本发明专利技术涉及用于使印刷过的印版(5a)重新成像的方法，提出，将印版(5a)的基底(5b)整体地清洁掉(A)油墨或亮油；对所述基底(5b)整体地进行研磨处理(B′)以删除(B)先前的印刷图像；对所述基底(5b)局部地在图像区域中用脉冲式激光束(6)处理以用后续的印刷图像进行成像(C)并且在此局部地产生纳米级的和疏水的表面结构；对所述基底(5b)整体地用亲水增益剂(7)进行处理(D)，由此使得所述基底(5b)局部地在之前疏水的图像区域中亲水。本发明专利技术的装置包括相应的删除单元(B′)和带飞秒激光器的成像单元(C′)。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种具有权利要求1前序部分特征的。此外，本专利技术还涉及一种具有权利要求8前序部分特征的用于使印刷过的印版重新成像的装置。
技术介绍
由现有技术公开了用于胶版印刷的可擦写的印版，也就是可多次使用并且设有更换的印刷图像并且从而可重复使用的印版。这种印版可具有基底和施加在基底上的微米级厚度的涂层，其中，所述涂层在成像期间局部地在图像区域中大多借助于激光辐射再次去除，从而在亲水和疏水区域中进行表面的按照图像的结构化。在重新成像之前，所述表面被清洁并且又设有闭合的涂层。所述涂层可以像DE 101 32 204 Al中所描述的那样例如构造为水膜。此外，例如由DE 102 27 054 Al公开了一些印版，所述印版代替所述的微米级厚度的涂层地具有仅仅纳米级厚度的分子覆层，所述分子覆层同样可借助于激光辐射结构化并且在重新成像之前更新。相反，值得期望的是这样一种印版，所述印版在无涂层介质和覆层介质以及相应施加装置的情况下就足够。由WO 2010/029342 Al公开了一种可擦写的印版，所述印版既没有涂层也没有覆层。所述印版在图像区域中加载激光辐射、例如飞秒激光器的辐射并且从而局部地足够亲水化，以便产生符合图像的结构化部。印版的删除例如通过足够长时间的储放并且优选在不采用液态删除介质的情况下进行。当印版在印刷之后应被马上提供用于新印刷任务时， 这种储放可以被视为是有缺点的。此外，DE 10 2005 035 896 Al与制造颜色不同或全息作用的结构相关地描述了在采用飞秒激光器的情况下产生纳米结构。但是没有描述将这种结构用于制造印版并且特别是没有描述在重新成像之前删除所述结构。
技术实现思路
由所述背景出发，本专利技术的任务是，提供一种相对于现有技术改善的，所述方法允许将用于重新成像并且在此特别是用于删除的时间耗费和材料/经济耗费保持很小。此外，本专利技术的另外的或替代的任务在于，提供一种相对于现有技术改进的装置，所述装置同样允许将所述耗费保持很小。按照本专利技术，所述任务通过具有权利要求1特征的方法和具有权利要求8特征的装置解决。本专利技术的有利的进一步方案由从属权利要求以及由说明书和附图中得出。本专利技术的是这样一种方法，其中，将印版的基底整体地清洁掉油墨或亮油；对所述基底整体地进行研磨处理以删除先前的印刷图像； 对所述基底在图像区域中局部地用脉冲式激光束处理以用后续的印刷图像进行成像并且在此局部地产生纳米级的和疏水的表面结构；并且对所述基底整体地用亲水增益剂进行处理，由此使得所述基底局部地在之前疏水的图像区域中亲水。本专利技术的方法采用脉冲式的激光束并且从而采用激光脉冲。在此，以有利的方式在基底的表面上在图像区域中产生纳米结构化部或纳米拓扑图，由此改变润湿特性印版在成像后的区域中、即在图像区域中疏水。在此不进行显著的材料去除(烧蚀)或材料施加(涂层)，取而代之的是，在图像区域中和非图像区域中存在同样的基底材料，但是其纳米结构不同。相反，为了提供必须的印刷对比度所需的区别仅仅来源于所述区域的不同纳米级结构化部。此外，通过这种方式提供的表面状态在时间上是稳定的，与此相反的是例如在现有技术中描述的结构化水膜会容易蒸发。此外，本专利技术的方法采用亲水增益剂。令人意料不到地发现，所述亲水增益剂在起初滴落之后恰恰在纳米结构化的图像区域中能够特别良好地附着(也就是说其分子特别良好地锚固在那里)并且由此使得这些之前疏水的图像区域亲水。出人意料的是，激光处理过的疏水区域在亲水增益之后比不是用激光处理过的区域更亲水。由此以有利的方式足够地增强成像区域与非成像区域之间的对比度，尽管与期望值不同。本专利技术方法的一个对于产生辐射区域与非辐射区域之间的强对比度有利并且因此优选的进一步方案的特征可在于，脉冲化的激光束包括光脉冲，所述光脉冲的持续时间 t至少处于皮秒范围内(t < 100*10_12秒)并且优选至少处于飞秒范围内(t < 100*10_15 秒)。为此可采用所谓的短脉冲激光器，特别是皮秒激光器或飞秒激光器。本专利技术方法的一个同样对于产生辐射区域与非辐射区域之间的强对比度有利并且因此优选的进一步方案的特征可在于，所述光脉冲在约1至约10微焦耳的脉冲能量的情况下持续约10至约10000、特别是约100至约1000飞秒。本专利技术方法的一个同样对于成像、即基底表面的结构化有利并且因此优选的进一步方案的特征可在于，所述基底在研磨处理之后并且在成像之前不进行涂层，特别是所述成像可紧接着所述研磨处理进行。本专利技术方法的一个用于产生所需的印刷对比度足够的结构化部有利并且因此优选的进一步方案的特征可在于，所述基底选自下述基底表金属；金属氧化物；金属板；金属板上的金属氧化物层；钛板或不锈钢板上的钛层；铝板或不锈钢板上的铝层；不锈钢板； 塑料；塑料薄膜。本专利技术方法的一个对于足够的对比度增益有利并且因此优选的进一步方案的特征可在于，使用流体态的胶合介质、特别是CMC (羧甲基化纤维素)的水性溶剂作为亲水增益剂。本专利技术方法的一个由于其容易的技术转换性有利并且因此优选的进一步方案的特征可在于，使用流体态的研磨介质进行研磨处理。本专利技术的用于使印刷过的印版重新成像的装置的特征在于删除单元和成像单元， 所述删除单元对所述基底整体地用流体态的研磨介质进行处理以删除之前的印刷图像，所述成像单元对所述基底在图像区域中局部地用飞秒激光器进行处理以用后续的印刷图像进行成像。本专利技术装置的一个用于实现足够的对比度增益有利并且因此优选的进一步方案的特征可在于显影单元，所述显影单元对所述基底整体地用流体态的胶合介质进行处理， 由此使得所述基底局部地在图像区域中亲水。在本专利技术的范围内还提出一种处理承印物的机器，例如印刷机，特别是用于平版胶印的处理页张的轮转印刷机，或者例如印版曝光机，其特征在于，设有至少一个上述参照本专利技术描述的装置。所述的本专利技术和本专利技术的所述有利的进一步方案彼此间也以任意的组合构成本专利技术的有利的进一步方案。特别优选的是这样一种方法，在该方法中进行整体清洁、在采用流体态研磨介质的情况下进行整体研磨删除、用飞秒脉冲对未涂层的金属基底进行局部激光处理并且进行整体亲水增益。附图说明下面参照附图借助于至少一个优选的实施例详细阐述本专利技术以及本专利技术的功能上有利的进一步方案。在附图中，彼此相应的元件分别设有同样的参考标号。附图中图1是本专利技术的方法的优选实施例的流程图；和图2是本专利技术的装置的优选实施例的示意性侧视图。具体实施例方式图1示出本专利技术的用于使之前印刷过至少一次的印版fe重新成像的方法的优选实施例的流程图。用于新印刷任务的重新成像可以借助同样的或不同的印刷图像进行。所述印刷任务可以包括仅仅一种承印物如单个纸页张或纸板页张的印刷或者包括多个这种承印物(即一系列这种页张)的印刷。在方法步骤A中，印版fe的基底5b (参见图1)——优选钛板或不锈钢板整体地、 即至少在对于印刷使用的整个面上基本上完全地清洁掉先前的印刷任务的油墨或亮油。为此可采用、即施加市场上常见的印版清洁介质例如Druck Chemie公司的“欧洲之星”并且又去除掉所述油墨或亮油。也可以接下来进行清洗和干燥。在方法步骤B中，为了删除、即不可逆地去除掉之前的印刷图像，按照本专利技术对所述基底恥整体地进行研磨处理。为此，优选采本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：H·皮茨，B·梅希勒，R·斯皮尔格，
申请(专利权)人：海德堡印刷机械股份公司，
类型：发明
国别省市：
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