【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】平版印版前体和使用方法
专利
[0001]本专利技术涉及可使用红外辐射成像,以提供成像的平版印版的对红外辐射敏感的平版印版前体。此类前体包括低分子量阻挡臭氧的材料,该阻挡臭氧的材料可保护对环境臭氧敏感的IR染料,并从而改善前体成像敏感性。本专利技术前体特别是阴图制版且可在机显影的。本专利技术还涉及使用这些前体,以在适当的成像和显影之后提供平版印版的方法。
[0002]专利技术背景
[0003]成像系统(例如计算机直接制版(CTP)成像系统)在本领域中是已知的,并且用来记录平版印版前体上的图像。此类前体包含通常由铝组成的基材,其具有亲水表面,在该亲水表面上设置一个或更多个对辐射敏感的可成像层。在平版印刷中,在基材的亲水表面上生成称为图像区域的平印油墨接收区域。当用水润湿印版表面并施加平版印刷油墨时,亲水区域保留水并排斥平版印刷油墨,且平印油墨接收性图像区域接受平版印刷油墨并排斥水。或许在橡皮辊的使用下,将平版印刷油墨转移到待在其上再现图像的材料的表面上。
[0004]平版印版前体被认为是“阳图制版”或“阴图制版”的。将阳图制版平版印版前体设计具有一个或更多个对辐射敏感的层,以致在成像暴露于合适的辐射(例如红外辐射)时,该层的曝光区域变得更加可溶于碱性溶液,并且可在冲洗期间去除,以留下接受用于印刷的平印油墨的未曝光区域。
[0005]对照之下,将阴图制版平版印版前体设计具有对辐射敏感的层,以致在成像暴露于合适的辐射(例如红外辐射)时,使该层的曝光区域硬化,并变得在冲洗期间耐去除,同时可在冲洗期间去除未曝光区 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.平版印版前体,其包含基材和设置在所述基材上的一个或更多个对红外辐射敏感的图像记录层,所述平版印版前体进一步在所述一个或更多个对红外辐射敏感的图像记录层中的至少一个中包含一种或更多种红外辐射吸收剂和阻挡臭氧的材料,所述阻挡臭氧的材料具有1500或更小的分子量,并且由以下结构(I)、(II)或(III)代表:其中R是具有14
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30个碳原子的烃基;m是1或2;n是2
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6;m和n的总和大于3且小于8;以及A是不含R和OH基团的多价有机部分,且A具有等于m和n的总和的化合价;其中R1和R2独立为具有14
‑
22个碳原子的烷基,且o是1
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3的整数;以及R3C(=O)NR4R5(III)其中R3是在具有16
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30个碳原子的碳
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碳链内包含至少一个C=C双键的烯基,且R4和R5独立为氢原子或具有1
‑
4个碳原子的未取代的烷基。2.权利要求1所述的平版印版前体,其中所述一种或更多种红外辐射吸收剂和所述阻挡臭氧的材料至少位于所述一个或更多个对红外辐射敏感的图像记录层中的最外面的对红外辐射敏感的图像记录层内。3.权利要求1或2所述的平版印版前体,其为阴图制版平版印版前体,包含阴图制版型对红外辐射敏感的图像记录层,其中所述一种或更多种红外辐射吸收剂和所述阻挡臭氧的材料至少位于所述阴图制版型对红外辐射敏感的图像记录层内。4.权利要求3所述的平版印版前体,其中所述阴图制版型对红外辐射敏感的图像记录层是最外层。5.权利要求3或4所述的平版印版前体,其中所述阴图制版型对红外辐射敏感的图像记录层进一步包含:a)一种或更多种可自由基聚合组分;和b)能够生成自由基的引发剂组合物,并且所述阴图制版型对红外辐射敏感的图像记录层任选进一步包含与a)、b)、所述一种或更多种红外辐射吸收剂和结构(I)、(II)或(III)的阻挡臭氧的材料不同的一种或更多种非可自由基聚合的聚合物材料。6.权利要求5所述的平版印版前体,其中所述非可自由基聚合的聚合物材料以微粒形式存在。7.权利要求1
‑
6中任一项所述的平版印版前体,其中R烃基是直链或支链烷基。
8.权利要求1
‑
7中任一项所述的平版印版前体,其中所述阻挡臭氧的材料包含以下材料中的一种或更多种:单硬脂酸山梨糖醇酯、单棕榈酸山梨糖醇酯、单肉豆蔻酸山梨糖醇酯、单山萮酸山梨糖醇酯、二硬脂酸山梨糖醇酯、二棕榈酸山梨糖醇酯、二肉豆蔻酸山梨糖醇酯、二山萮酸山梨糖醇酯、油酰胺、芥酸酰胺和由以下结构(II)代表的化合物:其中R1和R2独立为具有14
‑
22个碳原子的烷基,且o是1
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3的整数。9.权利要求1
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8中任一项所述的平版印版前体,其中所述一种或更多种红外辐射吸收剂中的至少一种是吸收红外的花青染料。10.权利要求1
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9中任一项所述的平版印版前体,其中基于所述一个或更多个对红外辐射敏感的图像记录层中的至少一个的总固体计,所述阻挡臭氧的材料以至少1重量%且至多并包括15重量%的量存在于所述一个或更多个对红外辐射敏感的图像...
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