【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。 本申请基于2007年7月18日在日本申请的特愿2007-187253号主张优先权，将 其内容合并于此。
技术介绍
以往，硬盘等中使用的磁记录介质，通过构成磁记录层的磁性粒子的微细化、材料 的变更、磁头加工的微细化等改良而实现了面记录密度的大幅提高。然而，对于面记录密 度的进一步提高，由于磁头的加工限度、磁头的记录磁场扩大而引起对与记录对象的磁道 (记录要素)邻接的磁道的错误的信息记录、再生时串扰等问题明显化，用现有方法来提高 面记录密度已达到极限。 目前已知，为了进一步提高面记录密度，在磁记录层中，相互邻接的磁道的边界部 分形成槽，将邻接的磁道之间磁分离而得到的磁记录介质(例如参照专利文献l)。这种磁 记录介质被称为分离磁道型磁记录介质等，由于邻接的磁道之间通过槽被物理性地分离， 不会产生对邻接磁道的错误记录、串扰等问题，作为可进一步提高面记录密度的磁记录介 质而备受期待。 在这种磁记录层中具备槽的磁记录介质的制造中，目前已知在非磁性的基板自身 上形成槽，在该基板上层压软磁性层、磁记录层，由此仿照形成在基板上的槽的形状而在磁 记录层中形成槽的制...
【技术保护点】
一种垂直磁记录介质的制造方法，所述垂直磁记录介质包括基板、形成在该基板上的软磁性层、直接或夹着中间层形成在该软磁性层上的具有对于表面垂直的易磁化轴的磁记录层，所述磁记录层中形成有将所述磁记录层分离为多个记录要素的多个槽，所述制造方法的特征在于，具备：将形成在所述磁记录层的上层的硬掩模层作为掩模，通过使用至少含有卤素和氧的气体的反应性离子蚀刻来形成所述各槽的工序。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-7-18 187253/2007一种垂直磁记录介质的制造方法，所述垂直磁记录介质包括基板、形成在该基板上的软磁性层、直接或夹着中间层形成在该软磁性层上的具有对于表面垂直的易磁化轴的磁记录层，所述磁记录层中形成有将所述磁记录层分离为多个记录要素的多个槽，所述制造方法的特征在于，具备将形成在所述磁记录层的上层的硬掩模层作为掩模，通过使用至少含有卤素和氧的气体的反应性离子蚀刻来形成所述各槽的工序。2. 根据权利要求1所述的垂直磁记录介质的制造方法，所述各槽以达到所述中间层的 中途中的深度形成，从而不暴露所述软磁性层。3. 根据权利要求1所述的垂直磁记录介质的制造方法，至少通过所述软磁性层与所述 磁记录层之间产生的蚀刻速度差，除去对所述各槽的侧壁附着的附着物，并直至所述软磁 性层的一面附近的深度来形成所述各槽...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。