氮化镓基化合物半导体发光器件制造技术

技术编号:4144420 阅读:202 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术的一个目的是提供一种具有低驱动电压和高发光输出的氮化镓基化合物半导体发光器件,其具有正电极,所述正电极包括与p型半导体层形成直接接触的透明导电层。本发明专利技术的氮化镓基化合物半导体发光器件包括依次形成在衬底上的n型半导体层、发光层和p型半导体层,其中每一层包括氮化镓基化合物半导体,所述发光器件具有分别设置在所述n型半导体层上和所述p型半导体层上的负电极和正电极,所述正电极至少部分地由透明导电膜形成,所述透明导电膜至少部分地与所述p型半导体层接触,在所述透明导电膜的半导体侧表面上存在包含III族金属成分的半导体金属混合层,并且所述半导体金属混合层的厚度为0.1至10nm。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种氮化镓基化合物半导体发光器件。更具体地说,本专利技术涉及一种 面朝上(face-up)型氮化镓基化合物半导体发光器件,其配置有具有优良透光性和欧姆特 性的正电极。
技术介绍
近年来,GaN基化合物半导体材料作为用于短波长发光器件的半导体材料吸引了 人们的注意力。通过金属有机化学气相沉积方法(MOCVD方法)、分子束外延(MBE方法) 等,在各种氧化物衬底例如蓝宝石晶体或者III-V族化合物衬底上形成GaN基化合物半导 体。 GaN基化合物半导体材料的一个特性特征是,在横向方向上的电流扩散很小。这导 致许多位错存在于外延晶体中,并且从衬底透到表面上,但尚不知道其详细原因。此外,在P 型GaN基化合物半导体中,电阻率比n型GaN基化合物半导体的电阻率高,因此,除非使与 p型GaN基化合物半导体形成欧姆接触的材料作为正电极,否则驱动电压会大大地增加。 与p型GaN基化合物半导体形成欧姆接触的材料主要是金属,特别地,具有大的功 函数的金属易于建立欧姆接触。并且,从透光的观点,正电极优选对光透明。因此,迄今为 止,已将容易与P型GaN基化合物半导体形成欧姆接触的金属材料形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氮化镓基化合物半导体发光器件,具有包括氮化镓基化合物的p型半导体层和与该p型半导体层接触的透明导电膜,在该透明导电膜上存在相对于所有金属成分含有20原子%或更高的构成半导体的金属的区域。

【技术特征摘要】
JP 2005-11-16 331607/2005;US 2005-11-23 60/739,003一种氮化镓基化合物半导体发光器件,具有包括氮化镓基化合物的p型半导体层和与该p型半导体层接触的透明导电膜,在该透明导电膜上存在相对于所有金属成分含有20原子%或更高的构成半导体的金属的区域。2. 根据权利要求1的氮化镓基化合物半导体发光器件,其中构成半导体的金属相对于 所有金属成分的比例具有以下分布,越接近半导体/透明导电膜界面,构成半导体的金属 的比例越高。3. 根据权利要求2的氮化镓基化合物半导体发光器件,其中在距离半导体/透明导电 膜界面大于等于3nm的透明导电膜中,构成半导体的金属相对于所有金属成分的比例为15 原子%或更低。4. 根据权利要求l的氮化镓基化合物半导体发光器件,其中透明导电膜包括膜的密度 低的透明导电膜接触层和膜的密度高的透明导电膜电流扩散层,并且透明导电膜接触层与 P型半导体层接触。5. 根据权利要求4的氮化镓基化合物半导体发光器件,其中透明导电膜电流扩散层在 接近和远离p型半导体层的两侧采用不同的结构,并且在远离p型半导体层的一侧的透明 导电膜电流扩散层的结构是柱状结构。6. 根据权利要求5的氮化镓基化合物半导体发光器件,其中接近p型半导体层的一侧 的结构层的膜厚度为30至100nm。7. 根据权利要求1的氮化镓基化合物半导体发光器件,其中在P型半导...

【专利技术属性】
技术研发人员:龟井宏二
申请(专利权)人:昭和电工株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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