用于基于网的处理的无掩模平版印刷制造技术

本公开案总体涉及一种用于处理基于网的基板的方法和设备。当所述基板在辊之间行进时，所述基板可被拉伸并且因而扭曲。一旦所述基板到达所述辊处，所述基板扭曲就会固定。通过调整处理参数，所扭曲的基板得以处理，而不需要校正所述扭曲。

Maskless lithography for web based processing

The disclosure generally relates to a method and apparatus for processing a substrate based on a network. When the substrate travels between rollers, the substrate can be stretched and distorted. When the substrate reaches the roller, the substrate distortion is fixed. By adjusting the processing parameters, the distorted substrate is processed without the need to correct the distortions.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】背景领域本公开案的实施方式涉及一种用于处理基于网的基板(web-basedsubstrate)的方法和设备。相关技术描述在基于网的基板处理中，基板移动过辊，并且在一或多个处理位置处进行处理。与静态处理相反，基于网的基板可以在基板连续移动通过系统时进行处理。因此，基板位置不断改变，这种情况在基于网的基板处理中尤为明显。基于网的基板行进过辊。当在该辊上时，基板位置一般是固定的。然而，在辊与辊之间，基板会被拉伸或垂直/侧向于基板所行进的路径移动。换句话说，基板可能游移(wander)，使得当基板遇到该辊时，就基于网的基板的整个长度而言，基板并非在辊上的相同位置。除了游移之外，基板会被扭曲，使得基板相对于基板移动方向侧向地“挤成一团(bunchup)”或压缩。当所扭曲的基板到达辊处时，扭曲一般固定，使得这种扭曲不会由于该基板的部分与辊接触发生改变。然而，处理所扭曲的基板可能导致许多问题，因为扭曲可能在基板移动通过系统时沿基板的长度发生改变。因此，基板必须将不扭曲，或者处理条件必须改变以便补偿扭曲。一种解决基板扭曲问题的方法是使用自对准压印平版印刷技术(SelfAlignedImprintLithography,SAIL)。SAIL仅仅将多个平版印刷(lithography)步骤间的对准问题转移至多个蚀刻步骤，并且目前是商业上不可行的。SAIL处理需要大量资金投入以及非常严苛的系统布局和设计规则。因此，在本领域需要一种以不同于SAIL的方式来处理基于网的基板的方法。概述本公开案总体涉及一种用于处理基于网的基板的方法和设备。当所述基板在辊之间行进时，所述基板可被拉伸并且因而扭曲。一旦所述基板到达所述辊处，所述基板扭曲就会固定。通过调整处理参数，所扭曲的基板得以处理，而不需要校正所述扭曲。在一个实施方式中，一种对基于网的基板进行处理的方法包括：检测所述基板是扭曲的；以及基于所述检测到的扭曲来对所扭曲的基板进行光刻处理。在另一实施方式中，一种基于网的处理设备包括：辊，所述辊设置在腔室主体中；对准测量装置；CPU，所述CPU耦接所述对准测量装置；处理装置，所述处理装置被耦接到所述CPU；以及图像整形器(imageshaper)，所述图形整形器设置在所述处理装置与所述辊之间，其中所述图像整形器能够形成凸出且柱形的场形，以便匹配所述辊的形状。附图简述因此，为了能够详细理解本公开案的上述特征结构所用方式，上文所简要概述的本公开案的更具体的描述可以参考实施方式进行，其中一些实施方式示出在附图中。然而，应当注意，附图仅仅示出本公开案的典型实施方式，并且因此不应视为限制本公开案范围，因为本公开案可以允许其他等效实施方式。图1是通过辊的基于网的基板的示意图。图2A至图2C是基于网的基板的示意图，其中示出扭曲。图3是具有对准标记的基于网的基板的示意图。图4是根据一个实施方式的设备的示意图。图5是根据一个实施方式的结合图像整形器的设备的示意图。为了促进理解，已尽可能使用相同元件符号标示这些附图所共有的相同元件。预期的是，一个实施方式中公开的元件可有益地用于其他实施方式，而不需要具体叙述。详述本公开案总体涉及一种用于处理基于网的基板的方法和设备。当基板在辊之间行进时，基板可被拉伸并且因而扭曲。一旦基板到达辊处，基板扭曲就会固定。通过调整处理参数，所扭曲的基板得以处理，而不需要校正扭曲。本文所讨论的实施方式可以实践在基于网的设备(诸如可购自美国加利福尼亚州圣塔克拉拉市应用材料公司(AppliedMaterials,Inc.,SantaClara,CA)的Applied设备中。应当理解，这些实施方式同样可实践于其他设备，包括其他制造商销售的那些设备。本公开案的实施方式涉及在柔性基板(诸如较薄塑料基板)上形成光刻图案。塑料基板在操作期间具有变形的自然趋势，这会导致在掩模平版印刷中图案层之间的较大重叠错误。本解决方案的实施方式提供用于在塑料基板上进行无掩模光刻的解决方案。这些实施方式涉及通过辊来输送基板，从而将相机聚焦于辊的前缘，并将一或多个DMD写入器指向位于相机下游位置处的基板。相机和DMD写入器两者指向基板在辊上的部分，使得相机/基板和DMD写入器/基板之间距离一致，从而消除由移动离开焦点的基板所导致的问题。基板上的第一图案层的光刻期间，对准标记被印刷在装置之间的切口(kerf)区域上；所述对准标记用于表示沿着垂直或侧向方向的扭曲。沿纵向方向的任何扭曲都可视为是均匀的。平行线或标记沿着纵向方向印刷，以便反映基板游移。第二图案层的光刻期间，对对准标记的取样使用相机执行；基板扭曲从对准标记的取样图像计算；并且GDSII文件是结合所计算的扭曲进行更新/形成。来自GDSII文件的信息被发送到DMD写入器以打印第二图案层。通过根据基板扭曲来使数字掩模扭曲，就可补偿基板扭曲。扭曲在基于网的基板的工艺期间受到监视。收集与形成在基板上的每个产品(诸如单独装置)相关联的扭曲数据。扭曲信息可以用来指示产品质量。任何扭曲峰值(spike)都可被标记为潜在产量警报。当扭曲在操作过程中到达稳定状态时，该扭曲的多点拖尾均值(multi-pointtrailingaverage)可以用来计算要印刷的GDSII图像，由此提高整个基于网的基板的准确度。由于基板在印刷期间是位于曲面之上，因此图案间距可从中心朝向曲面的前端和后端拉伸。可以使用数学计算补偿GDSII图像中的拉伸。或者，可以使用具有足够大的直径的辊，使得间距拉伸可被忽略。当基板置放在辊的凸出表面上时，用于DMD写入器的传统光学系统具有凹入图像平面。图像平面与基板位置之间的误差会导致DMD失去其准确度和清晰度(sharpness)。凸平面图像整形器可定位在DMD写入器与辊之间，以便解决这一问题。凸平面图像整形器可为凹凸透镜、场透镜或三合透镜。凸平面图像整形器使得能够使用具有较小直径的辊。图1是通过辊102的基于网的基板100的示意图。当辊102如箭头104所示那样旋转时，基板100在箭头106方上行进越过辊102。在到达辊102前，基板100并未固定到位，并且因而可能如上所述那样游移。一旦基板100在辊102上，基板100位于辊102上的部分就不会再游移，并且因而固定到位。如果在基板100到达辊102时，基板100存在任何扭曲，那么扭曲固定到位。图2A至图2C是基于网的基板100的示意图，示出扭曲。图案202示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对基于网的基板进行处理的方法，所述方法包括：检测所述基板是扭曲的；以及基于检测到的扭曲来对所扭曲的基板进行光刻处理。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.10.22 US 61/894,3281.一种对基于网的基板进行处理的方法，所述方法包括：
检测所述基板是扭曲的；以及
基于检测到的扭曲来对所扭曲的基板进行光刻处理。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述检测包括检测在所述基板上的多个
对准标记的位置。
3.根据权利要求2所述的方法，其中所述检测发生在所述基板与辊接触时。
4.根据权利要求3所述的方法，进一步包括基于检测到的对准标记来计算所
述基板的扭曲。
5.根据权利要求4所述的方法，进一步包括基于所计算的扭曲来调整用于处
理所述基板的光刻条件。
6.根据权利要求5所述的方法，其中所计算的扭曲是基于对与所述基板上形
成的第一产品相邻的所述对准标记的所述检测的扭曲。
7.根据权利要求4所述的方法，其中所计算的扭曲是沿所述基板的长度来设
置的多个对准标记的平均扭曲。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述光刻处理步骤包括使用图像整形
...

【专利技术属性】
技术研发人员：克里斯多佛·本彻，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US