一种多室磁控多层光学镀膜设备及镀膜方法技术

本发明专利技术公开一种多室磁控多层光学镀膜设备及方法，其设备包括依次连接的工件进出装置、预处理室、工件进出转换室和镀膜室，预处理室和多个镀膜室分布于工件进出转换室外周；工件进出转换室与预处理室之间设有第一真空门阀机构，工件进出转换室与各镀膜室之间设有第二真空门阀机构，预处理室朝向工件进出装置的一侧设有旋转门机构。其方法是先由预处理室对工件架上的工件进行离子表面处理，然后进入工件进出转换室并提升至上部，其中一个镀膜室镀膜完成后通过工件进出转换室将工件架及工件送出，待镀膜的工件架下降并送入镀膜室。本发明专利技术可有效改善各镀膜室之间的真空度均匀性，从而改善镀膜后工件膜层性能的一致性，提高工件镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】
一种多室磁控多层光学镀膜设备及镀膜方法
本专利技术涉及真空镀膜
，特别涉及一种多室磁控多层光学镀膜设备及镀膜方法。
技术介绍
在真空镀膜
中，传统的真空镀膜设备多采用单炉体的结构形式或直线式多室串联的结构形式。在实际生产中，单炉体结构形式的真空镀膜设备由于只有一个真空室，在每次镀膜结束后都需要向炉体内充入大气，而每次真空室大门打开的时间长短不一，因此容易对真空室内的气氛变化产生影响，真空度波动较大，最终每炉加工后的工件膜层性能都会有所区别，工件膜层质量不一。而直线式多室串联的真空镀膜设备中，各镀膜室通常采用矩形结构，镀膜室内的磁控靶只能分布在镀膜室的两侧壁上，难以实现均匀布置，同时，因工件架需要进出各镀膜室，因此相邻镀膜室之间的通道一般较大，镀膜作业时需要对镀膜室进行工作气体充气，隔气板的布置难度相当大，各镀膜室中的工作气氛状态不一，工作气体在磁控靶上的均匀性也就难以得到控制，最终也容易影响工件的镀膜质量。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种多室磁控多层光学镀膜设备，该本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多室磁控多层光学镀膜设备，其特征在于，包括依次连接的工件进出装置、预处理室、工件进出转换室和镀膜室，其中镀膜室有多个，预处理室和各镀膜室分布于工件进出转换室的外周；工件进出转换室与预处理室之间的连接处设有第一真空门阀机构，工件进出转换室与各镀膜室之间的连接处分别设有第二真空门阀机构，预处理室朝向工件进出装置的一侧设有旋转门机构。/n

【技术特征摘要】
1.一种多室磁控多层光学镀膜设备，其特征在于，包括依次连接的工件进出装置、预处理室、工件进出转换室和镀膜室，其中镀膜室有多个，预处理室和各镀膜室分布于工件进出转换室的外周；工件进出转换室与预处理室之间的连接处设有第一真空门阀机构，工件进出转换室与各镀膜室之间的连接处分别设有第二真空门阀机构，预处理室朝向工件进出装置的一侧设有旋转门机构。


2.根据权利要求1所述一种多室磁控多层光学镀膜设备，其特征在于，所述工件进出装置为旋转升降台机构，工件进出装置的外侧还分别连接有工件装片平台和工件卸片平台。


3.根据权利要求1所述一种多室磁控多层光学镀膜设备，其特征在于，所述工件进出转换室内设有工件架升降机构和工件架旋转机构，工件架升降机构设于工件进出转换室的上部，工件架旋转机构设于工件进出转换室的下部。


4.根据权利要求3所述一种多室磁控多层光学镀膜设备，其特征在于，所述工件架升降机构包括升降篮架、第一卷扬机和第一导向轮，第一卷扬机安装于工件进出转换室的顶部，第一卷扬机的钢丝绳一端与升降篮架顶部固定连接，工件架置于升降篮架内，升降篮架的外侧分布有若干与工件进出转换室内壁相接的第一导向轮。


5.根据权利要求4所述一种多室磁控多层光学镀膜设备，其特征在于，沿第一导向轮的运动轨迹，所述工件进出转换室内壁还设有与第一导向轮相配合的第一导轨。


6.根据权利要求3所述一种多室磁控多层光学镀膜设备，其特征在于，所述工件架旋转机构包括旋转托盘和旋转驱动组件，旋转托盘位于工件进出转换室内，旋转托盘底部设置旋转驱动组件，旋转托盘顶面还设有若干排水平输送滚轮，水平输送滚轮的输送方向随旋转托盘的转动进行切换。


7.根据权利要求1所述一种多室磁控多层光学镀...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱建明，
申请(专利权)人：肇庆市科润真空设备有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44