【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种，尤其涉及ー种具有良好耐腐蚀性能的镀膜件及该镀膜件的制备方法。
技术介绍
铝合金具有质量轻、散热性能好等诸多优点，在通讯、电子、交通运输、建筑以及航空航天等领域的应用非常广泛。在空气中铝合金表面会形成氧化铝的保护膜(厚度约IOnm),在一般的大气环境下,招合金表面的这层氧化招膜能够有效地保护招合金基材。但在含有电解质的湿气中，例如海洋表面大气环境，铝合金表面会出现点蚀，严重破坏产品外观，同时导致产品使用寿命缩短。为了提高铝合金产品的耐腐蚀性能(或耐盐雾性能)，通常要对铝合金基材进行表面处理，如阳极氧化、烤漆等，但这些エ艺都存在较大的环境污染问题。真空镀膜技术(PVD)是ー种较环保的镀膜技术。PVD膜层具有高硬度、高耐磨性、良好的化学稳定性及金属质感装饰性等优点，因此在表面防护或装饰处理领域的应用越来越广。然而，由于铝合金基体的热膨胀系数较大，于铝合金基体表面PVD非金属材质的装饰性膜层(如颜色层等)时存在附着力问题，膜层较容易脱落，限制了铝合金基材PVD的应用范围。
技术实现思路
鉴于此，有必要提供ー种具有较好结合性能的PVD的镀膜件。另外，还有必要提供ー种上述镀膜件的制备方法。一种镀膜件，其包括铝合金基体及依次形成于铝合金基体表面的梯度结合层、装饰层，该梯度结合层包括若干铝氧氮层，该若干铝氧氮层中铝的原子百分含量由靠近铝合金基体向远离铝合金基体的方向梯度減少，氧、氮的原子百分含量由靠近铝合金基体向远离铝合金基体的方向梯度增加，该装饰层为非金属层。一种镀膜件的制备方法，其包括如下步骤 提供招合金基体； 采用真空溅镀法在该铝合金基体上溅镀...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种镀膜件，其包括招合金基体及形成于招合金基体表面的装饰层，该装饰层为非金属层，其特征在于该镀膜件还包括形成于铝合金基体及装饰层之间的梯度结合层，该梯度结合层包括若干铝氧氮层，该若干铝氧氮层中铝的原子百分含量由靠近铝合金基体向远离铝合金基体的方向梯度减少，氧、氮的原子百分含量由靠近铝合金基体向远离铝合金基体的方向梯度增加。2.如权利要求I所述的镀膜件，其特征在于所述梯度结合层包括依次形成于铝合金基体上的第一铝氧氮层、第二铝氧氮层及第三铝氧氮层，第一铝氧氮层中铝的原子百分含量为65_75at. %,氧的原子百分含量为10_20at. %,氮的原子百分含量为10_20at. % ;第二招氧氮层中招的原子百分含量为50_60at. %,氧的原子百分含量为20_30at. %,氮的原子百分含量为15_25at. % ;第三招氧氮层中招的原子百分含量为42_52at. %,氧的原子百分含量为23-33at. %，氮的原子百分含量为20-30at. %。3.如权利要求I所述的镀膜件，其特征在于所述第一铝氧氮层、第二铝氧氮层及第三招氧氮层的厚度均为130-160nm。4.如权利要求I所述的镀膜件，其特征在于所述镀膜件还包括一设置于铝合金基体与梯度结合层之间的铝层，该铝层的厚度在120-200nm之间。5.如权利要求I所述的镀膜件，其特征在于所述装饰层为氮化钛层、氮氧化钛层、碳氮化钛层、氮化铬层、氮氧化铬层、碳氮化铬层或任意具装饰性的膜层，该装饰层的厚度在150-300nm 之间。6.如权利要求4所述的镀膜件，其特征在于所述铝层、梯度结合层及装饰层以中频磁控溅射镀膜法形成。7.一种镀膜件的制备方法，其包括如下步骤 提供招合金基体； 采用真空溅镀法在该铝合金基体上溅镀若干铝氧氮层，形成梯度结合层，该若干铝氧氮层中铝的原子百分含量由靠近铝合金基体向远离铝合金基体的方向梯度减少，氧、氮的原子百分含量由靠近铝合金基体向远离铝合金基体的方向梯度增加；溅镀该梯度结合层以铝靶为靶材，以氮气、氧气为反应气体； 采用真空溅镀法在该梯度结合层表面溅镀装饰层，该装饰层...
【专利技术属性】
技术研发人员：张新倍，陈文荣，蒋焕梧，陈正士，马楠，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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