层积体制造装置和自组装单分子膜的形成方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够在基板表面形成高密度的自组装单分子膜的层积体制造装置。具体而言，层积体制造装置具备：真空腔，其容纳基板；气体导入口，其向真空腔内导入气体；以及等离子体产生部，其在真空腔内形成等离子体气氛，该层积体制造装置构成为具有下述模式：表面亲水化模式，在向真空腔内供给了赋予亲水性基团的蒸发源的状态下，利用由等离子体产生部形成的等离子体气氛对基板的膜形成面进行改性，使该膜形成面亲水化；以及自组装模式，在真空腔内为在真空中、供给有促进自组装单分子膜的前体材料的水解的蒸发源的状态下，对膜形成面被亲水化了的基板供给自组装单分子膜的前体材料的蒸发源，从而在亲水化的膜形成面上形成自组装单分子膜。组装单分子膜。组装单分子膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层积体制造装置和自组装单分子膜的形成方法


[0001]本专利技术涉及层积体制造装置和自组装单分子膜的形成方法。

技术介绍

[0002]在汽车部件、电子部件、其他各种领域中，要求提高与粘接层、涂布层的密合性及树脂表面的亲水性化、疏水性化、亲油化性、防污性等表面处理。因此，一直以来，通过进行等离子体处理，提高与粘接层、涂布层的密合性以及进行树脂表面的亲水性化、疏水性化。但是，特别是对于亲水性化存在下述课题：仅通过等离子体处理则存在经时变化，在较快的情况下，有在数小时后降低至较刚处理后为1/2左右的效果的材质。另外，最近，处理效果的保持、长期化的要求正在提高。
[0003]另一方面，目前，功能性涂层用薄膜被用于各种用途中。其中之一有自组装单分子膜(Self
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Assembled Monolayer：以下有时称为SAM膜)。作为SAM膜的一个方式，对基板表面附加羟基、羧基等极性基团(亲水性基团)，金属醇盐系材料、有机硅烷系材料、有机膦酸系材料自聚集而形成单层膜。对于金属醇盐系材料或有机硅烷系材料来说，水解反应后的产物利用与基板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种层积体制造装置，其为在基板的膜形成面形成自组装单分子膜的层积体制造装置，其特征在于，具备：真空腔，其容纳基板；气体导入口，其向所述真空腔内导入气体；以及等离子体产生部，其在所述真空腔内形成等离子体气氛，该层积体制造装置具有下述模式：表面亲水化模式，在向所述真空腔内供给了赋予亲水性基团的蒸发源的状态下，利用由所述等离子体产生部形成的等离子体气氛对所述基板的膜形成面进行改性，使该膜形成面亲水化；以及自组装模式，在所述真空腔内为在真空中、供给有促进所述自组装单分子膜的前体材料的水解的蒸发源的状态下，对所述膜形成面被亲水化了的基板供给所述自组装单分子膜的前体材料的蒸发源，在亲水化的所述膜形成面上形成所述自组装单分子膜。2.如权利要求1所述的层积体制造装置，其特征在于，所述表面亲水化模式和所述自组装模式在共同的所述真空腔内执行。3.如权利要求1或2所述的层积体制造装置，其特征在于，从所述表面亲水化模式向所述自组装模式的转移在所述真空腔未释放到大气的情况下进行。4.如权利要求1～3中任一项所述的层积体制造装置，其特征在于，对所述基板的表面赋予羟基的蒸发源、以及促进所述自组装单分子膜的前体材料的水解的蒸发源均为水蒸气。5.如权利要求4所述的层积体制造装置，其特征在于，所述自组装模式下的水蒸气是在所述表面亲水化模式下残留的水蒸气。6.如权利要求1～5中任一项所述的层积体制造装置，其特征在于，所述等离子体产生部中，兼作载置所述基板的工作台的下部电极和与所述下部电极相向配置的上部电极形成为等离子体产生电极。7.如权利要求4或5所述的层积体制造装置，其特征在于，所述自组装单分子膜的前体材料的蒸发源从共同的所述气体导入口供给。8.如权利要求6所述的层积体制造装置，其特征在于，在所述工作台的周围以具有间隙的方式设有接...

【专利技术属性】
技术研发人员：菅沼直登，寺田丰治，山原基裕，登尾一幸，田口贡士，
申请(专利权)人：东丽工程株式会社，
类型：发明
国别省市：