反式取代环己烷羧酸类、以及反式/反式二环己烷二羧酸类的制造方法技术

本发明专利技术提供反式取代环己烷羧酸类、以及反式／反式二环己烷二羧酸类的制造方法。本发明专利技术的目的是提供一种反式体的比例高的取代环己烷羧酸类的新型制造方法，其中，在强酸的存在下，将反式体的比例为ａ％（其中０≤ａ）的取代环己烷羧酸的羧基转变为卤代羰基，从而得到反式体的比例为ｂ％（其中ａ＜ｂ）的取代环己烷羧酸酰卤，进而将得到的取代环己烷羧酸酰卤的卤代羰基水解，从而得到反式体的比例为ｃ％（其中ａ＜ｃ）的取代环己烷羧酸；以及使得到的取代环己烷羧酸酰卤与含有羟基的化合物或含有氨基的化合物或含氮杂环化合物反应，从而得到反式体的比例为ｄ％（其中ａ＜ｄ）的取代环己烷羧酸酯或取代环己烷羧酸酰胺。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及制造反式体的比例高的取代环己烷羧酸类、以及反式/反式体 的比例高的二环己烷二羧酸类的方法。
技术介绍
环己烷羧酸的反式体、以及二环己烷二羧酸的反式/反式体作为液晶材 料、医药品、高分子材料等各种领域的中间体是有用的。获得环己烷羧酸的 反式体的方法、以及将二环己烷二羧酸的顺式/顺式体、顺式/反式体异构化成反式/反式体的方法已经提出有各种方法(例如，专利文献1 6及非专利 文献l)。但是，以往提出的任何方法都是在严格的反应条件下进行反应，因 此希望有在更加温和的条件下获得环己烷羧酸类的反式取代体、以及二环己 烷二羧酸类的反式/反式取代体的方法。专利文献l:日本特开平10-237015号公报专利文献2:日本特开2000-191602号公报专利文献3:日本特开2003-96026号公报专利文献4:日本特开2003-128620号公报专利文献5:日本特开2004-307468号公报专利文献6:日本特公昭39-27244号公报非专利文献1: Tetrahedron Letters 2004,45,6669-7
技术实现思路
本专利技术的课题是提供能够制造反式体的比例高的环己烷羧酸类、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造取代环己烷羧酸酰卤的方法，其中，在强酸的存在下，将反式体的比例为ａ％的取代环己烷羧酸的羧基转变为卤代羰基，从而制造反式体的比例为ｂ％的取代环己烷羧酸酰卤，其中０≤ａ，ａ＜ｂ。

【技术特征摘要】
JP 2007-12-20 328238/2007;JP 2008-3-25 077816/20081、一种制造取代环己烷羧酸酰卤的方法，其中，在强酸的存在下，将反式体的比例为a％的取代环己烷羧酸的羧基转变为卤代羰基，从而制造反式体的比例为b％的取代环己烷羧酸酰卤，其中0≤a，a<b。2、 一种取代环己烷羧酸的制造方法，其特征在于，该制造方法包含以下 工序第1工序，在该工序中，在强酸的存在下，将反式体的比例为3%的取 代环己烷羧酸的羧基转变为卤代羰基，其中0《a，禾口，第2工序，在该工序中，将第l工序中得到的取代环己垸羧酸酰卤的卤 代羰基水解，从而得到反式体的比例为c。/。的取代环己烷羧酸，其中a。3、 一种取代环己烷羧酸酯或取代环己烷羧酸酰胺的制造方法，其特征在 于，该制造方法包含以下工序第1工序，在该工序中，在强酸的存在下，将反式体的比例为a。/。的取 代环己烷羧酸的羧基转变为卤代羰基，从而得到取代环己垸羧酸酰卤，其中 0《a，和，第2工序，在该工序中，使第1工序中得到的取代环己烷羧酸酰卤与含 有羟基的化合物或含有氨基的化合物或含氮杂环化合物反应，从而得到反式 体的比例为d。/。的取代环己烷羧酸酯或取代环己烷酰胺，其中a<d。4、 一种制造二环己垸二羧酸酰卤的方法，其中，在强酸的存在下，将二 环己垸环上的1位和4位、以及l'位和...

【专利技术属性】
技术研发人员：浜崎亮，田中悟史，野吕正树，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]