具有涂布机夹盘的涂布装置制造方法及图纸

技术编号:4058713 阅读:176 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
公开了一种具有涂布机夹盘的涂布装置,其能通过以使用不同类型的材料形成涂布机夹盘的方式来防止用于进行光刻胶涂布工序的涂布机夹盘下垂来提高光刻胶涂布均匀性,其中所述涂布机夹盘由石头形成并与经由伺服电机的驱动轴连接,所述驱动轴可上下移动,且通过狭缝喷嘴涂布有光刻胶的玻璃基板被放置在该涂布机夹盘上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于液晶显示(LCD)设备的涂布装置,尤其涉及一种具有涂布机夹盘的涂布装置,其能通过以使用不同类型的材料形成涂布机夹盘的方式,防止用于进行光刻胶涂布工序的涂布机夹盘的下垂,由此提高光刻胶涂布均匀性。
技术介绍
制造半导体设备或LCD面板的工序中的光刻工序包括用于在基板(例如晶片,玻璃或掩模)上涂布光刻胶的涂布工序、将涂布后的基板移到一设备中并在所述涂布后的基板上以圆形形状印刷掩模电路的曝光工序、以及显影工序。在这些工序中,对LCD面板制造工序应用的涂布工序是在涂布装置中进行的。之后,将参照图1到4描述在光刻胶涂布工序中使用的典型涂布装置的涂布机夹盘。图1是示意性示出在根据现有技术的涂布工序中使用的涂布装置的视图。图2是在根据现有技术的涂布工序中使用的涂布装置中存在的涂布机夹盘的放大图。图3是显示在根据现有技术的涂布装置中设置的涂布机夹盘和狭缝喷嘴之间的间距的视图。图4是显示当使用根据现有技术的涂布装置中存在的涂布机夹盘时,狭缝喷嘴与涂布机夹盘之间的间距、间距之间发生差异的概率、以及所涂布的光刻胶的量的表。如图1和2中所示,根据现有技术的涂布装置可包括由铝Al制成的涂布机夹盘13。该涂布机夹盘通过向上移动的驱动轴15连接到伺服电机17。这里,在涂布机夹盘13上形成用于防止产生静电的表面处理层13a。因为铝通过狭缝喷嘴充电从而产生静电,所以在通过狭缝喷嘴分配光刻胶时会产生发泡,因此形成表面处理层13a防止发泡的产生。此外,在驱动轴15的上端处设置有用于保持涂布机夹盘13的夹盘保持器19。涂布有光刻胶的玻璃基板11放置在涂布机夹盘13上,用于分配光刻胶的狭缝喷嘴21以预定距离设置在玻璃基板11的一侧上。这里,狭缝喷嘴21在从玻璃基板11的一端移到另一端的同时将光刻胶23分配到玻璃基板11上以进行涂布。利用根据现有技术的涂布装置的这种构造,伺服电机17驱动驱动轴15。涂布机夹盘13响应于驱动轴15的驱动而向上移动,然后将玻璃基板11放置在涂布机夹盘13上。然后以预定距离设置在玻璃基板11一侧上方的狭缝喷嘴11从玻璃基板11的一端前进到另一端,由此在玻璃基板11的表面上分配光刻胶23以进行涂布。然而,根据现有技术的用于光刻胶涂布工序的涂布装置中所设置的涂布机夹盘的使用具有下面几个问题。根据现有技术的用于光刻胶涂布工序的涂布装置的涂布机夹盘由铝制成。此外,LCD设备制造工序中使用的玻璃基板尺寸较大。因此,为了支撑大玻璃基板,需要大的涂布机夹盘。然而,如图2中所示,与其尺寸相比,制成该大涂布机夹盘的铝的厚度T1大约为15mm一样薄。结果,如图3中所示,涂布机夹盘13的侧部下垂。-->因为涂布机夹盘13的侧部下垂,所以如图4中所示,导致在狭缝喷嘴21与涂布机夹盘13之间的间距G1、G2和G3之间产生差异,这导致通过狭缝喷嘴在玻璃基板11的整个表面上分配的光刻胶的分布不均匀。就是说,涂布机夹盘13侧部的下垂还导致涂布机夹盘13中心部和狭缝喷嘴21之间的距离G2、与涂布机夹盘13的两侧部和狭缝喷嘴21之间的距离G1和G3之间的差异。详细地说,参照图4,如果涂布机夹盘13由铝制成,则显示出狭缝喷嘴21与涂布机夹盘13侧部之间的间距大于狭缝喷嘴21与涂布机夹盘31中心部之间的间距的概率较高,大约为50.3%。因此,分配到涂布机夹盘中心部和侧部上的光刻胶的量变得不同,由此导致光刻胶的不均匀涂布。因此,为了满意的光刻胶涂布,需要分配更多的光刻胶,相应地,狭缝喷嘴移动的速度变慢。这里,如果保持狭缝喷嘴快速移动,则整个玻璃基板上的光刻胶涂布均匀性降低,从而使狭缝喷嘴的移动速度足够慢,以获得满意的光刻胶涂布结果。这样,由于由铝形成的涂布机夹盘侧部的下垂,光刻胶很难均匀地分配在玻璃基板的每个部分上,且额外需要大量的光刻胶,这使得狭缝喷嘴的移动速度变慢,结果导致进行整个光刻胶涂布工序所花费的时间增加。因此,由于铝涂布机夹盘的侧部的下垂,使用由铝制成的涂布机夹盘的现有技术的涂布装置很难均匀在玻璃基板的每个部分上分配光刻胶,因此需要更多的光刻胶。结果,狭缝喷嘴移动的速度变慢,由此延迟了光刻胶涂布工序的整个时间,结果导致每年消耗的材料成本的增加。
技术实现思路
因此,本专利技术的一个目的是提供一种具有涂布机夹盘的涂布装置,其能通过以使用不同类型的材料形成存在于涂布装置中的涂布机夹盘的方式,防止用于进行光刻胶涂布工序的涂布机的下垂,由此提高光刻胶涂布均匀性。本专利技术的另一个目的是提供一种具有涂布机夹盘的涂布装置,其能够通过使用不同类型的材料形成存在于涂布装置中的涂布机夹盘来防止用于进行光刻胶涂布工序的涂布机的下垂来改进光刻胶涂布均匀性,因而减小所涂布的光刻胶的量,并能够通过在光刻胶分配时保持狭缝喷嘴快速的行进速度以缩短整个光刻胶涂布工序所花费的时间,来减小制造工序所需的成本。为了获得这些和其它的优点并根据本专利技术的目的,如这里具体表示和广义描述的,提供了一种具有涂布机夹盘的涂布装置,其包括:经由伺服电机的驱动轴;可上下移动的驱动电机;和由石头形成并与经由所述伺服电机的所述驱动轴连接的涂布机夹盘,玻璃基板被放置在所述涂布机夹盘上,通过狭缝喷嘴给所述玻璃基板涂布光刻胶。为了获得这些和其它的优点并根据本专利技术的目的,如这里具体表示和广义描述的,提供了一种具有涂布机夹盘的涂布装置,其包括:经由伺服电机的驱动轴;可上下移动的驱动电机;和由石头形成并与经由所述伺服电机的所述驱动轴连接的涂布机夹盘,玻璃基板被放置在所述涂布机夹盘上,通过狭缝喷嘴给所述玻璃基板涂布光刻胶;和用于保持所述涂布机夹盘并设置在所述驱动轴的上端处的夹盘保持器。根据本专利技术的具有涂布机夹盘的涂布装置的应用可具有下面的效果。设置在根据本专利技术的涂布装置中的涂布机夹盘可由石头(如花岗岩)形成,从而-->具有较低的热传导率,在硬度方面比玻璃强,没有磁性和导电性或具有低磁性和导电性,并对有诸如光刻胶这样的有机化合物具有抗腐蚀性。特别是,因为涂布机夹盘很难热变形,所以可防止现有技术中发生的涂布机夹盘的下垂,从而狭缝喷嘴与涂布机夹盘之间的间距可在整个涂布机夹盘上保持恒定,由此光刻胶可通过狭缝喷嘴均匀涂布在玻璃基板上。此外,在根据本专利技术的涂布装置中设置的涂布机夹盘的重量增加可使传输到涂布机的振动最小化,由此促使光刻胶的均匀分配。因此,可防止具有所述涂布机夹盘的涂布装置下垂,从而保持其均匀性,这促使保持快速执行通过狭缝喷嘴进行的光刻胶分配,由此缩短整个光刻胶涂布工序时间,导致所涂布的光刻胶的量减少。因此,在应用于大规模生产时,凭借由石头形成的涂布机夹盘而实现的光刻胶涂布工序时间的减小能显著减小光刻胶涂布工序所需的材料成本。当结合附图时,本专利技术前述的和其他的目的、特征、方面和优点将从本专利技术下面的详细描述变得更加显而易见。附图说明给本专利技术提供进一步理解并组成说明书一部分的附图图解了本专利技术的实施方式并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。在附图中:图1是示意性显示在根据现有技术的涂布工序中使用的涂布装置的视图;图2是在根据现有技术的涂布工序中使用的涂布装置中存在的涂布机夹盘的放大图;图3是显示在根据现有技术的涂布装置中设置的涂布机夹盘和狭缝喷嘴之间的间距的视图;图4是显示当使用根据现有技术的涂布装置中存本文档来自技高网
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具有涂布机夹盘的涂布装置

【技术保护点】
一种具有涂布机夹盘的涂布装置,包括:经由伺服电机的驱动轴;可上下移动的驱动电机;和由石头形成并与经由所述伺服电机的所述驱动轴连接的涂布机夹盘,玻璃基板被放置在所述涂布机夹盘上,通过狭缝喷嘴给所述玻璃基板涂布光刻胶。

【技术特征摘要】
KR 2009-7-24 10-2009-00679761.一种具有涂布机夹盘的涂布装置,包括:经由伺服电机的驱动轴;可上下移动的驱动电机;和由石头形成并与经由所述伺服电机的所述驱动轴连接的涂布机夹盘,玻璃基板被放置在所述涂布机夹盘上,通过狭缝喷嘴给所述玻璃基板涂布光刻胶。2.根据权利要求1所述的涂布装置,其中所述石头包括花岗岩。3.根据权利要求1所述的涂布装置,其中用于形成所述涂布机夹盘的材料包括难以热变形的材料、具有大于或等于玻璃硬度的硬度的材料、不具有导电性的非磁性物质以及具有对于酸、碱或有机化合物的抗腐蚀性的材料。4.根据权利要求1所述的涂布装置,其中所述石头厚度为15mm,并具有在±30μm范围内的表面粗糙度。5.根据权利要求1所述的涂布装置,其中所述石头的热传导率小于45.0Kcal.m.h.℃,其抗腐蚀性超过6的Moh...

【专利技术属性】
技术研发人员:周东英简泰柾
申请(专利权)人:乐金显示有限公司
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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