【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，并且，具体地说，涉及在制造 微型器件(诸如半导体器件)的光刻工艺中所使用的曝光设备和曝光方法、以及使用该曝 光设备或使用该曝光方法的器件制造方法。
技术介绍
通常，在用于制造诸如半导体器件(诸如集成电路)和液晶显示器的电子器件 (微型器件)的光刻工艺中，主要使用的曝光设备诸如是通过步进重复(st印-and-r印eat) 方法的投影曝光设备(所谓“步进器”)，或通过步进扫描方法的投影曝光设备(所谓“扫描 步进器”(也称为扫描仪))。然而在未来，半导体器件的集成度将更高，并且随之可以确定的是，在晶片上形成 的电路图案将更精细，并且，在用于半导体器件的大规模生产设备的曝光设备中将需要进 一步提高对晶片的位置检测精度等。例如，在美国专利申请公开No. 2006/0227309中，公开了一种曝光设备，其采用液 浸(liquid immersion)曝光方法，该液浸曝光方法使用安装在衬底台上的编码器型传感器 (编码器头)。在这种曝光设备中，在衬底和光学系统之间的空隙中注入液体，从而形成液 浸区域，并且，该液浸区域可以通过衬底台的移动而从衬底上的一个区域移动到...
【技术保护点】
一种曝光设备，该曝光设备包括： 可移动体，其保持住安装的物体并且基本上沿预定平面移动； 液体供应装置，其在所述物体和安装该物体的所述可移动体中的至少一方的表面上供应液体； 图案生成装置，其包括光学系统，该图案生成装置使液体供应到与所述物体和所述可移动体中的至少一方的表面形成的空间中，该图案生成装置经由该光学系统和该液体向该物体上照射能量束，并且在该物体上形成图案；以及 测量系统，其具有设置在所述可移动体的表面上的多个编码器头，并且，基于该多个编码器头中的、位于由所述液体形成的液浸区域之外的编码器头的测量值，来测量所述可移动体的位置信息。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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