磁记录介质的评价方法和制造方法技术

本发明专利技术提供一种磁记录介质的评价方法，所述磁记录介质是离散方式或者位图案方式磁记录介质，即使在其表面残留凹凸也有稳定的磁头浮起特性、并且能够适应高记录密度，本发明专利技术的评价方法能够以高生产效率提供该磁记录介质。这样的评价方法是在圆盘状基板的至少一个表面具磁记录图案、在表面具有与所述磁记录图案对应的凹凸的磁记录介质的评价方法，其特征在于，使安装有传感器的磁头滑块在旋转的所述磁记录介质的表面浮起走行，对所述磁头滑块和所述磁记录介质非接触状态下从所述传感器输出的信号进行检测，根据该信号来判断所述磁记录介质是否合格。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于硬盘装置等的磁记录介质的制造方法，尤其涉及磁记录介质的制 造中的表面检查工序。本申请基于2008年5月21日在日本申请的特愿2008-133198号主张优先权，在 此引用其内容。
技术介绍
近年来，磁盘装置、软盘装置、磁带装置等磁记录装置的应用范围显著扩大，其重 要性增加，并且对于这些装置所使用的磁记录介质，谋求显著提高其记录(存储)密度。特 别是，MRQ^l)头和PRML技术引入以来，面记录密度的上升更为激烈，近年来还导入了 GMR头、TMR头等，面记录密度的上升以一年大约100%的速度持续增加。对于这些磁记录介 质，要求今后实现更高的记录密度，为此要求实现磁性层的高顽磁力化和高信噪比(SNR)、 高分辨率。另外，近年来也在继续努力通过在提高线记录密度的同时增加磁道密度来使面 记录密度上升。在最新的磁记录装置中，磁道密度达到1 IOkTPI。但是，当磁道密度上升下去时，相 邻的磁道间的磁记录信息会相互干扰，其边界区域的磁化过渡区域会成为噪声源，容易产 生损害SNR的问题。就这样的话会牵涉到误码率(Bit Error rate，位出错率)的下降，因 此对于提高记录密度成为障碍。为了使面记录密度上升，需要将磁记录介质上的各记录位 (bit)的尺寸设为更细微的尺寸，需要在各记录位确保尽可能大的饱和磁化和磁性膜厚。但 是，当将记录位细微化下去时，每一位的磁化最小体积变小，会产生由于由热波动导致的磁 化反转而使记录数据消失的问题。另外，由于磁道间距离接近，因此磁记录装置要求精度极高的磁道伺服技术，与此 同时，为了尽可能地排除来自相邻磁道的影响，一般使用如下方法宽幅地执行记录，比记 录时窄地执行再生。该方法虽然能够将磁道间的影响抑制为最小限度，但是难以获得足够 的再生输出，因此，存在难以确保足够的SNR的问题。作为解决这样的热波动的问题、实现确保SNR或者确保足够的输出的方法之一， 进行了如下尝试在记录介质表面形成沿着磁道的凹凸，使记录磁道彼此物理分离或者磁 分离，由此提高磁道密度。以下将这样的技术称为离散磁道法，将通过该方法制造的磁记录 介质称为离散磁道介质。作为离散磁道介质的一个例子，已知如下磁记录介质在表面形成了凹凸图案的 圆盘状基板形成磁记录介质，形成进行了物理分离的磁记录磁道和伺服信号图案(例如， 参照专利文献1)。对于离散磁道介质，具有如下方法在形成了由几层薄膜形成的连续的磁记录层 之后对磁记录层进行物理加工来形成磁道的方法；在预先在基板表面形成了凹凸图案之 后，进行磁记录介质的薄膜形成的方法(例如，参照专利文献2、专利文献幻。其中，前者的 方法常被称为磁层加工型。另一方面，后者常被称为压花(emboss)加工型。另外，公开有如下方法通过将氮离子和/或氧离子注入至预先形成的磁性层，或 者通过照射激光，从而形成离散磁道介质的磁道间区域(参照专利文献4)。作为通过上述方法制造的磁记录介质的全部的检查工序，有滑行(glide)检查工 序和认证(certify)检查工序。所说的滑行检查工序，是检查磁记录介质的表面是否没有突起物的工序。即，在 使用磁头对磁记录介质进行记录再生时，当介质面有高度为介质和磁头的间隔以上的突起 时，则磁头会碰上突起，会使磁头损伤，另外，会成为在介质产生缺陷的原因。在本工序中检 查有没有这样高的突起(例如，参照专利文献幻。本工序中，进行磁记录介质表面的突起物 的检查，不进行对于磁记录介质的信号的记录再生。对于通过(pass) 了滑行检查工序的磁记录介质，实施认证检查。所说的认证检查 工序，对于磁记录介质，如通常的硬盘驱动器的记录再生那样，在通过磁头记录了预定的信 号之后，对该信号进行再生，根据所得到的再生信号来确认电特性和/或者有无缺陷等介 质的品质(例如，参照专利文献6)。专利文献1 日本特开2004-164692号公报专利文献2 日本特开2004-178793号公报专利文献3 日本特开2004-178794号公报专利文献4 日本特开平5-205257号公报专利文献5 日本特开平10-105908号公报专利文献6 日本特开2003-257016号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题在离散方式、或者位图案方式的磁记录介质的制造时，一般形成了在表面具有凹 凸形状的磁性层之后，在其凹部填充非磁性材料，使表面平滑。对此，在采用了在磁性层的 表面形成与磁记录图案对应的掩模层，通过离子注入等使磁性层部分非磁性化，在磁性层 形成磁记录图案的方法的情况下，即使不进行非磁性材料的填充，该磁记录介质的表面也 是平滑的。对于这样的制造方法，本专利技术者开发了如下方法对于磁性层的表面，与磁记录图 案对应地设置掩模层，使该表面与氧气等进行化学反应，使磁性层部分非磁性化。发现在采 用该方法的情况下，仅除去了磁性层的反应区域表面时，氧气等与磁性层的反应性会增加。 通过该制造方法得到的磁记录介质，虽然在其表面与磁记录图案对应地产生一点点凹凸， 对于该凹凸，优选在凹部填充非磁性材料来进行平滑化。但是，填充非磁性材料的平滑化工艺会导致使磁记录介质的表面污染的可能性变 高，并且，制造工艺变复杂、磁记录介质的成本增加。本专利技术的课题在于以高生产效率提供一种离散方式、或者位图案方式的磁记录 介质，该磁记录介质即使在表面残存凹凸，磁头的浮起特性也是稳定的，能够适合高记录密度。用于解决课题的手段本专利技术者为了解决如下问题而进行了解析，该问题为在使用了表面残留有若干凹凸的磁记录介质的硬盘驱动器中，内置的磁记录介质虽然通过了通常的滑行检查工序和 /或认证检查工序，但存在磁头破损的情况。其结果，发现当磁头在磁记录介质的磁记录 图案部浮起时，磁头在数据区域与伺服信息区域的边界部会振动，由于该振动，磁头会与磁 记录介质瞬间接触而发生破损。并且，对磁头在数据区域与伺服信息区域的边界部的振动 进行了详细解析，发现该振动的大小与磁记录介质的图案形成的微小的不均勻性成比例， 另外，通过将该振动的大小为一定以上的磁记录介质判定为不合格品而将其排除，由此能 够制造硬盘驱动器的故障率低的磁记录介质，从而完成了本专利技术。即，本专利技术涉及如下方 案。(1) 一种磁记录介质的评价方法，所述磁记录介质在圆盘状基板的至少一个表面 具有磁记录图案，在表面具有与所述磁记录图案对应的凹凸，所述评价方法的特征在于，使 安装有传感器的磁头滑块在旋转的所述磁记录介质的表面浮起走行，对所述磁头滑块和所 述磁记录介质非接触状态下从所述传感器输出的信号进行检测，根据该信号判断所述磁记 录介质是否合格，所述磁头滑块和所述磁记录介质非接触状态下从所述传感器输出的信 号，是由于与所述磁记录图案对应的所述凹凸而产生的信号。(2)根据上述(1)所述的磁记录介质的评价方法，其特征在于，所述磁头滑块和所 述磁记录介质非接触状态下从所述传感器输出的信号，是由于所述磁头滑块的浮起的不稳 定性而产生的信号。(3)根据上述(1)或( 所述的磁记录介质的评价方法，其特征在于，安装在所述 磁头滑块的所述传感器为压电传感器，检测的信号是由于所述磁头滑块的振动而产生的信号。(4)根据上述(1) (3)中的任一项所述的磁记录介质的评价方法，其特征在于， 所述磁记录图案包括数据区域和伺服信息区域，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录介质的评价方法，所述磁记录介质在圆盘状基板的至少一个表面具有磁记录图案，在表面具有与所述磁记录图案对应的凹凸，所述评价方法的特征在于，　　使安装有传感器的磁头滑块在旋转的所述磁记录介质的表面浮起走行，对所述磁头滑块和所述磁记录介质非接触状态下从所述传感器输出的信号进行检测，根据该信号判断所述磁记录介质是否合格，　　所述磁头滑块和所述磁记录介质非接触状态下从所述传感器输出的信号，是由于与所述磁记录图案对应的所述凹凸而产生的信号。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2008-5-21 133198/20081.一种磁记录介质的评价方法，所述磁记录介质在圆盘状基板的至少一个表面具有磁 记录图案，在表面具有与所述磁记录图案对应的凹凸，所述评价方法的特征在于，使安装有传感器的磁头滑块在旋转的所述磁记录介质的表面浮起走行，对所述磁头滑 块和所述磁记录介质非接触状态下从所述传感器输出的信号进行检测，根据该信号判断所 述磁记录介质是否合格，所述磁头滑块和所述磁记录介质非接触状态下从所述传感器输出的信号，是由于与所 述磁记录图案对应的所述凹凸而产生的信号。2.根据权利要求1所述的磁记录介质的评价方法，其特征在于，所述磁头滑块和所述磁记录介质非接触状态下从所述传感器输出的信号，是由于所述 磁头滑块的浮起的不稳定性而产生的信号。3.根据权利要求1或...

【专利技术属性】
技术研发人员：福岛正人，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]