二环[3.1.0]己烷衍生物的制备方法及其中间体技术

技术编号:3774300 阅读:138 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及可用作mGluR激动剂的某些二环[3.1.0]己烷衍生物的新制备方法,以及在该方法中制备的新中间体。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及二环己烷衍生物的制备方法,该物质可以用作代 谢型谷氨酸受体调节剂。本专利技术还涉及该方法过程中制备的新型中间 体化合物,并涉及(+)-(1凡2&5&65>2-氨基-6-氟-4-氧二环己烷 -2,6-二羧酸的盐酸盐,及其多晶型物。
技术介绍
包括谷氨酸在内的兴奋性氨基酸调节着哺乳动物中枢神经系统的 多种生理过程,例如长时程增强效应(学习和记忆)、突触可塑性的发 展、运动控制、呼吸、心血管调节和感知觉。谷氨酸经由至少两种不同类型的受体发挥作用。 一类由起配体门 控离子通道作用的离子型谷氨酸(iGlu)受体组成。第二类是G蛋白 或第二信使结合的"代谢型"谷氨酸(mGhiR)受体。两类受体看起 来均沿着兴奋性路径来调节正常突触传递,并且还在发育过程和整个 生命中参与突触连接的修饰。Schoepp, Bockaert和Sladeczek, 7Ve"(is /" 尸/zar附aco/. Sc/" 11, 508 (1990); McDonald禾口 Johnson, 5naz." / ese<arc/z 肠'簡,15,41 (1990)。各种官能化二环己烷衍生物化合物已被认可为mGluR调节 剂。mGluR调节剂可以在治疗上用于治疗或预防以下疾病精神疾病、 精神分裂症、焦虑症及相关疾病、抑郁症、狂躁抑郁症(bipolar disorder) 和癫痫;和神经疾病,例如药物依赖、认知障碍、阿耳茨海默(氏)病、 亨廷顿氏舞蹈病、帕金森氏病、肌强直相关运动障碍、脑缺血、大脑 衰竭、脊髓病和头部外伤。例如,2001年12月25日授权的美国专利(2) Ci-io院基;(3) <:3.8环垸基;和(4) C3.8环烷基-d.5烷基;<428专利指出,该专利技术的化合物可以是外消旋形式的,或者可以是光学异构形式的。M28专利还公开了某种分子式如下的新型中间体其中W如上文所定义。2000年12月12日授权的美国专利第6,160,009号公开了一类分子 式如下的官能化二环己烷衍生物,其在治疗上可以用作mGluR 激动剂其中ie和ie可以共同表示o。1998年5月12日授权的美国专利第5,750,566号公开了分子式如 下的mGluR激动剂5o2h其被称为LY 354740上述公开的mGluR调节剂及中间体的制备已经公开于前述专利、 Nakazato等人,《/ Cfe附.,2000, 43, 4893-4909和WO 02/00595 (以 英文公开为EP 1 295 862)。但是,这些公开的合成具有使其不适于大 规模生产的缺点。例如,'428专利和Nakazato公开的合成要求制备外 消旋中间体,随后必须进行包括HPLC的复杂分离步骤,导致生产率 低下。通常,已知合成方法还需要使用昂贵和危险的试剂,例如必须 以化学计量存在的Pd(OAc)2和(PhSe)2,以及CH2N2。 Nakazato的合成 方法还需要在高温(145°C )下使用H2S04强烈水解5天作为合成的最 后步骤,导致产率低下,并且需要从乙内酰脲衍生物前体中艰难地分 离出最终产物。人们将会认识到,美国专利第6,333,428号、第6,160,009号和第 5,570,566号公开的mGluR调节剂可以用作治疗剂。因此,需要开发这 些化合物的制备方法,其很容易经得起扩大规模,并使用低成本、相 对安全的试剂,从而能够实际应用于大规模生产。申请人现在发现了一类对映异构纯官能化二环己烷衍生物 mGluR调节剂和对映异构纯中间体化合物的新的合成方法。
技术实现思路
本专利技术涉及分子式(I)的官能化二环己烷衍生物mGluR调 节剂及其药物可接受盐的新的合成方法其中Ri和I^独立地选自(1) 氢,(2) Ci"o綜基,(3) C3-8环烷基,和(4) -((2112)11-苯基,其中n为1或2,并且所述的垸基、环垸基和苯基是未取代的,或者被 一个或多个卤素、羟基、C"烷基或C,-6烷氧基取代;X选自(1) 卣素,和(2) 氢;并且Q为-CH2-或-C(K))-。本专利技术进一步涉及分子式(II)的化合物及其盐的新的方法:其中R"选自(1) -OH,(2) -0-Ra,和 。)-NRbRc,其中Ra选自(a) Cwo烷基,和(b) C3-8环烷基,并且Ra是未取代的,或者被一个或多个下列基团取代(i) Cwo烷氧基,(ii) 羟基,(iii) 卣素,(iv) SRd,(v) 芳基,其为未取代的,或者被一个或多个羟基、Clk 烷氧基、Cwo烷基或卤素取代,(vi) 杂芳基,其为未取代的,或者被一个或多个羟基、d.u)烷氧基、d.h)烷基或卤素取代,和(vii) NReRf; Rb、 Re、 Re和Rf选自(a) 氢(b) d-k)烷基,和(c) C3-8环烷基,并且当Rb、 Re、 Re和Rf为Cwo烷基或C3-8环烷基时,所 述的Cwo烷基和C3.8环垸基是未取代的,或者被一个或 多个下列基团取代(i) 羟基,(ii) Cwo烷氧基,(iii) SRd,(iv) 芳基,其为未取代的,或者被一个或多个羟基、 Cw。烷氧基、d.u)垸基或卤素取代,(V)杂芳基,其为未取代的,或者被一个或多个羟基、 Cwo烷氧基、d.K)垸基或卤素取代,和(vi) NRgRh;其中Rg和Rh为氢、Cwo垸基或C3.8环垸基;或者Rb和Re与其所连接的N原子一起形成以下基团其中r为l或2,并且NRbRe基团可以是未取代的,或者在环碳原子上被一个或多个下列基团取代(i) 羟基,(ii) Cwo烷氧基,(iii) SRd,(iv) 芳基,其为未取代的,或者被一个或多个羟基、 Cwo垸氧基、d.H)烷基或卤素取代,(V)杂芳基,其为未取代的,或者被一个或多个羟基、Cwo烷氧基、Cwo垸基或卤素取代,和 (vi) NRgRh,Rd为氢或CLH)烷基;x选自(1) 卤素,和(2) 氢;并且R4选自(1) 氢,(2) Cwo烷基,(3) Si-(R9)(R!o)(R11),(4) C(=0)-R12,(5) CH2-苯基,其中所述的苯基是未取代的,或者被一个或多个选自硝基、卤素、Cw。烷基和d-H)烷氧基的取代基取代,(6) (CH2)p-0-(CH2)q-X,-R14,(7) 四氢吡喃基,其中R9、 RW和R"各自为d.u)垸基或苯基,R"选自本专利技术还涉及分子式(XII)的化合物:<formula>formula see original document page 29</formula>或其对映异构体(xir)以及它们的盐的新的制备方法:<formula>formula see original document page 29</formula>其中RS和X如上文所定义。分子式(11)、 (XII)和(Xir)的化合物是分子式(I)的mGluR调节剂的合成中制备的中间体。使用化合物(xn)和(xir)形成分子式(I)的mGluR调节剂的方法公开于前述的'566、 M28和<009 专利以及Nakazato等人,《/C7^m., 2000, 43, 4893-4909。本专利技术还p为1或2;q为选自1-10的整数本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种分子式(Ⅱ)的化合物的制备方法: *** (Ⅱ) 其中R↑[3]选自 (1)-OH, (2)-O-R↑[a],和 (3)-NR↑[b]R↑[c], 其中R↑[a]选自 (a)C↓[1-10]烷 基,和 (b)C↓[3-8]环烷基, 并且R↑[a]是未取代的,或者被一个或多个下列基团取代 (i)C↓[1-10]烷氧基, (ii)羟基, (iii)卤素, (iv)SR↑[d], (v)芳基,其 为未取代的,或者被一个或多个羟基、C↓[1-10]烷氧基、C↓[1-10]烷基或卤素取代, (vi)杂芳基,其为未取代的,或者被一个或多个羟基、C↓[1-10]烷氧基、C↓[1-10]烷基或卤素取代,和 (vii)NR↑[e]R ↑[f]; R↑[b]、R↑[c]、R↑[e]和R↑[f]选自 (a)卤素 (b)C↓[1-10]烷基,和 (c)C↓[3-8]环烷基, 并且当R↑[b]、R↑[c]、R↑[e]和R↑[f]为C↓[1-10]烷 基或C↓[3-8]环烷基时,所述的C↓[1-10]烷基和C↓[3-8]环烷基是未取代的,或者被一个或多个下列基团取代 (i)羟基, (ii)C↓[1-10]烷氧基, (iii)SR↑[d], (iv)芳基,其为未取代 的,或者被一个或多个羟基、C↓[1-10]烷氧基、C↓[1-10]烷基或卤素取代, (v)杂芳基,其为未取代的,或者被一个或多个羟基、C↓[1-10]烷氧基、C↓[1-10]烷基或卤素取代,和 (vi)NR↑[g]R↑[h];   其中R↑[g]和R↑[h]为氢、C↓[1-10]烷基或C↓[3-8]环烷基; 或者R↑[b]和R↑[c]与其所连接的N原子一起形成以下基团 *** 其中r为1或2,并且NR↑[b]R↑[c]基团可以是未取代的,或者在环 碳原子上被一个或多个下列基团取代 (i)羟基, (ii)C↓[1-10]烷氧基, (iii)SR↑[d], (iv)芳基,其为未取代的,或者被一个或多个羟基、C↓[1-10]烷氧基、C↓[1-10]烷基或卤素取代,   (v)杂芳基,其为未取代的,或者被一个或多个羟基、C↓[1-10]烷氧基、C↓[1-10]烷基或卤素取代,和 (vi)NR↑...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:FW哈特纳L塔恩安田修祥吉川直树
申请(专利权)人:大正制药株式会社
类型:发明
国别省市:JP[]

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