氮化镓半导体元件和发光二极管制造技术

本发明专利技术披露了一种氮化镓半导体元件和发光二极管。在一基板上形成有一富含金属的氮化物薄膜，随后在富含金属的氮化物薄膜上形成有一缓冲层以及一半导体叠层；其中，富含金属的氮化物薄膜仅覆盖基板的部分上表面。通过富含金属的氮化物薄膜为非晶结构的特性，使得缓冲层外延成长方向由向上成长转变为水平成长，使缓冲层中的晶格位错亦随着外延成长方向弯曲，由此降低位错延伸至半导体叠层的机率，以提高氮化镓半导体元件的可靠度。

Gallium nitride semiconductor device and led

A gallium nitride semiconductor device and a light-emitting diode are disclosed. There is a metal rich nitride film formed on a substrate, then a buffer layer and a semiconductor layer formed on the nitride thin film of metal rich; the metal rich nitride film covers only part of the upper surface of substrate. The nitride thin film of metal rich characteristics of amorphous structure, the buffer layer growth direction by upward growth into the level of growth, the dislocations in buffer layer with epitaxial growth direction bending, thereby reducing the probability of dislocation extends to the stack of semiconductor layers, in order to improve the reliability of the gallium nitride semiconductor element.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术提供一种氮化镓半导体元件和发光二极管，特别涉及一种利用富含金属的 氮化物薄膜以增加半导体元件的外延品质的结构。
技术介绍
近年来，半导体材料被广泛地应用于电子元件、集成电路与固态照明领域等； 然而，如图1所示，半导体元件100往往容易因为基板10与半导体叠层12的晶格常数 (lattice constant)不匹配，造成半导体材料在外延过程中发生晶格错位而产生位错 (dislocation) 14的情形；这种晶格缺陷容易影响半导体材料的电学性质，降低半导体元 件的稳定度。为了解决上述问题，如图2所示，已知技术大多在半导体元件200的基板20上加 入一晶格常数与基板较为匹配的缓冲层22，由此降低晶格错位的情形发生，然而仍然会有 部分位错M延伸至半导体叠层26。此外，如图3A所示，亦有已知技术在基板30上形成缓冲体(buffer body)32，并随 后如图:3B所示，在基板30与缓冲体32上成长一缓冲层34 ；其中，缓冲体32的材料选自二 氧化硅(SiO2)或氮化硅(SiNx)，缓冲层材料为半导体材料。由于上述的二氧化硅与氮化硅 为非晶结构，半导体材料无法在上述材料上外延成长，因此，缓冲层34如图3A的箭号a的 方向所示，由未覆盖缓冲体32的基板30表面开始成长，待缓冲层34的厚度大于缓冲体32 的高度时缓冲层34会转为横向外延，使得缓冲层34晶格中的位错弯曲，进而减少位错向上 延伸至缓冲层34上的半导体叠层结构36的机率。虽然上述的先前技术皆能减少外延结构的晶格缺陷发生，然而仍有少数位错会向 上延伸，进而影响半导体元件的电学性质与可靠度；为了解决上述问题，本专利技术便提出一种 氮化镓半导体结构，以改善氮化镓半导体的外延品质。
技术实现思路
本专利技术的目的为提供一具有富含金属的氮化物薄膜的氮化镓半导体结构，用以改 善氮化镓半导体的外延品质。本专利技术的另一目的为提供一具有富含金属的氮化物薄膜的氮化镓半导体结构，利 用富含金属的氮化物薄膜减少半导体外延位错发生，由此提高半导体元件的可靠度。本专利技术的再一目的为提供一具有富含金属的氮化物薄膜的发光二极管结构，通过 富含金属的氮化物薄膜减少发光叠层中位错向上延伸的情形，由此提高发光二极管的发光 效率。根据本专利技术，提供了一种氮化镓半导体元件，至少包含一基板；一富含金属的氮化物薄膜，位于该基板上；一第一缓冲层，位于该富含金属的氮化物薄膜上；以及一半导体 叠层，位于该缓冲层上，其中该富含金属的氮化物薄膜仅覆盖该基板的部分上表面。附图说明图1为已知的半导体元件结构示意图。图2为另一已知的半导体元件结构示意图。图3A至图IBB为又一已知的半导体元件结构示意图。图4A至图4C为本专利技术实施例的流程示意图。图4D为本专利技术另--实施例的结构示意图。图5A为已知具有氮化硅缓冲体的半导体元件表面放j图5B为本专利技术实施例的表面放大图。图6A为本专利技术又--实施例的结构示意图。图6B为本专利技术再--实施例的结构示意图。附图标记说明100半导体元件10基板12半导体叠层14位错200半导体元件20基板22缓冲层24位错26半导体叠层30基板32缓冲体34缓冲层36半导体叠层40基板42富含金属的氮化物薄膜44第一缓冲层46半导体叠层460第一导电型半导体层462有源层464第二导电型半导体层48第二缓冲层400氮化镓半导体元件600发光二极管60基板62富含金属的氮化物薄膜64第一缓冲层66发光叠层660第一导电型半导体层662发光层664第二导电型半导体层68第一电极70第二电极72第二缓冲层 具体实施例方式本专利技术披露一种氮化镓半导体。为了使本专利技术的叙述更加详尽与完备，可参照下 列描述并配合图4A至图6B的图示。图4A至图4C为一种氮化镓半导体元件400的制造流程示意图。如图4A所示， 提供一基板40，此基板40的材料可以是蓝宝石(sapphire)、碳化硅(SiC)、硅(Si)、氧化 锌(ZnO)、氮化镓(GaN)、金属或透明材料等；接着利用已知的化学气相沉积法(CVD)通入 Cp2Mg、SiH4与NH3气体，以成长一富含金属的氮化物薄膜42于此基板40上；其中富含金属的氮化物薄膜42未完全覆盖基板40，且覆盖率约小于60%，优选地，富含金属的氮化物薄 膜为一不连续的薄膜结构，例如形成多个区块或多岛状结构。此外，此富含金属的氮化物薄膜42的材料选自氮化镁硅(MgSiN)、氮化锌硅 (SiSiN)、氮化镁锗(MgGeN)与氮化锌锗(SiGeN)系列材料等，而且其中金属成分为非金属 成分的两倍以上。随后，如图4B所示，再利用化学气相沉积法，在基板40与富含金属的氮化物薄膜 42上形成一第一缓冲层44，其中，第一缓冲层44的材料为氮化镓或氮化铝；由于富含金属 的氮化物薄膜42为非晶(amorphous)结构，半导体材料无法在富含金属的氮化物薄膜42 上外延成长，因此，第一缓冲层44的成长方向如第4B图中的箭号b所示，由未被富含金属 的氮化物薄膜42覆盖的基板40上向上成长，待第一缓冲层44的厚度大于富含金属的氮化 物薄膜42的厚度后，第一缓冲层44开始转为水平方向外延成长，同时第一缓冲层44中的 因晶格常数不匹配而产生的位错亦随着第一缓冲层44外延成长的方向由垂直向上转变为 向水平方向延伸。之后再于第一缓冲层44上形成一半导体叠层46，以形成一氮化镓半导体 元件400，其中半导体叠层46的材料为氮化镓系列材料，此外，半导体叠层46由下而上至少 包含一第一导电型半导体层460、一有源层462以及一第二导电型半导体层464。此外，亦可如图4D所示，在基板40上利用化学气相沉积法先成长一第二缓冲层 48，其材料为氮化镓或氮化铝，再于第二缓冲层48上形成一富含金属的氮化物薄膜42，此 富含金属的氮化物薄膜42仅覆盖部分第二缓冲层48的上表面，随后，再于富含金属的氮化 物薄膜42与第二缓冲层46上形成一第一缓冲层44，由此加强阻止半导体晶格缺陷向上延 伸的效果。图5A为以光学显微镜观察已知以氮化硅作为缓冲体所制成氮化镓半导体元件表 面的500倍放大图，而图5B为本专利技术以氮化镁硅作为富含金属的氮化物薄膜材料的氮化镓 半导体元件表面500倍放大图；由比较图5A与图5B可发现，图5B中半导体元件的表面缺 陷比图5A的半导体元件少；由此可知，以富含金属的氮化物薄膜取代氮化硅缓冲体能有效 地减少外延缺陷产生，提高外延品质。此外，本专利技术亦可广泛地应用于元件效率与外延品质攸关的半导体元件，例如发 光二极管(Light Emitting Diode，LED)上，尤其是对于外延品质要求严格的氮化镓紫外光 发光二极管(GaN UV LED)。图6A为本专利技术另一实施例的结构示意图，如图6A所示，一发 光二极管600包含一基板60，基板60的材料可以是蓝宝石(sapphire)、碳化硅(SiC)、硅 (Si)、氧化锌(SiO)、氮化镓(GaN)、金属或透明材料等；一富含金属的氮化物薄膜62于基板 60上，未完全覆盖基板60，其覆盖率约小于60%，其中富含金属的氮化物薄膜62优选地为 氮化镁硅，其结构优选地为一不连续的薄膜结构，例如形成多个区块或多岛状结构；一第一 缓冲层64，位于基板60与氮化镁硅薄膜62上，其材料为氮化本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种减少半导体外延位错发生的方法，包含：提供基板；形成金属的氮化物薄膜于该基板上；形成位错于该基板上；及改变该位错的延伸方向。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林义杰，郭政达，许育宾，蔡吉明，
申请(专利权)人：晶元光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71