【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种玻璃镀膜设备，具体是一种辊轮溅射污染低的真空磁控溅射镀膜装置O
技术介绍
目前市场上用于大面积玻璃镀膜的磁控溅射设备大部分都采用双端式，有三室的、有五室的，通常锁室同缓冲室之间通过狭缝阀进行分离，而溅射室(溅射区)和过渡室之间是不用隔离的，这样就导致溅射阴极溅射出的粒子通过玻璃传送间隙和传送辊轮下部的空隙溅射到旁边过渡室的传送辊轮上，造成辊轮“O”形圈(S卩外圈)的污染。玻璃到达过渡室时，辊轮会有加速的过程，从而会导致玻璃因“O”形圈被溅射而被划伤或是发生位置偏移的情况，而导致产品报废。
技术实现思路
本专利技术的技术目的是解决现有技术中存在的问题，提供一种辊轴溅射污染低的玻璃镀膜设备。本专利技术的技术方案是一种辊轮溅射污染低的真空磁控溅射镀膜装置，设有溅射室、过渡室，其特征在于所述溅射室、过渡室的腔体底板设有传送辊轮，所述溅射室在其与过渡室衔接的出口的腔体底板上设置有挡板，所述挡板位于传送滚轴的一侧。进一步的技术方案还包括所述溅射室在其入口的腔体底板上也设有挡板。所述挡板的顶端高度低于所述传送辊轮上表面3mm。所述挡板与所述传送辊轮相平行。本专利...
【技术保护点】
１．一种辊轮溅射污染低的真空磁控溅射镀膜装置，设有溅射室、过渡室， 其特征在于：所述溅射室、过渡室的腔体底板设有传送辊轮，所述溅射室在其与过渡室衔接的出口的腔体底板上设置有挡板，所述挡板位于传送滚轴的一侧。
【技术特征摘要】
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