The disclosure generally relates to a method and apparatus for processing a substrate based on a network. When the substrate travels between rollers, the substrate can be stretched and distorted. When the substrate reaches the roller, the substrate distortion is fixed. By adjusting the processing parameters, the distorted substrate is processed without the need to correct the distortions.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】背景领域本公开案的实施方式涉及一种用于处理基于网的基板(web-basedsubstrate)的方法和设备。相关技术描述在基于网的基板处理中，基板移动过辊，并且在一或多个处理位置处进行处理。与静态处理相反，基于网的基板可以在基板连续移动通过系统时进行处理。因此，基板位置不断改变，这种情况在基于网的基板处理中尤为明显。基于网的基板行进过辊。当在该辊上时，基板位置一般是固定的。然而，在辊与辊之间，基板会被拉伸或垂直/侧向于基板所行进的路径移动。换句话说，基板可能游移(wander)，使得当基板遇到该辊时，就基于网的基板的整个长度而言，基板并非在辊上的相同位置。除了游移之外，基板会被扭曲，使得基板相对于基板移动方向侧向地“挤成一团(bunchup)”或压缩。当所扭曲的基板到达辊处时，扭曲一般固定，使得这种扭曲不会由于该基板的部分与辊接触发生改变。然而，处理所扭曲的基板可能导致许多问题，因为扭曲可能在基板移动通过系统时沿基板的长度发生改变。因此，基板必须将...
【技术保护点】
一种对基于网的基板进行处理的方法，所述方法包括：检测所述基板是扭曲的；以及基于检测到的扭曲来对所扭曲的基板进行光刻处理。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.10.22 US 61/894,3281.一种对基于网的基板进行处理的方法，所述方法包括：
检测所述基板是扭曲的；以及
基于检测到的扭曲来对所扭曲的基板进行光刻处理。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述检测包括检测在所述基板上的多个
对准标记的位置。
3.根据权利要求2所述的方法，其中所述检测发生在所述基板与辊接触时。
4.根据权利要求3所述的方法，进一步包括基于检测到的对准标记来计算所
述基板的扭曲。
5.根据权利要求4所述的方法，进一步包括基于所计算的扭曲来调整用于处
理所述基板的光刻条件。
6.根据权利要求5所述的方法，其中所计算的扭曲是基于对与所述基板上形
成的第一产品相邻的所述对准标记的所述检测的扭曲。
7.根据权利要求4所述的方法，其中所计算的扭曲是沿所述基板的长度来设
置的多个对准标记的平均扭曲。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述光刻处理步骤包括使用图像整形
...
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