表面保护薄膜以及粘贴其的光学部件制造技术

本发明专利技术的表面保护薄膜在透明的基底薄膜的一面顺序层叠而设置表面电阻率为1×1013〔Ω/□〕以上的第一粘接剂层和表面电阻率小于1×1013〔Ω/□〕的第二粘接剂层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及粘贴于偏光板、相位差板、用于显示器的透镜薄膜等光学部件(以下，称为光学用薄膜)的表面上的表面保护薄膜。更详细地，本专利技术涉及剥离表面保护薄膜时的剥离静电压低，且防静电性能的经时变化及对被粘着体的污染少的表面保护薄膜以及利用其的光学部件。本专利技术对2011年5月19日申请的日本专利申请第2011-112518号主张优先权，在此援引该内容。
技术介绍
当制造及搬送使用了偏光板、相位差板、用于显示器的透镜薄膜等光学用薄膜的显示器等光学产品时，在该光学用薄膜的表面上粘贴表面保护薄膜，以防止在后续エ艺中， 光学用薄膜的表面附着污物或受损。而且，光学用薄膜的性能检查以及外观检查有时是在粘贴表面保护薄膜的状态下进行的。现有技术所提供的表面保护薄膜中，典型的是在基底薄膜的一面设置具有低粘接力的粘接剂层。粘接剂层为具有将表面保护薄膜粘贴在光学用薄膜上的作用的层。使用具有低粘接力的粘接剂层的理由在于，能够从光学用薄膜的表面顺利地剥离并去除使用完的表面保护薄膜，且能够防止在光学用薄膜的表面留下粘接剂残留物。近年来，在液晶显示器面板等图像显示装置的生产エ艺中，在从光学用薄膜剥离并去除粘贴于光学用薄膜表面上的表面保护薄膜时，会发生剥离静电。由于该剥离静电，发生液晶用驱动IC等电路部件被击穿的现象或液晶分子的配向受损的问题。另外，为了減少液晶显示器面板的电カ消耗，趋于降低液晶显示器面板中使用的液晶材料的驱动电压。随之，驱动IC的击穿电压也变低，最近要求将剥离静电抑制到+0. 7kV -0. 7kV 范围内。因此，为了防止从被粘着体剥离表面保护薄膜时产生的剥离静电所引起的情况的发生，提出使用了具有防静电性能的粘接剂层的表面保护薄膜。例如，专利文献1(日本特开2005-131957号公报)中公开了使用由溴烷基三甲基胺盐(alkyltrimethylammonium salt)、含轻基丙烯酸类聚合物、聚异氰酸酯(polyisocyanate)组成的粘接剂组合物的表面保护薄膜。而且，专利文献2 (日本特开2005-330464号公报)中公开了由尚子液体和酸值I. 0以下的丙烯酸类聚合物组成的粘接剂组合物以及应用该粘接剂组合物的粘接片类。并且，专利文献3(日本特开2005-314476号公报)中公开了由丙烯酸类聚合物、聚醚多醇化合物、阴离子吸附性化合物进行处理的碱性金属盐组成的粘接剂组合物以及应用其的表面保护薄膜。而且，专利文献4(日本特开2006-152235号公报)中公开了由离子液体、碱性金属盐、玻璃转移温度为0°c以下的聚合物组成的粘接剂组合物以及应用其的表面保护薄膜。如专利文献I至4所示，当在具有粘接性的聚合物中添加抗静电剂时，粘接剂层的厚度越厚，随着时间的推移，抗静电剂转移到被粘着体的量变的越多。进行防眩光(AntiGlare)处理的偏光板或进行眩光(Glare)处理的偏光板等被粘着体中，通过目视较难确认污染被粘着体的表面的污染物，因此难以作为问题而进行识别。另外，反射防止层设置于偏光板表面的进行了 AR(Anti Reflective)处理的偏光板等中，非常容易看到表面的污染状态。因此，对于被粘着体的表面的污染性(对于表面的污染程度)随着时间的推移更加显眼。由于随着时间的推移，逐渐地发挥防剥离静电性能，因此可以推断出表面保护薄膜的粘接剂层所含有的抗静电剂的含量将减少。但是，在这种情况下，将表面保护薄膜贴合到被粘着体的初期，剥离静电压趋于变高，难以兼顾剥离静电的防静电性能和经时稳定性。而且，为了兼顾剥离静电的防静电性能和经时稳定性，可以假设减薄粘接剂层的厚度。但是，在这种情况下，难以将粘接カ调整为预定值。并且，在进行了防眩光处理的偏光板等光学用薄膜的表面存在凹凸的被粘着体中，表面保护薄膜的粘接剂层的变形无法与·表面的凹凸相对应，光学用薄膜的表面的凹凸部中混入气泡。本专利技术是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供ー种表面保护薄膜以及粘贴该表面保护薄膜的光学部件，该表面保护薄膜在被剥离时剥离静电压低，且防静电性能的经时变化以及对被粘着体的污染少。
技术实现思路
为了解决上述课题，本专利技术通过ー层ー层地层叠具有不同的表面电阻率的粘接剂层，使表面保护薄膜的粘接剂层形成两层结构的粘接剂层。即，在表面保护薄膜的基底的一面上顺序地层叠表面电阻率相对高的第一粘接剂层和相比该第一粘接剂层表面电阻率相对低的第二粘接剂层这两层。据此，使抗静电剂仅集中于两层结构的粘接剂层的表面层。据此，发挥预定的防静电性能的同时，通过将粘接剂层的层高(两层结构的粘接剂层的总厚度)維持在一定的厚度以上，从而保持表面保护薄膜对应于被粘着体的凹凸形状的变形。为了解决上述课题，本专利技术采用以下的构成。本专利技术提供的表面保护薄膜的第一形态为，在透明的基底薄膜的一面顺序层叠而设置有表面电阻率为IXlO13 (Q/D)以上的第一粘接剂层和表面电阻率小于IXlO13〔Q/ ロ〕的第二粘接剂层。本专利技术提供的第二形态为，在所述第一形态的表面保护薄膜中，所述第二粘接剂层包含从由表面活性剤、离子液体、碱金属盐构成的抗静电剂组中选择的一种或者多种作为抗静电剂。本专利技术提供的第三形态为，在所述第一或第二形态的表面保护薄膜中，所述第二粘接剂层使用(甲基)丙烯酸类聚合物作为基础聚合物。本专利技术提供的第四形态为，在所述第一至第三形态中的任意一种形态的表面保护薄膜中，第一粘接剂层的厚度(A)和第二粘接剂层的厚度(B)的比率(A/B)的范围为10/1 1/2。本专利技术提供的光学部件的第一形态为粘贴所述第一至第四形态中的任意ー种形态的表面保护薄膜的光学部件。本专利技术的表面保护薄膜在直接与偏光板、相位差板、透镜薄膜等光学用薄膜的表面相接的粘接剂层中，使用表面电阻率相对低(小于IXio13Q/□)的第二粘接剂层，将剥离时的剥离耐电压抑制的低。而且，本专利技术的表面保护薄膜使用在基底与表面电阻率相对低的第二粘接剂层之间设置的、表面电阻率相对高(IXlO13Q/□以上)的第一粘接剂层。通过使用该第一粘接剂层，抑制抗静电剂渗出的经时变化的同时，确保粘接力的稳定化和表面保护薄膜针对具有凹凸形状的被粘接体的对应性。其结果，本专利技术的表面保护薄膜抗静电性能的经时变化以及对被粘接体的污染少，剥离时的剥离耐电压低，能够切实地保护光学部件的表面。結果，能够提高制造光学部件时的成品率。附图说明图I为示出本专利技术的表面保护薄膜的简略组成例的剖面图。图2为示出本专利技术所提供的光学部件的一实施例的剖面图。具体实施例方式以下，基于本专利技术的实施方式，详细说明本专利技术。·图I为示出本专利技术的表面保护薄膜的一例的剖面图。该表面保护薄膜5在透明的基底薄膜I的一面顺序层叠而设置表面电阻率相对高的第一粘接剂层2和表面电阻率相对低的第二粘接剂层3。并且，用于保护粘接剂面8的剥离薄膜4重叠于第二粘接剂层3的表面。作为本专利技术的表面保护薄膜中使用的基底薄膜1，应用具有透明性的塑料薄膜。据此，能够以粘贴本专利技术的表面保护薄膜的状态，直接执行光学部件的性能检查以及外观检查。作为本专利技术的表面保护薄膜中使用的、用于基底薄膜I的塑料薄膜，优选地，可使用如聚对苯ニ甲酸こニ醇酯、聚萘ニ甲酸こニ醇酷、聚间苯ニ甲酸こニ醇酯、或者聚对苯ニ甲酸丁ニ酯等聚酷薄膜。而且，若是具有必要的强度以及光学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面保护薄膜，其特征在于，在透明的基底薄膜的一面顺序层叠而设置表面电阻率为1×1013〔Ω/□〕以上的第一粘接剂层和表面电阻率小于1×1013〔Ω/□〕的第二粘接剂层。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：春日充，小林弘幸，饭沼佳子，林益史，
申请(专利权)人：藤森工业株式会社，
类型：发明
国别省市：