用于处理已成像的印版的方法技术

本发明专利技术涉及一种用于处理已成像的、尤其是用两亲分子或用聚合物例如糖类覆盖的印版的方法，其中，在该印版的表面上涂覆（１３０）液体状态的上胶物质、尤其是显微上胶物质涂层，其特征在于：在一个与直到平版印刷的液体、例如润湿剂或印刷油墨涂覆到该表面上的时间段相比短的或可忽略的时间段之后将该上胶物质去除（１４０）或减少，直到留下一个保留的纳米级的覆盖层。上胶物质的去除或减少优选在仍为液体的状态下、即在所涂覆的上胶物质干燥之前并且优选直接在涂覆之后进行。保留的上胶物质涂层保护印版免受污染并且提高亲水性－疏水性对比度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。此外，本专利技术涉及可 重复成像的印版及用于处理已成像的印版的装置。
技术介绍
所述类型的方法、印版及装置在对己成像/重复成像的印版进行成 像/重复成像及处理的领域内、尤其是在处理承印物页张的机器例如处 理纸张或硬纸板页张的平版胶印机的印刷装置中使用。由现有技术、例如由DE 102 27 054 Al公知了用两亲分子纳米级 地覆盖的平印版，这种平印版在循环过程中可多次成像，由此可重复 使用。公开了一种具有亲水印刷面的印版，它例如用自然氧化的钛制 成，其中，印刷面覆盖有强地连接在该表面上的两亲化合物。可在使 用红外激光器的情况下使印版逐点成像。为此，在使用激光辐射的情 况下将非图像区域中的对外起疏水作用的覆盖层去除或解吸，在此情 况下产生亲水的表面区域。还公知了给以这种方式成像的印版在成像 之后通过涂覆上胶物质层来上胶。在印刷之后并且在重新覆盖和重新 成像之前必须净化该表面，必要时进行初始化，因为上胶物质层的残 余可使得用两亲化合物重新覆盖变难。DE 103 45 388 Al描述了一种用于给平版印刷的平印版上胶的方 法及组合物。为了在成像时保护以图像形式暴露的载体、例如铝载体 以避免氧化、指纹等，使平印版经受上胶处理。例如用挤压辊并且在 成像之后紧接着涂覆在平印版上的所述上胶物质在存放及印刷机长时间停机时保护平印版，而在印刷时不出现油墨接收问题和/或差的空转特性。上胶溶液的pH值取值大于7，上胶厚度通常取值3pm。这种上胶物质的制造商例如Eggen Chemie对于上胶物质Agum Z 规定使所涂覆的上胶物质在涂覆之后紧接着干燥，例如在使用热空 气鼓风机的情况下干燥。这种干燥例如在Kodak的印版显影器 Polychrom 85中进行。在印版印刷之前再将已干燥的上胶物质层去除。 DE40 13464A1描述了印刷机的印版的自动上胶，其中，借助于 一个上胶装置通过润湿辊、必要时通过摩擦滚筒在印版上涂覆上胶液 体。为了自动去除上胶物质，借助于一个清洗装置来清洗印版并且同 时清洗润湿辊及摩擦滚筒。
技术实现思路
本专利技术的任务在于，提供一种相对于现有技术改进的方法，该方 法克服现有技术的所述这些缺点中的至少一个。本专利技术的另一个或替换的任务在于，提供一种相对于现有技术改 进的，根据该方法，上胶物质的去除以 这样的方式进行，使得可简单且多次地重复使用印版。本专利技术的另一个或替换的任务在于，提供一种相对于现有技术改 进的，根据该方法，上胶物质的去除以 这样的方式进行，使得可通过重复覆盖及重复成像简单且多次地重复 使用印版。本专利技术的另一个或替换的任务在于，提供一种相对于现有技术改 进的，根据该方法，上胶物质的去除以 这样的方式进行，使得印版可以以很少的开机废页进行印刷。本专利技术的另一个或替换的任务在于，提供一种相对于现有技术改 进的可重复成像的印版，该印版可用简单的方式且多次地重复使用、尤其是重复覆盖及重复成像。本专利技术的另一个或替换的任务在于，提供一种相对于现有技术改 进的用于处理己成像的印版的装置，该装置可用简单的方式给印版上 胶以产生一个上胶物质覆盖层。根据本专利技术，这些任务各自通过开头所述类型的用于处理已成像 的印版的方法、通过开头所述类型的可重复成像的印版以及通过开头 所述类型的用于处理已成像的印版的装置来解决。从下述技术方案、说明和附图中得到本专利技术的有利的进一步构型。根据本专利技术的一种，其中，在印版 的表面上涂覆液体状态的上胶物质，其特征在于在一个与直到平版 印刷的液体涂覆到表面上的时间段相比短的时间段之后使上胶物质 去除或减少，直到留下一个覆盖层。根据本专利技术，按照第一方案，将上胶物质在涂覆之后不久再去除 或减少，其中，虽然去除所涂覆的上胶物质层但不去除一个保留的纳 米级的上胶物质覆盖层。但保留的覆盖层以有利的方式足够用于印版 的继续处理该保留的覆盖层充分地保护印版的已成像的表面以免污 染并且充分地改善已成像的区域与未成像的区域之间的对比度。通过 减少覆盖层上的上胶物质使开机废页显著地降低并且由于可用两亲 分子重复覆盖得到改善而使可重复使用性也得到改善。根据本专利技术的一种用于处理己成像的印版的方法，其中，在印版 的表面上涂覆液体状态的上胶物质，其特征在于将上胶物质在仍为 液体的状态下去除或减少，直到留下一个覆盖层。根据本专利技术，按照第二方案，将上胶物质在仍为液体的状态下、 即还在干燥之前去除或减少，直到留下一个保留的纳米级的上胶物质 覆盖层。这得到与上面针对第一方案所述的优点相同的优点。根据本专利技术的方法的在减少开机废页及可用两亲分子重复覆盖 方面有利并且由此优选的进一步构型的特征可在于将上胶物质直接 在涂覆之后去除或减少。在此意义下"直接"可意味着涂覆与去除 /减少之间的时间段相对于为新印刷任务准备可重复使用的印版的总 时间段可忽略并且例如在计算装调时间时无需考虑。根据本专利技术的方法的在简单地并且化学上无问题地去除上胶物 质方面有利并且由此优选的另一个进一步构型的特征可在于将上胶 物质通过用VE水冲洗去除。根据本专利技术的方法的在所使用的装置方面简单并且因此有利且 优选的另一个进一步构型的特征可在于在使用一个合压在印版的表 面上的涂覆辊的情况下来涂覆上胶物质。根据本专利技术的方法的在用所使用的少量装置进行简单干燥方面 有利并且由此优选的另一个进一步构型的特征可在于通过在使用涂 覆辊的情况下滚压来干燥上胶物质。根据本专利技术的一种可重复成像的印版，具有一个通过成像结构化 的表面及一个在图像区域中的具有两亲分子或具有聚合物、尤其是糖 类的使表面化学官能化的纳米级的覆盖层，其特征在于设置有一个 在非图像区域中的具有上胶物质的纳米级的覆盖层。与现有技术的印版不同，根据本专利技术的印版不具有微米级厚度的 上胶物质层，而仅具有一个纳米级厚度的上胶物质覆盖层，但该纳米 级厚度的上胶物质覆盖层可充分保护印版并且以有利的方式使得开 机废页很少并且使得可用两亲分子重复覆盖得到改善。根据本专利技术的印版的在覆盖层的小厚度(或小层厚)方面有利并 且由此优选的一个进一步构型的特征可在于设置有一个厚度小于约 100nm、尤其是小于约10nm的具有上胶物质的覆盖层。根据本专利技术的一种用于处理已成像的印版的装置，该装置具有一个辊，该辊以涂覆辊的功能将液体状态的上胶物质涂覆在印版的表面 上，其特征在于该辊以清洁辊的功能在一个与直到平版印刷的液体 涂覆到表面上的时间段相比短的时间段之后去除或减少上胶物质，直 到留下一个覆盖层。根据本专利技术的装置包括一个可多功能地使用并且被多功能地使 用的辊，该辊不仅用于涂覆上胶物质而且用于去除或减少上胶物质。 该装置可包括一个控制装置，该控制装置在涂覆充分之后关断上胶物 质的输入并且保持所述辊继续合压在印版上一个预定的时间段，由此 通过该辊进行上胶物质的去除/减少。在使用根据本专利技术的装置时得到与上面针对本专利技术的方法己经 描述的优点相同的优点。在本专利技术的范围内还可提出一种处理承印物的机器、尤其是用于 平版胶印的印刷机或处理页张的轮转印刷机，其特征在于设置有至 少一个如上针对本专利技术所描述的装置。所述处理承印物的机器优选涉及用于平版胶印、尤其是湿式胶印 的处理页张的轮转印刷机。所述承印物可涉及硬纸板、薄膜或优选涉 及纸。所述印刷机可本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于处理已成像的印版的方法，其中，在该印版的表面上涂覆（１３０）液体状态的上胶物质，其特征在于：在一个与直到平版印刷的液体涂覆到该表面上的时间段相比短的时间段之后使该上胶物质减少（１４０），直到留下一个覆盖层。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：M帕祖赫，H格兰特，M施勒霍尔茨，
申请(专利权)人：海德堡印刷机械股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]