柔性ITO磁控镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种柔性ITO磁控镀膜装置，包括容器体和分别设于容器体内的水冷镀膜辊、薄膜传动机构及磁控靶，薄膜传动机构包括对称设于水冷镀膜辊两侧的薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件，水冷镀膜辊外周分布有多个磁控靶，薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件上分别设有离子源组件，各离子源组件分别包括离子源正极导体和离子源负极导体，离子源正极导体和离子源负极导体分别设于薄膜的两面，离子源正极导体和离子源负极导体上分别设有充气孔。本柔性ITO磁控镀膜装置通过在水冷镀膜辊的输入侧和输出侧分别设置离子源组件，使薄膜在镀膜前后其表面都附着离子，从而提高薄膜表面镀膜层的附着力，提高柔性ITO的成品质量。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及玻璃镀膜
，特别涉及一种柔性ITO磁控镀膜装置。
技术介绍
高真空卷绕式镀膜设备是在薄膜卷材表面真空蒸镀铝膜的专用设备，适用于金属化食品包装材料、电化铝材料、反光材料、保温材料、表面装潢材料和电气材料等的镀膜。目前常用的高真空卷绕式镀膜设备中，柔性ITO (透明导电膜玻璃)磁控镀膜装置一般是在真空空间内，通过传统的传动机构将薄膜绕于水冷镀膜辊上，通过设于水冷镀膜辊外周的磁控靶对薄膜进行镀膜，但在实际生产中，该结构的镀膜装置使用时，薄膜表面的镀膜层附着力较差，影响柔性ITO成品质量。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种能有效提高薄膜表面镀膜层附着力的柔性ITO磁控镀膜装置。本技术的技术方案为一种柔性ITO磁控镀膜装置，包括容器体、水冷镀膜辊、薄膜传动机构和磁控靶，水冷镀膜辊、薄膜传动机构和磁控靶分别设于容器体内，薄膜传动机构包括对称设于水冷镀膜辊两侧的薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件，水冷镀膜辊外周分布有多个磁控靶，所述薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件上分别设有离子源组件，各离子源组件分别包括离子源正极导体和离子源负极导体，离子源正极导体和离子源本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．柔性ＩＴＯ磁控镀膜装置，包括容器体、水冷镀膜辊、薄膜传动机构和磁控靶，水冷镀膜辊、薄膜传动机构和磁控靶分别设于容器体内，薄膜传动机构包括对称设于水冷镀膜辊两侧的薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件，水冷镀膜辊外周分布有多个磁控靶，其特征在于，所述薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件上分别设有离子源组件，各离子源组件分别包括离子源正极导体和离子源负极导体，离子源正极导体和离子源负极导体分别设于薄膜的两面，离子源正极导体和离子源负极导体上分别设有充气孔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱建明，
申请(专利权)人：肇庆市科润真空设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：44