【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅片制造领域，特别涉及一种手工硅片清洗机。
技术介绍
现有技术的硅片生产过程中，一般直接将硅片表面的印刷浆料用有机溶剂去除， 待溶剂挥发后直接印刷。这种做法会导致硅片污染较为严重，电性能参数受到严重影响。因此需要寻求一种新的清洗印刷浆料污染的硅片的设备。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种减少污染的手工硅片清洗机。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是一种手工硅片清洗机，具有机架，所述机架上嵌有超声槽、酸洗槽和两个漂洗槽，所述的超声槽、酸洗槽和两个漂洗槽的槽底设有出水管道，槽口上方设有进水管道，所述超声槽内设有至少一个热电偶。上述技术方案所述机架上方设有与超声槽对应的超声发生器。上述技术方案所述机架上方设有与酸洗槽和两个漂洗槽对应的时间控制器和温度控制器。本技术的有益效果(1)本技术采用手工硅片清洗机能够有效去除有机物和金属离子，减少了污染，提高了转换效率。(2)本技术所述机架上方设有与酸洗槽和两个漂洗槽对应的时间控制器和温度控制器，可以设定对应槽的工作的时间、温度。以下结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。附图说明图1是本技术的结构示意图。图中1.机架，11.酸洗槽，12.超声槽，121.热电偶，13.漂洗槽，14.出水管道， 15.进水管道，16.超声发生器，17.时间控制器，18.温度控制器。具体实施方式下面将结合附图对本技术进行进一步描述。如图1所示的一种手工硅片清洗机，具有机架1，机架1上嵌有超声槽12、酸洗槽 11和两个漂洗槽13，超声槽12、酸洗槽11和两个漂洗槽13的槽底设有出水管道14，槽口上方...
【技术保护点】
１．一种手工硅片清洗机，具有机架（１），所述机架（１）上嵌有超声槽（１２）、酸洗槽（１１）和两个漂洗槽（１３），所述的超声槽（１２）、酸洗槽（１１）和两个漂洗槽（１３）的槽底设有出水管道（１４），槽口上方设有进水管道（１５），其特征在于：所述超声槽（１２）内设有至少一个热电偶（１２１）。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄钦，王平，李晓华，
申请(专利权)人：常州盛世电子技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32
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