基板处理装置及基板载置方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置及基板载置方法。在通过设置为能够从载物台进行升降动作的提升销进行向载物台上载置被处理基板的基板处理装置中，缩短生产节拍时间，提高生产效率。基板处理装置（１），具有：载物台（３），其载置基板（Ｋ）；提升销（４１），其设置为能够从形成于载物台的贯通孔（３３）进行升降动作且能够用前端部支承基板；销驱动控制部（４３、１０），其驱动控制提升销，将被供给到载物台的上方的搬入位置（Ｐ２）的基板载置在载物台上，其中，销驱动控制部如下进行驱动控制：通过使提升销上升而用提升销的前端部支承位于搬入位置的基板，在保持于比搬入位置高的位置后，通过使提升销下降，将基板载置在载物台上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在载物台上保持基板并相对于该保持的基板进行规定的处理的基板处理装置及该基板处理装置的基板载置方法。特别是涉及通过设置为能够从载物台进行升 降动作的提升销进行向载物台上载置基板的基板处理装置及该基板处理装置的基板载置 方法。作为基板，可以列举例如玻璃基板或半导体晶片。
技术介绍
作为在载物台上保持基板并相对于该保持的被处理基板进行规定的处理的基板 处理装置的例子，有狭缝喷嘴涂料器，其中所述狭缝喷嘴涂料器是在液晶面板的制造中使 用的装置的一种。狭缝喷嘴涂料器为了在玻璃基板形成滤色器或TFT而构成为在玻璃基板 的表面涂敷光致抗蚀剂液(参照专利文献1)。 参照图10说明现有的狭缝喷嘴涂料器100的处理动作的概要。此外，在图10示 出的狭缝喷嘴涂料器100的结构要件中，关于与下述的本专利技术的一实施方式的狭缝喷嘴涂 料器1相同的结构要件，附加相同标号。如图10(A)所示，现有的狭缝喷嘴涂料器100具有 吸附载物台3、提升销41A、模唇60及控制装置10A等，并通过具有机器手93的基板输送机 器人9传送玻璃基板K。 现有的狭缝喷嘴涂料器100处于图10(A)的初始状态。S卩，提升销41A为埋藏于 吸附载物台3的下方的状态，机器手93在支承玻璃基板K的状态下处于退让位置Pl。以 下，按照各步骤的顺序进行说明。图中，空心的箭头表示机器手93的动作方向，黑色的粗箭 头表示提升销41A的动作方向。 [OOOS](玻璃基板接收步骤) 从图10(A)的状态开始，首先基板输送机器人9沿水平方向驱动机器手93，将玻璃 基板K向搬入位置P2a供给(参照图10 (B))。搬入位置P2a是吸附载物台3的上方位置。 接下来，控制装置10A使提升销41A上升到规定位置(参照图10(C))。接下来，基板输送机 器人9使支承玻璃基板K的机器手93下降，并使玻璃基板K的背面与提升销41A的前端部 抵接(参照图IO(D))。 在玻璃基板K与提升销41A抵接后机器手93也继续下降，在玻璃基板K与机器手 93离开规定间隔D的时刻，基板输送机器人9使机器手93的下降停止(参照图10(E))。 接下来，基板输送机器人9沿水平方向驱动机器手93，使其向退让位置Pl移动(参照图 10 (F))。接下来，控制装置10A使支承玻璃基板K的提升销41A下降，并在将玻璃基板K载 置在吸附载物台3上后，根据需要进行玻璃基板K的定位，然后将玻璃基板K真空吸附在吸 附载物台3(参照图10(G))。吸附结束后，通过移动模唇60而开始涂敷(参照图10(H))。 (玻璃基板传送步骤) 涂敷结束后，玻璃基板K的传送基本上以上述的玻璃基板接收步骤的相反顺序进 行。即，以如下顺序进行，解除吸附保持在吸附载物台3的玻璃基板K的真空吸附、由提升 销41A进行的玻璃基板K的支承上升、机器手93进入搬入位置P2a、机器手93的上升、提升3销41A的下降及由机器手93进行的玻璃基板K的支承、退让。 专利文献1 :日本特开2008-55322号公报 在现有的狭缝喷嘴涂料器100中，在经由提升销41A将玻璃基板K载置在吸附载 物台3上时，机器手93下降而玻璃基板K与提升销41A的前端部抵接时的机器手93的下 降速度设定为非常慢的值。其原因是为了防止由于玻璃基板K的背面与提升销41A的前端 部抵接时的冲击而在玻璃基板K产生划痕或裂纹。而且，机器手93通常重量重，在受限制 的空间中其升降速度的高速化困难。 但是，随着液晶面板的用途扩大和普及，液晶面板的生产扩大的要求增加。因此， 縮短狭缝喷嘴涂料器的生产节拍时间成为重要的课题。该课题当然并不是狭缝喷嘴涂料器 特有的课题。例如，也适用于在液晶面板的制造中使用的曝光装置、清洗装置、干燥装置及 检查装置。进而，即使在液晶面板以外，也大致适用于利用基板传送机器人进行基板传送的 基板处理装置全体，因此希望解决这种情况。
技术实现思路
本专利技术鉴于这样的问题，其目的在于，在通过设置为能够从载物台进行升降动作 的提升销进行向载物台上载置基板的基板处理装置中，能够縮短生产节拍时间，从而能够 提高生产效率。 上述目的通过下述的本专利技术实现。此外，在权力要求书及
技术实现思路
的栏中 对各结构要件附加的标号是表示与后述的实施方式记载的具体的机构的对应关系的标号。 技术方案1的专利技术是一种基板处理装置l，其具有载物台3，其载置基板K ;提升 销41，其设置为能够从形成于载物台3的贯通孔33进行升降动作且能够用前端部支承基 板K ;销驱动控制部43、10，其驱动控制提升销41，以将被供给到载物台3的上方的搬入位 置P2的基板K载置在载物台3上，所述基板处理装置1的特征在于，销驱动控制部43、 10 如下进行驱动控制通过使提升销41上升而用提升销41的前端部支承位于搬入位置P2的 基板K，在保持于比搬入位置P2高的位置P3后，通过使提升销41下降，将基板K载置在载 物台3上。 根据技术方案1的专利技术，通过使提升销41上升而用提升销41的前端部支承位于 搬入位置P2的基板K，在保持在比搬入位置P2高的位置后，使提升销41下降。因此，作为 向搬入位置P供给基板K的机构，例如使用机器手93时，机器手93仅进行水平移动即可， 无需使机器手93下降。因此，减少基板输送机器人9的动作步骤，这样，能够縮短生产节拍 时间，从而能够提高生产效率。 在技术方案2的专利技术中，提升销41具有吸收其前端部与基板K抵接时对基板K产 生的冲击的缓冲机构44。 根据技术方案2的专利技术，由于缓冲机构44在提升销41与基板K抵接时发挥缓冲 作用，因此缓和、吸收基板K从提升销41的前端部受到的冲击。因此，能够抑制在基板K产 生划痕或裂纹。 另外，技术方案3的专利技术是一种基板载置方法，在基板处理装置1中，将被供给到 载物台3的上方的搬入位置P2供给的基板K载置在载物台3上，其中，所述基板处理装置1 具有载物台3，其载置基板K ;提升销41，其设置为能够从形成于所述载物台3的贯通孔334进行升降动作并能够用前端部支承基板K，所述基板载置方法的特征在于，通过使所述提升销41上升而用提升销41的前端部支承位于搬入位置P2的基板K，在保持于比所述搬入位置P2高的位置P3后，通过使提升销41下降而将基板K载置在载物台3上。 专利技术效果 根据本专利技术，在通过设置为能够从载物台进行升降动作的提升销进行向载物台上载置被处理基板的基板处理装置中，能够縮短生产节拍时间，从而能够提高生产效率。附图说明图1是本专利技术涉及的狭缝喷嘴涂料器的外观立体图。图2是吸附载物台及定心单元的外观立体图。图3是提升销单元的结构概略图。图4是示出缓冲机构的详细情况的主视剖面图。图5是模唇的侧面局部剖面图。图6是清洗单元的外观立体图。图7是本专利技术涉及的狭缝喷嘴涂料器的涂敷动作的流程图。图8是按时间序列地示出本专利技术涉及的狭缝喷嘴涂料器的涂敷动作的图。图9是示出缓冲机构的作用的图。图10是按时间序列地示出现有的狭缝喷嘴涂料器的涂敷动作的图。[符号说明]1狭缝喷嘴涂料器(基板处理装置)3吸附载物台(载物台)10控制装置(销驱动控制部)33提升销孔(贯通孔)41提升销43框架驱动部(销驱动控制部)44缓冲机构K玻璃基板(基板)P2搬入位置P3基板待机位置(比搬入位置高的位本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，具有：载物台（３），其载置基板（Ｋ）；提升销（４１），其设置为能够从形成于载物台（３）的贯通孔（３３）进行升降动作且能够用前端部支承基板（Ｋ）；销驱动控制部（４３、１０），其驱动控制提升销（４１），以将被供给到载物台（３）的上方的搬入位置（Ｐ２）的基板（Ｋ）载置在载物台（３）上，所述基板处理装置（１）的特征在于，销驱动控制部（４３、１０）如下进行驱动控制：通过使提升销（４１）上升而用提升销（４１）的前端部支承位于搬入位置（Ｐ２）的基板（Ｋ），在保持于比搬入位置（Ｐ２）高的位置（Ｐ３）后，通过使提升销（４１）下降，将基板（Ｋ）载置在载物台（３）上。

【技术特征摘要】
JP 2008-10-1 2008-256300一种基板处理装置，具有载物台(3)，其载置基板(K)；提升销(41)，其设置为能够从形成于载物台(3)的贯通孔(33)进行升降动作且能够用前端部支承基板(K)；销驱动控制部(43、10)，其驱动控制提升销(41)，以将被供给到载物台(3)的上方的搬入位置(P2)的基板(K)载置在载物台(3)上，所述基板处理装置(1)的特征在于，销驱动控制部(43、10)如下进行驱动控制通过使提升销(41)上升而用提升销(41)的前端部支承位于搬入位置(P2)的基板(K)，在保持于比搬入位置(P2)高的位置(P3)后，通过使提升销(41)下降，将基板(K)载置在载物台(3)上。2. ...

【专利技术属性】
技术研发人员：釜谷学，
申请(专利权)人：东丽工程株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]