供给化学液体的单元及使用该单元处理衬底的装置和方法制造方法及图纸

提供一种用于供给化学液体的单元以及利用所述单元处理衬底的装置和方法。预湿喷嘴、光致抗蚀剂喷嘴和边珠去除喷嘴被安装在单个喷嘴体上。因此与各个喷嘴被安装在各自喷嘴臂上的情况相比，能够节省设备安装空间，由此能够更好地利用用于安装设备的空间。

【技术实现步骤摘要】

本文描述的本专利技术涉及一种用于供给化学液体的单元以及使用该单元处理衬底 的装置和方法，尤其是涉及一种用于供给光致抗蚀剂涂覆工艺中使用的化学液体的单元， 以及使用该单元处理衬底的装置和方法。
技术介绍
通常，半导体衬底是通过将形成预定电路图案的薄膜层叠在硅片上来制成的。为 了形成和层叠薄膜，需重复执行诸如沉积工艺、光刻工艺、蚀刻工艺等多个单元工艺。 所述单元工艺中的光刻工艺用于在晶片上形成图案。光刻工艺包括光致抗蚀剂涂 覆工艺，曝光工艺，显影工艺等。 光致抗蚀剂沉积工艺用于将对光敏感的光致抗蚀剂均匀地施加到晶片表面。曝光 工艺用于曝光其上形成有光致抗蚀剂的电路图案，所述曝光是通过利用分档器(st印per) 使光穿过掩膜上的相应电路图案来进行的。显影工艺用于利用显影剂选择性地显影通过曝 光工艺曝光或没有曝光的晶片的光致抗蚀剂层部分。 通过沉积、曝光和显影工艺在晶片上形成图案，且利用晶片上的图案蚀刻该晶片 的最上层，由此形成具有图案的器件。
技术实现思路
本专利技术提供一种用于供给化学液体的单元，其通过在单个喷嘴臂上安装用于喷洒 液体(有机溶剂，光致抗蚀剂，边珠去除剂等)的喷嘴，能够更本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种处理液体供给单元，包括：光致抗蚀剂喷嘴，用于将光致抗蚀剂供给到衬底上；以及边珠去除喷嘴，用于将边珠去除液体供给到衬底的边缘以去除形成在所述衬底的边缘的边珠，其中，光致抗蚀剂喷嘴和边珠去除喷嘴被安装在单个喷嘴臂上。

【技术特征摘要】
KR 2008-10-9 10-2008-0099229一种处理液体供给单元，包括光致抗蚀剂喷嘴，用于将光致抗蚀剂供给到衬底上；以及边珠去除喷嘴，用于将边珠去除液体供给到衬底的边缘以去除形成在所述衬底的边缘的边珠，其中，光致抗蚀剂喷嘴和边珠去除喷嘴被安装在单个喷嘴臂上。2. 根据权利要求1所述的处理液体供给单元，进一步包括预湿喷嘴，用于将有机溶剂供给到所述衬底以提高从所述光致抗蚀剂喷嘴供给到所述衬底的光致抗蚀剂的湿度。3. 根据权利要求2所述的处理液体供给单元，其中，所述预湿喷嘴、光致抗蚀剂喷嘴和边珠去除喷嘴沿着与所述喷嘴臂的长度方向垂直的直线成行地布置在所述喷嘴臂的端部。4. 根据权利要求3所述的处理液体供给单元，其中，所述光致抗蚀剂喷嘴被设置在所述喷嘴臂的第一端的中心；且所述预湿喷嘴和边珠去除喷嘴分别被设置在所述光致抗蚀剂喷嘴的两侧。5. 根据权利要求2所述的处理液体供给单元，进一步包括光致抗蚀剂供给源；将所述光致抗蚀剂供给源连接到所述光致抗蚀剂喷嘴的光致抗蚀剂供给管路；边珠去除液体供给源；将边珠去除液体供给源连接到所述边珠去除喷嘴的边珠去除液体供给管路；有机溶剂供给源；以及将所述有机溶剂供给源连接到所述预湿喷嘴的有机溶剂供给管路。6. —种衬底处理装置，包括衬底支撑部件，用于支撑衬底；以及处理液体供给单元，用于执行关于所述衬底支撑部件上所支撑的衬底的光致抗蚀剂沉积工艺，其中，所述处理液体供给单元包括光致抗蚀剂喷嘴，用于将光致抗蚀剂供给到所述衬底上；以及边珠去除喷嘴，用于将边珠去除液体供给到所述衬底的边缘以去除形成在所述衬底的边缘的边珠，其中，所述光致抗蚀剂喷嘴和边珠去除喷嘴被安装在单个喷嘴臂上。7. 根据权利要求6所述的衬底处理装置，其中，所述处理液体供给单元进一步包括预湿喷嘴，用于将有机溶剂供给到所述衬底以提高从所述光致抗蚀剂喷嘴供给到所述衬底的光致抗蚀剂的湿度。8. 根据权利要求7所述的衬底处理装置，其中，所述预湿喷嘴、光致抗蚀剂喷嘴...

【专利技术属性】
技术研发人员：金大城，柳寅喆，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]