带电路的悬挂基板制造技术

提供一种带电路的悬挂基板，该带电路的悬挂基板具备电路基板和光波导，该电路基板具备金属支承基板、形成在金属支承基板上的绝缘层以及形成在绝缘层上的导体层，该光波导被设置于电路基板。光波导具备：下包层；芯层，其形成在下包层上；以及上包层，其形成在芯层上，当向芯层的厚度方向投影上包层时，上包层被包含在芯层中。在光波导中设置有定位部和保护层，该定位部用于对光波导和利用从光波导照射的光来产生近场光的近场光产生部进行定位，该保护层覆盖定位部。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种带电路的悬挂基板，详细地说，涉及一种装载于采用光辅助法的 硬盘驱动器等中的带电路的悬挂基板。
技术介绍
以往，作为对硬盘等进行磁记录的磁记录方式，已知如下光辅助法(光辅助磁记 录方式)在记录信息时，通过照射近场光来加热硬盘，在使其矫顽力降低的状态下利用磁 头来记录信息，由此能够以较小的记录磁场高密度地记录该信息。例如，提出了如下方案在采用光辅助法的光辅助磁记录装置中，使浮动块支承热 辅助磁记录头，该热辅助磁记录头具备悬挂基板和形成于该悬挂基板上的光波导(第二光 波导)(例如参照日本特开2006-185548号公报)。另外，在浮动块上设置有与第二光波导不同的光波导(第一光波导)以及配置于 该光波导(第一光波导)下侧的近场光产生部，使第二光波导的端部与第一光波导的上端 部相对配置，由此在第二光波导中传输的光通过第一光波导照射到近场光产生部，由此加 热硬盘。
技术实现思路
然而，在日本特开2006-185548号公报所记载的热辅助磁记录头中，在无法高精 度地配置第二光波导和第一光波导的情况下，从第二光波导通过第一光波导照射到近场光 产生部的光变得不充分。因此，由近场光产生部进行的对硬盘的加热变得不充分，因此存在 无法将信息高密度地记录到硬盘这种问题。另一方面，也存在使用第二光波导时或者对第二光波导进行定位时，第二光波导 由于与外部或者第一光波导接触而受损伤的情况。本专利技术的目的在于提供一种能够以更高精度对光波导和近场光产生部进行定位 并通过近场光产生部更可靠地照射光波导中传输的光的带电路的悬挂基板。本专利技术的带电路的悬挂基板的特征在于，具备电路基板，其具备金属支承基板、 形成在上述金属支承基板上的绝缘层以及形成在上述绝缘层上的导体层；以及光波导，其 被设置于上述电路基板上，其中，上述光波导具备下包层；芯层，其形成在上述下包层上； 以及上包层，其形成在上述芯层上，当向上述芯层的厚度方向投影该上包层时，该上包层被 包含在上述芯层中，在上述光波导中设置有定位部和保护层，该定位部用于对上述光波导 和利用从上述光波导照射的光来产生近场光的近场光产生部进行定位，该保护层覆盖上述 定位部。根据该带电路的悬挂基板，通过定位部能够高精度地对光波导与近场光产生部进 行定位。另外，在芯层中沿着上包层形成路径，如果对与上包层的下侧相对的部分照射光， 则该路径能够传输上述光。因此，能够将在光波导中传输的光可靠地照射到近场光产生部，能够充分加热硬盘。其结果是能够将信息高密度地记录到硬盘，可靠地实施光辅助法。另外，定位部被保护层覆盖，因此能够防止由于使用光波导时外部与定位部接触 以及定位时磁头滑块与定位部接触而引起的定位部受损伤。因此，能够以更高精度对光波 导与近场光产生部进行定位。其结果是能够以更高密度将信息记录到硬盘，更可靠地实施光辅助法。另外，在本专利技术的带电路的悬挂基板中，优选上述保护层由透明材料构成。在该带电路的悬挂基板中，能够确保从上方视觉识别定位部的良好的视觉识别 性。另外，在本专利技术的带电路的悬挂基板中，优选上述保护层覆盖上述上包层。在该带电路的悬挂基板中，上包层被保护层覆盖，因此能够防止由于使用光波导 时外部与上包层接触以及定位时磁头滑块与上包层接触而引起的上包层受损伤。因此，能 够确保光波导的良好的光学连接可靠性。另外，在本专利技术的带电路的悬挂基板中，优选上述定位部被配置成与上述上包层 隔开间隔。在该带电路的悬挂基板中，定位部被配置成与上包层隔开间隔，因此能够容易地 识别路径相对于定位部的相对位置的偏差。因此，能够以更高精度对路径与近场光产生部进行定位。另外，在本专利技术的带电路的悬挂基板中，优选上述上包层在带电路的悬挂基板的 长度方向上延伸，在与该长度方向正交的方向的宽度为ΙΟμπι以下。在该带电路的悬挂基板中，上包层的宽度在特定范围内，因此能够以单模分布构 成路径。因此，能够使在光波导中传输的光成为单模光，可靠且有效地照射到近场光产生 部，能够可靠且有效地加热硬盘。其结果是能够可靠且有效地实施光辅助法。另外，在本专利技术的带电路的悬挂基板中，优选上述近场光产生部被设置于安装磁 头的磁头滑块上。在该带电路的悬挂基板中，磁头滑块安装有近场光产生部和磁头。因此，能够可靠 地实施光辅助法。附图说明图1是表示本专利技术的带电路的悬挂基板的一个实施方式的俯视图。图2是沿着图1示出的带电路的悬挂基板的宽度方向的截面图，示出沿着图1的 A-A线的截面图。图3是沿着图1示出的带电路的悬挂基板的长度方向的截面图，示出沿着图1的 B-B线的截面图。图4是表示图1示出的带电路的悬挂基板的光波导的前端部的放大立体图。图5是说明图2示出的带电路的悬挂基板的制造方法的截面图，(a)示出准备电 路基板的工序，(b)示出形成下包层的工序，(c)示出形成芯层的工序，(d)示出形成感光性覆膜的工序。图6是接着图5说明图2示出的带电路的悬挂基板的制造方法的截面图，(e)示出 通过光掩模来对覆膜进行曝光的工序，(f)示出对覆膜进行显影而形成上包层的工序，(g) 示出形成保护层的工序，(h)示出形成开口部和狭缝部的工序。图7示出说明相对于光波导定位磁头滑块的立体图。图8示出对磁头滑块进行定位后的带电路的悬挂基板的截面图。图9示出说明相对于本专利技术的带电路的悬挂基板的其它实施方式的光波导(没有 形成定位标记的方式)定位磁头滑块的立体图。图10示出本专利技术的带电路的悬挂基板的其它实施方式(保护层仅覆盖上包层的 方式)的截面图。具体实施例方式图1是本专利技术的带电路的悬挂基板的一个实施方式的俯视图；图2是沿着图1示 出的带电路的悬挂基板的宽度方向(与长度方向正交的方向)的截面图，是沿着图1的八-八 线的截面图；图3是沿着图1示出的带电路的悬挂基板的长度方向的截面图，是沿着图1的 B-B线的截面图；图4是表示图1示出的带电路的悬挂基板的光波导的前端部的放大立体 图；图5以及图6是说明图2示出的带电路的悬挂基板的制造方法的截面图；图7是说明相 对于带电路的悬挂基板定位磁头滑块的立体图；图8是对磁头滑块进行定位后的带电路的 悬挂基板的截面图。此外，在图1以及图3中，为了明确地示出后述的导体图案13和光波导19的相对 配置而省略了后述的基底绝缘层12和覆盖绝缘层14。另外，在图7中，为了明确地示出光 波导19的相对配置而省略了导体图案13。在图1中，带电路的悬挂基板1具备电路基板2和设置于电路基板2的光辅助部 18。在电路基板2中，安装有硬盘驱动器中的磁头44 (参照图8)，在金属支承基板11 上一体地形成有导体图案13，该金属支承基板11抵抗磁头44与硬盘沈(参照图8)相对移 动时的空气流以保持该磁头44与硬盘沈之间微小的间隔来支承该磁头44，该导体图案13 用于连接外部电路基板(例如，读/写基板等，参照图3的虚线)25与磁头44。电路基板2形成为与带电路的悬挂基板1的外形形状对应，形成为在长度方向上 延伸的平带状，一体地具备布线部3和悬架部4，该布线部3被配置在长度方向一侧(下面 称为后侧)，该悬架部4被配置在布线部3的长度方向另一侧(下面称为前侧)。布线部3形成为在长度方向上延伸的俯视观察为大致矩形的形状。悬架部4从布线部3的前端起连续形成，形成为相对于布线部3在宽度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带电路的悬挂基板，其特征在于，具备：电路基板，其具备金属支承基板、形成在上述金属支承基板上的绝缘层以及形成在上述绝缘层上的导体层；以及光波导，其被设置于上述电路基板上，其中，上述光波导具备：下包层；芯层，其形成在上述下包层上；以及上包层，其形成在上述芯层上，当向上述芯层的厚度方向投影该上包层时，该上包层被包含在上述芯层中，在上述光波导中设有定位部和保护层，该定位部用于对上述光波导和利用从上述光波导照射的光来产生近场光的近场光产生部进行定位，该保护层覆盖上述定位部。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：西尾创，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP