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本发明公开了一种辊轮溅射污染低的真空磁控溅射镀膜装置，设有溅射室、过渡室，其特征在于：所述溅射室、过渡室的腔体底板设有传送辊轮，所述溅射室在其与过渡室衔接的出口的腔体底板上设置有挡板，所述挡板位于传送滚轴的一侧。本发明通过挡板阻挡溅射粒子通...
该专利属于林嘉宏所有，仅供学习研究参考，未经过林嘉宏授权不得商用。

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