【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种成膜装置，尤其是一种带有活性粒子检测部件的等离子薄膜沉积装置。
技术介绍
等离子体化学气相沉积方法是通过等离子体将原料气体激发、电离形成活性粒子，到达被沉积基板表面实施沉积的方法，其常常被用来进行半导体、平板显示器以及太阳能电池等表面薄膜的制备。然而，这些激发、解离产生的活性粒子非常容易成为污染粒子的形核中心而促进污染粒子的形成，进而使得产品的品质劣化。因此，对于等离子成膜装置中活性粒子的监测控制，对于提高等离子成膜制品的成品率而言至关重要。现有技术中往往通过测试基板或者将处于薄膜沉积中的基板取出进行表面污染粒子的检测，然而这样的测试并不是对于污染粒子的实时监控，与沉积过程的真实状态并不相同，因此也难以有效提高成品率。
技术实现思路
针对上述问题，本技术的目的即在于提供能一种能够实时监控内部活性粒子状态的等离子薄膜沉积装置。本技术所采用的技术方案如下一种带有活性粒子检测部件的等离子薄膜沉积装置，其包括一个等离子成膜处理腔室，所述腔室内设置有与外部射频电源连接的射频电极以及接地的接地电极，所述腔室还分别与原料气体供给部件和一号真空泵连通；其特征在于在所述射频电极与接地电极间的等离子体中部区域处设置有一个活性粒子吸引管，所述活性粒子吸引管与置于所述腔室外部的一个活性粒子的检测部件连通，所述检测部件与二号真空泵连通；所述检测部件通过数据传输线与一个控制部件连接，所述控制部件分别连接并控制所述射频电源、原料气体供给部件以及一号真空泵。使用时，通过二号真空泵降低检测部件及吸引管内的压力，使其低于处理腔室内的压力，从而活性粒子能够被吸引到活性粒子吸引管内并...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1. 一种带有活性粒子检测部件的等离子薄膜沉积装置，其包括一个等离子成膜处理腔室，所述腔室内设置有与外部射频电源连接的射频电极以及接地的接地电极，所述腔室还分别与原料气体供给部件和一号真空泵连通；其特征在于在所述射频电极与接地电极间的等离子体中部...
【专利技术属性】
技术研发人员：陆剑飞，
申请(专利权)人：宁波高新区智胜技术服务有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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