【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种，其包括使降冰片二烯和甲酸酯在钌化合物、钴化合物、卤化物盐和碱性化合物的存在下反应的工序。【专利说明】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
以往，用于光电子仪器等中的光学部件用树脂中，芳香族环氧树脂由于向电子基板等的实际安装工艺、高温操作下的优异的耐热性、机械特性、及其通用性而被广泛使用。 但是，近年来，在光电子仪器领域，高强度的激光、蓝色光、近紫外光的利用变得广泛，比以往更加要求透明性、耐热性和耐光性优异的树脂。通常，芳香族环氧树脂在可见光下的透明性高，但在紫外到近紫外区域则不能得到充分的透明性。另外，由脂环族环氧树脂和酸酐构成的固化物在近紫外区域的透明性较高，但是存在由于热、光而容易着色等问题，因此要求耐热性、耐紫外线着色性的提高。在这样的状况下，研究了各种环氧树脂。另一方面，聚酰胺、聚酯等耐热性树脂由于除了耐热性以外绝缘性、耐光性、机械特性也优异，因此在电子领域作为半导体元件的表面保护膜、层间绝缘膜等被广泛使用。其中，具有脂环族结构的聚合物在紫外区域的透明性优异，因此开始被研究作为光电子仪器、 各种显示器等的材料。作为它们的原料单体，盛行使用具有降冰片烷骨架的二羧酸或其衍生物。 然而，作为具有降冰片烷骨架的二羧酸衍生物的降冰片烷二羧酸二甲酯通常可通过使环戊二烯和丙烯酸酯发生狄尔斯?亚德反应而成为降冰片烯单羧酸酯后，在其不饱和键部分加成羧酸酯从而得到。该狄尔斯?亚德反应中，能够得到内型体含有率多的外型/ 内型混合物。然而，已知在内型位具有极性官能团的降冰片烷衍生物使催化剂的聚合活性降低(例如参照专利文献1)，期望外型...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：川上广幸，富永健一，岛田茂，佐藤一彦，
申请(专利权)人：日立化成株式会社，独立行政法人产业技术综合研究所，
类型：
国别省市：
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