，相同或者类似的元件标有相同或者类似的标号。具体实施例方式为了使本专利技术的内容更加清楚和易懂，下面结合具体实施例和附图对本专利技术的内容进行详细描述。<第一实施例>图2示意性地示出了根据本专利技术第一实施例的沟槽式MOS晶体管的结构。如图2所示，根据本专利技术第一实施例的沟槽式MOS晶体管包括依次形成在衬底正面的外延层4、沟道区3以及源端1，其中多晶硅栅2位于沟道区3及外延层4的沟槽中，在多晶硅栅2侧面及底面包围有栅氧化层5 (用于将多晶硅栅2隔离)；并且该沟槽式MOS晶体管还包括形成在衬底背面的漏端。与现有技术不同的是，在所述多晶硅栅2的与所述沟槽同平面的表面上形成有多晶娃栅金属娃化物层6。根据本专利技术第一实施例的沟槽式MOS晶体管通过在多晶硅栅2表面添加一层多晶硅栅金属硅化物层6，有效地降低了栅极结构的电阻，从而降低了功耗，尤其是当根据本专利技术第一实施例的沟槽式MOS晶体管被用作功率器件时的功耗。优选的，所述多晶硅栅金属硅化物层6是通过下述步骤形成的首先溅射金属钛，此后进行第一次快速退火(例如退火温度为600°C _700°C)，在多晶硅栅表面形成高阻相的金属硅化物，此后去除多晶硅栅区域以外，因氧化层阻挡未形成硅化物的金属钛(例如通过湿法刻蚀来去除金属钛)，最后进行第二次快速退火形成低阻相的金属硅化物(例如退火温度为 7500C -850°C)ο根据本专利技术的另一优选实施例，本专利技术还提供了一种采用了上述沟槽式MOS晶体管的集成电路。〈第二实施例〉 图3示意性地示出了根据本专利技术第二实施例的沟槽式MOS晶体管制造方法的流程图。如图3所示，根据本专利技术第二实施例的沟槽式MOS晶体管制造方法包括第一步骤SI :提供衬底；第二步骤S2 :在衬底上形成沟槽；第三步骤S3 :在沟槽的内表面上沉积栅极氧化物层；第四步骤S4 :在沟槽中沉积栅极多晶硅以形成多晶硅栅；第五步骤S5 :在所述多晶硅栅的与所述沟槽同平面的表面上形成多晶硅栅金属硅化物层；这样就形成了沟槽式MOS晶体管的栅极结构。此后，例如，如图3所示，可随后执行第六步骤S6 :形成阱，并形成源极；以及例如可进一步执行第七步骤S7 :形成接触孔以及位线的硅化物，然后形成金属布线。其中，在所述第五步骤S5中，优选的，所述多晶硅栅金属硅化物层6是通过下述步骤形成的首先溅射金属钛，此后进行第一次快速退火(例如退火温度为600°C -700°C)，在多晶硅栅表面形成高阻相的金属硅化物，此后去除多晶硅栅区域以外，因氧化层阻挡未形成硅化物的金属钛(例如通过湿法刻蚀来去除金属钛)，最后进行第二次快速退火形成低阻相的金属硅化物(例如退火温度为750°C -850°C)ο根据本专利技术第二实施例的沟槽式MOS晶体管制造方法通过在多晶硅栅表面添加一层多晶硅栅金属硅化物层，有效地降低了栅极结构的电阻，从而降低了功耗，尤其是当根据本专利技术第一实施例的沟槽式MOS晶体管被用作功率器件时的功耗。本专利技术虽然已本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沟槽式MOS晶体管，其特征在于包括：依次形成在衬底正面的外延层、沟道区以及源端，其中多晶硅栅位于沟道区及外延层的沟槽中，在多晶硅栅侧面及底面包围有栅氧化层；并且该沟槽式MOS晶体管还包括形成在衬底背面的漏端；其中，在所述多晶硅栅的与所述沟槽同平面的表面上形成有多晶硅栅金属硅化物层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴亚贞，刘宪周，
申请(专利权)人：上海宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：