阴图制版平版印刷版前体制造技术

阴图制版平版印刷版前体具有改善的可烘烤性和优良的贮存期限，并且可使用UV或红外辐射进行成像。这些前体具有阴图制版可成像层，所述阴图制版可成像层具有独特的聚合物粘合剂，所述聚合物粘合剂包含聚合物主链，并且另外包含以随机顺序沿着所述聚合物主链分布的至少(a)和(b)侧基。所述(a)侧基是烯键式不饱和的可聚合基团，并且所述(b)侧基由本公开中描述的结构(I)、(II)和(III)定义。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】专利
本专利技术涉及阴图制版平版印刷版前体。本专利技术还提供用于成像并冲洗这些阴图制版平版印刷版前体以提供平版印刷版的方法，所述平版印刷版因为在前体可成像层中的独特的聚合物粘合剂而显示出改善的印刷运行长度(runlength)。专利技术背景在平版印刷中，平印油墨接受区域(称为图像区)在亲水表面上生成。当用水润湿表面并且施加平印油墨时，亲水区域保留水并且排斥平印油墨，而平印油墨接受区域接收平印油墨并且排斥水。随后将平印油墨转移到欲在其上再现图像的合适材料的表面上。在一些情况下，可首先将平印油墨转移到中间橡皮布(intermediateblanket)上，该中间橡皮布随后用于将平印油墨转移到欲在其上再现图像的材料表面上。可用于制备平版(或胶版(offset))印刷版的平版印刷版前体典型地包含施加在基底(或中间层)的亲水表面之上的一个或更多个可成像层。可成像层(一个或更多个)可包含分散在合适的粘合剂之内的一种或更多种辐射敏感组分。在成像之后，通过合适的显影剂除去可成像层(一个或更多个)的曝光区域或未曝光区域，露出基底的下层亲水表面。如果曝光区域被除去，则认为元件是阳图制版的。相反地，如果未曝光区域被除去，则认为元件是阴图制版的。在各情况下，剩余的可成像层(一个或更多个)的区域是平印油墨接受区域，并且通过显影工艺露出的亲水表面的区域接收水或水溶液(典型地为润版液)，并且排斥平印油墨。“激光直接成像”方法(LDI)用于使用来自计算机的数字数据来直接形成胶版印刷版或印刷电路板，并且提供优于使用掩蔽照相软片的先前工艺的众多优势。从更有效的激光器、改善的可成像组合物及其组分来看，该领域已有了相当大的发展。各种辐射敏感组合物用在阴图制版平版印刷版前体中，如，例如在美国专利6,309,792(Hauck等人)、6,893,797(Munnelly等人)、6,727,281(Tao等人)、6,899,994(Huang等人)、6,919,411(Fujimako等人)、8,137,896(Patel等人)和7,429,445(Munnelly等人)、美国专利申请公开2002/0168494(Nagata等人)、2003/0118939(West等人)和EP公开1,079,276A2(Lifka等人)及1,449,650A2(Goto等人)中所描述。许多其它公开提供关于此类包含必要的成像化学的阴图制版辐射敏感组合物分散在合适的聚合物粘合剂之内的细节。在成像之后，使阴图制版平版印刷版前体显影(冲洗)，以除去可成像层的未成像(未曝光)区域。近年来，胶版平版印刷版已不得不满足对于耐溶剂性和耐普通印刷车间化学品(诸如版清洁剂或橡皮布洗涤溶液和润版液中的醇替代品)性的日益增长的需要。具体而言，当用UV固化油墨印刷(其中使用具有高含量的酯、醚或酮的洗涤溶液)时，除非使它们经受特殊的稳定工艺，否则常规的平版印刷版，特别是阴图制版平版印刷版的耐化学性不再足够。还期望平版印刷版显示高耐磨性以及改善的耐化学性。用相同的化学组合物并不总是可能实现两种性质。可改善耐磨性的(组合物)可能不影响耐化学性。此外，可改善耐化学性的特征可能降低成像敏感度。还可通过烘烤经成像并且冲洗的平版印刷版来增加所需的耐化学性。然而，并非所有成像制剂都适于烘烤来提供耐化学性。美国专利8,137,891(Jarek等人)描述了独特的聚合物粘合剂，其可用在阴图制版平版印刷版前体和阳图制版平版印刷版前体二者中，以改善可烘烤性并且因此改善耐化学性。然而，存在增加感光速度(photospeed)以满足平版印刷客户的需要。因此，虽然先前的用于平版印刷版前体的化学耐受聚合物粘合剂的研究和发展已提供一些改善，但技术具有进一步改善的空间。虽然已知的聚合物粘合剂已提供改善的耐化学性，但期望提供甚至更多的可烘烤性的改善，以便提供更高的冲洗速度、优良的贮存期限和运行长度。
技术实现思路
本专利技术提供对阴图制版平版印刷版前体的改善，所述阴图制版平版印刷版前体包含基底，并且具有在所述基底上的阴图制版可成像层，所述阴图制版可成像层包含：可自由基聚合的组分，引发剂组合物，当暴露于辐射时，所述引发剂组合物能够生成自由基，辐射吸收剂，和聚合物粘合剂，所述聚合物粘合剂包含聚合物主链，并且另外包含以随机顺序沿着聚合物主链分布的至少(a)和(b)侧基，其中(a)和(b)侧基如下：(a)侧基包含烯键式不饱和的可聚合基团，并且(b)侧基包含由以下结构(I)、(II)和(III)代表的一种或更多种基团：其中：各R’独立地为氢、或经取代或未经取代的烷基或经取代或未经取代的芳基，R2、R2a、R3、和R3a独立地为氢或经取代或未经取代的烷基，或R2和R3或R2a和R3a与它们所键合的两个碳原子一起形成经取代或未经取代的芳基、经取代或未经取代的杂芳基、或经取代或未经取代的碳环基团或杂环基团，R4为氢或经取代或未经取代的烷基，L和L’独立地为二价经取代或未经取代的连接基团，n为0或1，r、s、t和u独立地为0或1，条件是如果R2和R2a所键合的碳原子是-C＝C-双键的部分，则r和s中的一个为0，并且另外条件是如果R3和R3a所键合的碳原子是-C＝C-双键的部分，则t和u中的一个为0，并且结构II中的虚线表明双键可存在或可不存在，其中(a)侧基以至少0.5mmol/g的聚合物粘合剂和至多并包括7mmol/g的聚合物粘合剂的量存在，并且(b)侧基以至少0.5mmol/g的聚合物粘合剂和至多并包括7mmol/g的聚合物粘合剂的量存在。存在于用在本专利技术中的聚合物粘合剂中的有利的聚合物主链可包含任何聚合物粘合剂，诸如聚酯主链、聚氨酯主链、聚酰胺主链、聚乙烯醇缩醛主链或聚丙烯酸主链。在本专利技术的阴图制版平版印刷版前体的一些特别有用的实施方式中，聚合物粘合剂包含聚合物主链，所述聚合物主链具有以随机顺序沿着主链排列的以下重复单元：相同或不同的包含侧基的-A-重复单元，所述侧基包含烯键式不饱和的可聚合基团，相同或不同的-B-重复单元，其由以下结构(Ia)、(IIa)或(IIIa)代表：其中：R和R1各自独立地为氢、氰基、经取代或未经取代的烷基、或卤素，各R’独立地为氢、或经取代或未经取代的烷基或经取代或未经取代的芳基，R2、R2a、R3和R3a独立地为氢或经取代或未经取代的烷基，或R2和R3或R2a和R3a与它们所键合的两个碳原子一起形成经取代或未经取代的芳基、经取代或未经取代的杂芳基、或经取代本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阴图制版平版印刷版前体，其包含基底，并且具有在所述基底上的阴图制版可成像层，所述阴图制版可成像层包含：可自由基聚合的组分，引发剂组合物，当暴露于辐射时，所述引发剂组合物能够生成自由基，辐射吸收剂，和聚合物粘合剂，所述聚合物粘合剂包含聚合物主链，并且另外包含以随机顺序沿着所述聚合物主链分布的至少(a)和(b)侧基，其中所述(a)和(b)侧基如下识别：(a)侧基包含烯键式不饱和的可聚合基团，并且(b)侧基包含由以下结构(I)、(II)和(III)代表的一种或更多种基团：其中：各R’独立地为氢、或经取代或未经取代的烷基或经取代或未经取代的芳基，R2、R2a、R3和R3a独立地为氢或经取代或未经取代的烷基，或R2和R3或R2a和R3a与它们所键合的两个碳原子一起形成经取代或未经取代的芳基、经取代或未经取代的杂芳基、或经取代或未经取代的碳环基团或杂环基团，R4为氢或经取代或未经取代的烷基，L和L’独立地为二价经取代或未经取代的连接基团，n为0或1，r、s、t和u独立地为0或1，条件是如果R2和R2a所键合的碳原子是‑C＝C‑双键的部分，则r和s中的一个为0，并且另外条件是如果R3和R3a所键合的碳原子是‑C＝C‑双键的部分，则t和u中的一个为0，并且结构II中的虚线表明双键可存在或可不存在，其中所述(a)侧基以至少0.5mmol/g的所述聚合物粘合剂和至多并包括7mmol/g的所述聚合物粘合剂的量存在，并且所述(b)侧基以至少0.5mmol/g的所述聚合物粘合剂和至多并包括7mmol/g的所述聚合物粘合剂的量存在。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.10.03 US 14/0449121.一种阴图制版平版印刷版前体，其包含基底，并且具有在所述基底上的阴图制版可
成像层，所述阴图制版可成像层包含：
可自由基聚合的组分，
引发剂组合物，当暴露于辐射时，所述引发剂组合物能够生成自由基，辐射吸收剂，和
聚合物粘合剂，所述聚合物粘合剂包含聚合物主链，并且另外包含以随机顺序沿着所
述聚合物主链分布的至少(a)和(b)侧基，其中所述(a)和(b)侧基如下识别：
(a)侧基包含烯键式不饱和的可聚合基团，并且
(b)侧基包含由以下结构(I)、(II)和(III)代表的一种或更多种基团：
其中：
各R’独立地为氢、或经取代或未经取代的烷基或经取代或未经取代的芳基，
R2、R2a、R3和R3a独立地为氢或经取代或未经取代的烷基，或R2和R3或R2a和R3a与它们所键
合的两个碳原子一起形成经取代或未经取代的芳基、经取代或未经取代的杂芳基、或经取
代或未经取代的碳环基团或杂环基团，
R4为氢或经取代或未经取代的烷基，
L和L’独立地为二价经取代或未经取代的连接基团，
n为0或1，
r、s、t和u独立地为0或1，条件是如果R2和R2a所键合的碳原子是-C＝C-双键的部分，则r
和s中的一个为0，并且另外条件是如果R3和R3a所键合的碳原子是-C＝C-双键的部分，则t和
u中的一个为0，并且
结构II中的虚线表明双键可存在或可不存在，
其中所述(a)侧基以至少0.5mmol/g的所述聚合物粘合剂和至多并包括7mmol/g的所述
聚合物粘合剂的量存在，并且所述(b)侧基以至少0.5mmol/g的所述聚合物粘合剂和至多并
包括7mmol/g的所述聚合物粘合剂的量存在。
2.权利要求1所述的阴图制版平版印刷版前体，其中所述聚合物粘合剂包含聚氨酯主
链、聚酯主链、聚酰胺主链、聚乙烯醇缩醛主链或聚丙烯酸主链。
3.权利要求1所述的阴图制版平版印刷版前体，其中所述聚合物粘合剂包含聚合物主
链，所述聚合物主链具有以随机顺序沿着所述主链排列的以下重复单元：
相同或不同的包含侧基的-A-重复单元，所述侧基包含烯键式不饱和的可聚合基团，
相同或不同的-B-重复单元，其由以下结构(Ia)、(IIa)或(IIIa)代表：
其中R和R1各自独立地为氢、氰基、经取代或未经取代的烷基、或卤素，和
任选地，不同于所述-A-和-B-重复单元的相同或不同的-C-重复单元。
4.权利要求1所述的阴图制版平版印刷版前体，其中所述(a)侧基以至少1mmol/g的所
述聚合物粘合剂和至多并包括4mmol/g的所述聚合物粘合剂的量存在，并且所述(b)侧基以
至少1mmol/g的所述聚合物粘合剂和至多并包括4mmol/g的所述聚合物粘合剂的量存在。
5.权利要求3所述的阴图制版平版印刷版前体，其中所述聚合物粘合剂包含至少
30mol％和至多并包括70mol％的量的-A-重复单元、至少20mol％和至多并包括70mol％的
量的-B-重复单元，以及至少10mol％和至多并包括40mol％的量的-C-重复单元，以上皆基
于所述聚合物粘合剂中的总重复单元。
6.权利要求3所述的阴图制版平版印刷版前体，其中所述聚合物粘合剂另外包含选自-
C(＝O)-NH2基、酸性基和-[(CH2-CRy-O)]m-Rx基的一种或更多种(c)侧基，其中Ry和Rx独立地
为氢或甲基，并且m至少为1和至多并包括20，并且所述(c)侧基的总量为至少0.2mmol/g的
所述聚合物粘合剂和至多并包括4mmol/g的所述聚合物粘合剂。
7.权利要求3所述的阴图制版平版印刷版前体，其中所述聚合物粘合剂包含：
-A-重复单元，其衍生自(甲基)丙烯酸烯丙酯，
-B-重复单元，其由结构(Ia)代表，其中R4为氢或具有1至4个碳原子的经取代或未经取
代的烷基，并且L为亚甲基，和
-C-重复单元，其包含侧位-C(＝O)-NH2基、酸性基或-[(CH2-CRy-O)]m-Rx基，其中Ry和Rx独立地为氢或甲基，并且m从1且上至并包括20。
8.权利要求1所述的阴图制版平版印刷版前体，其中所述辐射吸收剂为：
红外辐射吸收剂，其有效地吸收在至少700nm和至多并包括1400nm...

【专利技术属性】
技术研发人员：CD辛普森，H鲍曼，U德瓦斯，M弗卢格尔，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：发明
国别省市：美国;US