本发明专利技术揭示了一种化学液供应与回收装置，包括：溶剂供应单元、化学液原液供应单元、化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元。溶剂供应单元分别向化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元供应溶剂。化学液原液供应单元分别向化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元供应化学液原液。化学液混合和供应单元将溶剂和化学液原液均匀混合并输出。回收液混合和供应单元将已经过净化处理过的回收液与溶剂或化学液原液均匀混合并供应至化学液混合和供应单元。本发明专利技术通过将回收液回收并净化，然后配比成浓度与化学液混合和供应单元内的化学液的浓度一致，最后再供应至化学液混合和供应单元用于工艺加工，从而使回收液得到了循环利用，降低了工艺加工成本，同时，也减少了回收液的排放，进而降低了环境污染。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术揭示了一种化学液供应与回收装置，包括：溶剂供应单元、化学液原液供应单元、化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元。溶剂供应单元分别向化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元供应溶剂。化学液原液供应单元分别向化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元供应化学液原液。化学液混合和供应单元将溶剂和化学液原液均匀混合并输出。回收液混合和供应单元将已经过净化处理过的回收液与溶剂或化学液原液均匀混合并供应至化学液混合和供应单元。本专利技术通过将回收液回收并净化，然后配比成浓度与化学液混合和供应单元内的化学液的浓度一致，最后再供应至化学液混合和供应单元用于工艺加工，从而使回收液得到了循环利用，降低了工艺加工成本，同时，也减少了回收液的排放，进而降低了环境污染。【专利说明】化学液供应与回收装置
本专利技术涉及半导体器件加工
，尤其涉及一种化学液供应与回收装置。
技术介绍
半导体器件在计算机、手机等各种电器与信息产品中，发挥各式各样的控制功能， 并成为这些产品的关键组成部件。半导体器件是在半导体晶圆上经过多个不同处理步骤加 工而成。 在半导体器件加工工艺中，湿法刻蚀和清洗是其中重要的组成部分。湿法刻蚀是 利用合适的化学试剂先将未被光刻胶覆盖的晶圆部分分解，然后转成可溶的化合物达到去 除的目的。湿法刻蚀主要是借助腐蚀液和晶圆材料的化学反应，因此，可以借助化学试剂的 选取、配比以及温度控制等达到合适的刻蚀速率和良好的刻蚀选择比。湿法刻蚀之所以在 半导体器件加工工艺中被广泛采用，是因为湿法刻蚀具有可靠性高、产能高及刻蚀选择比 良好等优点。但湿法刻蚀仍有以下缺点：一是需要使用大量的化学溶液和去离子水；二是 大量化学溶液的使用造成环境污染问题。 在半导体器件加工的每步工艺中，颗粒和污染物都有可能广生并粘附在晶圆的正 面和背面，这些颗粒和污染物可导致在晶圆表面产生缺陷从而降低半导体器件的性能和良 率。因此，在半导体器件加工过程中，需采用多种预清洗和后清洗，表面处理和表面修整等 步骤。这些步骤中，很多涉及到液相的化学药品。 上述湿法刻蚀和清洗均对化学溶液的需求量很大，而在目前的半导体器件加工工 艺中，使用完毕的化学溶液多数是直接排放的，没有得到有效利用，既增加了半导体器件加 工成本，又造成了环境污染，无法满足现代工艺发展需求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种能够循环利用回收液，减少回收液的排放的化学液供 应与回收装置。 为实现上述目的，本专利技术提供的一种化学液供应与回收装置，包括：溶剂供应单 元、化学液原液供应单元、化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元。溶剂供应单元 分别向化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元供应溶剂，化学液原液供应单元分 别向化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元供应化学液原液，化学液混合和供应 单元将溶剂和化学液原液均匀混合并输出，回收液混合和供应单元将已经过净化处理过的 回收液与溶剂或化学液原液均匀混合并供应至化学液混合和供应单元。溶剂供应单元包括 流量控制器，流量控制器控制溶剂流量大小，溶剂流经流量控制器后连接到两路溶剂管路， 两路溶剂管路分别向化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元供应溶剂。溶剂流经 流量控制器后流经的每一路溶剂管路上各设置有一溶剂阀门，溶剂阀门控制溶剂的供应。 化学液原液供应单元包括原液槽，原液槽盛放化学液原液，原液槽与一计量泵的 输入端相连接，计量泵的输出端与两路原液管路相连接，两路原液管路分别与化学液混合 和供应单元及回收液混合和供应单元相连接，两路原液管路分别向化学液混合和供应单元 及回收液混合和供应单元供应化学液原液。两路原液管路上分别设置有一原液阀门，原液 阀门控制化学液原液的供应。计量泵的输出端与两路原液管路之间设置有气泡阀门，气泡 阀门将与计量泵的输出端相连接的管路中的气泡排出。气泡阀门是一手动阀。 原液槽与一补充管路相连接，补充管路向原液槽补充化学液原液，补充管路上设 置有一补充阀门。原液槽上设置有一对液位传感器，分别检测原液槽内最高液面和最低液 面。 化学液混合和供应单元包括溶液槽，溶液槽盛放溶剂和化学液原液的混合液。化 学液混合和供应单元还包括搅拌器，搅拌器的输入端分别与溶剂供应单元及化学液原液供 应单元相连接，溶剂和化学液原液进入搅拌器内进行搅拌混合，搅拌器的输出端与化学液 混合和供应单元的溶液槽通过搅拌器管路相连接。搅拌器的输出端与化学液混合和供应单 元的溶液槽相连接的搅拌器管路上设置有搅拌器阀门。 溶液槽与第一气动泵的输入端相连接，第一气动泵的输出端与溶液槽相连接。第 一气动泵的输出端还通过第一气动泵管路将溶液槽内混合均匀的化学液输出，第一气动泵 管路上设置有第一气动泵阀门。溶液槽还与第二气动泵的输入端相连接，第二气动泵的输 出端通过第二气动泵管路将溶液槽内混合均匀的化学液输出，第二气动泵管路上设置有第 二气动泵阀门。溶液槽上设置有一对液位传感器，分别检测溶液槽内最高液面和最低液面。 回收液混合和供应单元包括回收槽，回收槽盛放经过净化处理过的回收液，回收 槽分别与溶剂供应单元及化学液原液供应单元相连接。回收液混合和供应单元还包括浓度 计，浓度计检测回收槽内回收液的浓度。回收液混合和供应单元还包括搅拌装置，搅拌装置 使回收液与溶剂或化学液原液均匀混合。回收槽上设置有一对液位传感器，分别检测回收 槽内最商液面和最低液面，回收槽内最商液面的上方预留有一定的空间。 综上所述，本专利技术通过将回收液回收并净化，然后配比成浓度与化学液混合和供 应单元内的化学液的浓度一致，最后再供应至化学液混合和供应单元用于工艺加工，从而 使回收液得到了循环利用，降低了工艺加工成本，同时，也减少了回收液的排放，进而降低 了环境污染。 【专利附图】【附图说明】 图1是根据本专利技术的化学液供应与回收装置的一实施例的示意图。 图2是根据本专利技术的化学液供应与回收装置的一实施例中化学液原液供应示意 图。 图3是根据本专利技术的化学液供应与回收装置的一实施例中化学液混合和供应示 意图。 图4是根据本专利技术的化学液供应与回收装置的一实施例中回收液混合和供应示 意图。 【具体实施方式】 为详细说明本专利技术的
技术实现思路
、构造特征、所达成目的及功效，下面将结合实施例 并配合图式予以详细说明。 参阅图1，为根据本专利技术的化学液供应与回收装置的一实施例的示意图，该装置包 括溶剂供应单元1〇〇、化学液原液供应单元200、化学液混合和供应单元300及回收液混合 和供应单元400。 溶剂供应单元100包括流量控制器101和溶剂阀门102、103。流量控制器101设 置在溶剂的入口处，用以控制溶剂流量大小。溶剂流经流量控制器101后连接到两路溶剂 管路，其中一路溶剂管路上设有溶剂阀门102,另一路溶剂管路上设有溶剂阀门103。打开 溶剂阀门102,溶剂可流入化学液混合和供应单元300 ;打开溶剂阀门103,溶剂可流入回收 液混合和供应单元400。 结合图2,化学液原液供应单元200包括原液槽201，原液槽201用于盛放化学液 原液，化学液原液的浓度高于工艺所需的浓度。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种化学液供应与回收装置，其特征在于，包括：溶剂供应单元、化学液原液供应单元、化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元；所述溶剂供应单元分别向化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元供应溶剂，所述化学液原液供应单元分别向化学液混合和供应单元及回收液混合和供应单元供应化学液原液，所述化学液混合和供应单元将溶剂和化学液原液均匀混合并输出，所述回收液混合和供应单元将已经过净化处理过的回收液与溶剂或化学液原液均匀混合并供应至化学液混合和供应单元。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王坚，何增华，贾照伟，王晖，
申请(专利权)人：盛美半导体设备上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。