用于负性工作平版印刷板的可成像元件和方法技术

可以使用红外辐射成像的可成像元件包含在亲水性基材上的可成像层和保护性外涂层。所述可成像层包括ＩＲ－敏感性花青染料。所述保护性外涂层主要包含一种或多种聚（乙烯醇）树脂，其中每一种具有８５％或更低的水解水平。与所述ＩＲ－敏感性花青染料结合使用的这种特定外涂组合物的使用对由白光引起的成雾提供改进的耐受度，同时维持所需的成像速度。所述可成像元件用于负性工作平版印刷板。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有改进的白光耐受度的可成像元件例如负性工作平 版印刷板(版)前体。本专利技术还涉及这些可成像元件的使用方法。
技术介绍
辐射敏感性组合物通常用于制备可成像材料，包括平版印刷板前体。此类组合物通常包括辐射^:感性组分、引发剂体系和粘结剂，它们 中的每一种已经是提供物理性能、成像性能和图像特性方面的各种改进 的研究焦点。印刷一反前体领域的最新发展涉及使用辐射每丈感性组合物，该组合物 可以借助于激光或激光二极管成像，并且更具体地说，可以在印刷机上 (在机)(on-press)成像和/或显影。自从激光可以通过计算机直接地 控制，激光曝光不要求常规的卣化银图形技术膜作为中间信息载体(或 掩模)。用于商购图像照排机的高性能激光器或激光二极管通常发出 波长至少700 nm的辐射，并因此要求该辐射敏感性组合物在电磁波i普的 近红外或红外区中是壽丈感的。然而，其它有用的辐射壽丈感性组合物经i殳 计采用紫外线或可见辐射成像。存在两种可能的使用辐射敏感性组合物制备印刷板的方法。对于负 性工作印刷板，使辐射敏感性组合物中的曝光区域硬化并在显影期间洗 刷掉未曝光的区域。对于正性工作印刷板，将曝光区域溶于显影剂并且 未曝光的区域变成图像。各种辐射组合物和可成像元件在美国专利6,309,792 (Hauck等)、 6,893,797 ( Munnelly等)、6,787,281 ( Tao等)和6,899,994 ( Huang等)、 美国专利申请公开2003/01 18939 (West等)和EPl,079,276Al ( Lifka等) 和EP 1,449,650A1 (Goto)中进行了描述。其它负性工作可成像元件例如在美国专利6,916，595 (Fujimaki等)、 6,702,437( Fujimaki等)和6,727,044( Fujimaki等)、日本Kokai 2000-187322 (Mitsubishi Chemical Co.)和美国专利申请公开2004/0131972 ( Fujimaki 等)、2005/0031986( Kakino等)、2006/0068328( Aimura等)和2006/0199097(Oda等)中进行了描述。负性工作可成像元件还经设计带有对氧渗透提供较低阻隔的外涂 层，例如EP 1,296,187A2 (Oshima)中所述那样。此类外涂层f然包括 比聚(乙烯醇)更透氧的聚合物。待解决的问题在本领域中描述的各种负性工作组合物和元件具有许多期望的性 能，包括耐显影和印刷中使用的化学溶液性、工作时间、存储稳定性和 成像敏感性。 一些这样的元件经设计带有布置在负性工作可成像层上的 保护性外涂层或隔氧层。然而，仍需要改进当暴露于环境室内光(白光)下时这些元件必 须成雾的抗性。成雾通常观察到为在元件表面上的油墨接受污迹，原 因在于可成像层涂层耐得住显影并当不需要它时仍保留下来。虽然一些 早期的元件被认为在环境照明下具有足够的抗成雾性，但是大型生产设 施中的曝光条件难以控制并且消除这种受关注的潜在问题将是所希望 的。专利技术概述本专利技术提供包括其上具有可成像层的基材的可成像元件，该可成像 层包含可自由基聚合的组分，引发剂组合物，该引发剂组合物在暴露于成像辐射下时能够产生足 以引发可自由基聚合基团的聚合的自由基，该引发剂组合物包含硼酸二 芳基碘铩，具有连接杂环基的次曱基链的红外辐射吸收性花青染料，其中所述 次曱基链是至少7个碳原子长，和 主聚合物粘结剂，和该可成像元件还包括布置在该可成像层上的外涂层，该外涂层主要 包含水解水平等于或小于85%的聚(乙烯醇)。在可成像元件的一些实施方案中，基材是电化学磨版、硫酸阳极化、 聚(乙烯基膦酸)涂布的平版印刷铝基材，可自由基聚合的组分包含可自由基聚合的单体或低聚物，200880017816.8引发剂组合物包含基于所述可成像层的总干重按0.5-30wt。/。的量存 在的并由以下结构(IB)表示的硼酸二芳基碘牵翁(IB)其中X和Y独立地是卣素、烷基、烷氧基、芳基或环烷基，或两个或更 多个相邻的X或Y基团可以结合以形成具有各自的苯基的稠合碳环或杂 环，条件是在X和Y取代基中或稠环中的碳原子之和至少是6, p或q是至少l, Ze是由以下结构(IBZ)表示的有机阴离子其中Ri、 R2、 R3和R4独立地是烷基、芳基、烯基、炔基、环烷基或杂环 基，条件是Ri、 R2、 R3和R4中至少3个是相同或不同的取代或未取代的 芳基，红外辐射吸收性花青染料基于所述可成像层的总干重按l-30wt。/。的 量存在并由以下结构(DYE-I)表示 '、、 个1, 2'f3, ',、V'、、^-c+c-c+o; /' 、' B n 'Rl0' ZP Rii'(DYE-I)其中R 、 R2'和R3'独立地是氢或卤素、氰基、烷氧基、酰氧基、芳氧基、 氨基甲酰基、酰基、酰基酰氨基、烷基氨基、芳基、烷基、环烷基、芳 氨基、杂芳基、苯硫基、哌嗪基、吗啉基或硫代四唑基，或RA R2'和R3'中任何两个可以接合在一起或与相邻的杂环接合以完成5-至7-元^ 友环10R R或杂环，Z和Z'独立地表示与所示的氮原子形成5-至14-元杂环所必要的 碳、氮、氧或硫原子，Ru)'和Rn'独立地是烷基、环烷基或芳基，s是至 少3, Z2e是单价阴离子，和主聚合物粘结剂包含基于所述可成像层的总干重按10-90wt。/o的量 存在的聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)杂化物的颗粒，和并且还包含基于所述可成像层的总干重按1.5-70wt。/。的量存在并包 含一种或多种聚合物的副聚合物粘结剂，所述一种或多种聚合物包含具 有羧基或衍生自一种或多种(曱基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、N-取代的(曱基)丙烯酰胺、苯乙烯或苯乙烯衍生物、乙烯醇缩醛、N-取 代的环酰亚胺、马来酸酐、乙烯基^唑、二乙烯基单体、(曱基)丙烯 腈、聚(亚烷基二醇)或聚(亚烷基二醇)(曱基)丙烯酸酯的重复单 元5 和外涂层主要包含一种或多种聚(乙烯醇)，其中每一种具有75%且 至多和等于85%的水解水平。本专利技术还提供包括以下步骤的方法A) 使用成像红外辐射将本专利技术的可成像元件成像曝光，以产生曝 光和未曝光区域，和B) 在有或者没有曝光后烘烤步骤的情况下，将该成像曝光的元件 显影以仅除去该未曝光区域。在优选的实施方案中，这种方法提供具有平版印刷亲水性基材的平 版印刷板，该亲水性基材接受润版水溶液并排斥油墨。出人意料地发现，本专利技术的负性工作可成像元件当暴露到环境照明 条件中保持延长的时间时(例如，具有600 nm或更小波长的白光，在 600 lux下曝光至少2小时)具有改进的抗成雾性。此外，找到了一种为 成雾问题提供这种解决方案的方法，而不会损失成像速度或敏感度。另 外，可成像元件还具有所需的耐化学品性、工作时间和保存限期。通过在可成像元件中使用辐射敏感性组合物获得了这些优点，所述 可成像元件包括特定的红外辐射敏感性花青染料，并让特殊的聚(乙烯 醇)作为外涂层或隔氧层中的主要聚合物粘结剂。有用的花青染料具有 连接两个杂环基的含至少7个碳原子的次曱基链。外涂层中的主要外涂层聚合物粘结剂是具有85%或更低的水解水平的聚(乙烯醇)。在没有 该独特本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包括其上具有可成像层的基材的可成像元件，该可成像层包含：　可自由基聚合的组分，　引发剂组合物，该引发剂组合物在暴露于成像辐射下时能够产生足以引发可自由基聚合基团的聚合的自由基，所述引发剂组合物包含硼酸二芳基碘鎓，　具有 连接杂环基的次甲基链的红外辐射吸收性花青染料，其中所述次甲基链是至少７个碳原子长，和　主聚合物粘结剂，和　所述可成像元件还包括布置在所述可成像层上的外涂层，所述外涂层主要包含水解水平等于或小于８５％的聚（乙烯醇）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2007-5-31 11/756,0361.一种包括其上具有可成像层的基材的可成像元件，该可成像层包含可自由基聚合的组分，引发剂组合物，该引发剂组合物在暴露于成像辐射下时能够产生足以引发可自由基聚合基团的聚合的自由基，所述引发剂组合物包含硼酸二芳基碘鎓，具有连接杂环基的次甲基链的红外辐射吸收性花青染料，其中所述次甲基链是至少7个碳原子长，和主聚合物粘结剂，和所述可成像元件还包括布置在所述可成像层上的外涂层，所述外涂层主要包含水解水平等于或小于85％的聚(乙烯醇)。2. 权利要求1的元件，其中所述基材是含铝基材，该含铝基材具有其 上布置有所述可成像层的亲水性表面。3. 权利要求1的元件，其中所述外涂层以0.1-4g/n^的干覆盖度存在。4. 权利要求1的元件，其中所述外涂层主要包含一种或多种具有60% 且至多和等于85%的水解水平的聚(乙烯醇)树脂。5. 权利要求1的元件，其中所述主聚合物粘结剂包含分布在整个所述 可成像层中的离散颗粒，所述离散颗粒占所述可成像层总干重的 10-70wt%。6. 权利要求1的元件，其中所述硼酸二芳基碘铺由以下结构(IB)表示(IB)其中X和Y独立地是卣素、烷基、烷氧基、芳基或环烷基，或两个或更环，p和q独立地是0或l至5的整数，和Ze是由以下结构(IBZ)表示的有 机阴离子<formula>formula see original document page 3</formula> r/ 、 (IBz)其中R4、 R2、 R3和R4独立地是烷基、芳基、烯基、炔基、环烷基或杂环 基，或Ra、 R2、 R3和R4中两个或更多个可以连在一起与该硼原子形成杂环。7. 权利要求6的元件，其中R!、 R2、 R3和R4中的至少3个是相同或不 同的取代或未取代的芳基。8. 权利要求6的元件，其中p或q是至少1且X和Y取代基中或稠环中的 碳原子之和是至少6。9. 权利要求1的元件，其中所述可自由基聚合的组分包含烯属不饱和 可自由基聚合单体或低聚物，或可自由基交联的聚合物。10. 权利要求1的元件，其中所述红外辐射吸收性花青染料包含连接 两个含N杂环基的所述次甲基链，所述杂环基包含至少两个稠环，其中 所述稠环之一 中的至少 一个氮原子是季氮原子。11. 权利要求l的元件，还包含1.5-40wtn/。副聚合物粘结剂，基于所 述可成像层的总干重计。12. 权利要求1的元件，它是为脱印刷机显影设计的平版印刷前体。13. 权利要求1的元件，其中所述基材是电化学磨版、硫酸阳极化、 聚(乙烯基膦酸)涂布的平版印刷铝基材，所述可自由基聚合的组分包含可自由基聚合的单体或低聚物， 所述引发剂组合物包含基于所述可成像层的总干重按0.5-30wt。/o的 量存在的并由以下结构(IB)表示的硼酸二芳基碘铩(IB)<formula>formula see original document page 3</formula>其中X和Y独立地是卣素、烷基、烷氧基、芳基或环烷基，或两个或更多个相邻的X或Y基团可以结合以形成具有各自的苯基的稠合碳环或杂环，条件是在X和Y取代基中或稠环中的碳原子之和至少是6， p或q是至少l, Ze是由以下结构(IBZ)表示的有机阴离子<formula>formula see original document page 4</formula>其中R^、 R2、 R3和R4独立地是烷基、芳基、烯基、炔基、环烷基或杂环基，条件是R!、 R2、 R3和R4中至少3个是相同或不同的取代或未取代的芳基，所述红外辐射吸收性花青染料基于所述可成像层的总干重按l-30wt。/。的量存在并由以下结构(DYE-I)表示其中R 、 R2'和R3'独立地是氢或卣素、氰基、烷氧基、酰氧基、芳氧基、氨基曱酰基、酰基、酰基酰氨基、烷基氨基、芳基、烷基、环烷基、芳氨基、杂芳基、苯硫基、哌嗪基、吗啉基或硫代四唑基，或R卩、R2'和R3'中任何两个可以接合在一起或与相邻的杂环接合以完成5-至7-元碳环或杂环，Z和Z'独立地表示与所示的氮和碳原子形成5-至14-元杂环所必要的碳、氮、氧或硫原子，Rn)'和Ru'独立地是烷基、环烷基或芳基，s是至少3，和Z2S是单价阴离子，和所述主聚合物粘结剂包含基于所述可成像层的总干重按10-90wt%的量存在的聚(...

【专利技术属性】
技术研发人员：J于，KB雷，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]